| 講演名 | 2018-01-26 ナノインプリントリソグラフィを用いたV溝構造を有する液晶素子の基礎検討 春名 皓太(富山大), 岡田 裕之(富山大), |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | フレキシブル液晶パネルへ適用可能なノンラビング配向法として、ナノインプリントリソグラフィ(NIL)を用い超微細V溝構造を転写した配向層を持つ液晶素子を試作した。Si異方性エッチングを用いた原子オーダーに平坦な面を持つ200 nmのライン&スペースのモールドを作製し、PMMA層へ転写することで超微細溝を得た。試作した液晶セルの方位角アンカリングエネルギーは3.9×10^-3 J/m^2、TNセルのコントラスト比は44:1であった。 |
| 抄録(英) | For non-rubbing alignment method applicable to flexible liquid crystals (LCs), LC cells with a V-groove alignment layer by nano-imprint lithography (NIL) have investigated. The ultra-fine groove structure was fabricated from 200 nm line & space mold by atomically smooth surface using anisotropic etching of Si and transfer to poly(methyl methacrylate) . Obtained azimuthal anchoring energy of 3.9×10^-3 J/m^2 and contrast ratios of twisted nematic cell was 44:1. |
| キーワード(和) | ナノインプリントリソグラフィ / 液晶配向 / 異方性エッチング |
| キーワード(英) | nano imprint lithography / liquid crystal alignment / anisotropic etching |
| 資料番号 | EID2017-41 |
| 発行日 | 2018-01-18 (EID) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EID / ITE-IDY / IEIJ-SSL / SID-JC / IEE-EDD |
|---|---|
| 開催期間 | 2018/1/25(から2日開催) |
| 開催地（和） | 静岡大学 浜松キャンパス |
| 開催地（英） | Shizuoka Univ., Hamamatsu |
| テーマ（和） | 発光型／非発光型ディスプレイ合同研究会 |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | 小南 裕子(静岡大) / 藤崎 好英(NHK) |
| 委員長氏名（英） | Yuko Kominami(Shizuoka Univ.) / Yoshihide Fujisaki(NHK) |
| 副委員長氏名（和） | 木村 睦(龍谷大) / 山口 留美子(秋田大) / 木村 宗弘(Nagaoka Univ. of Tech.) |
| 副委員長氏名（英） | Mutsumi Kimura(Ryukoku Univ.) / Rumiko Yamaguchi(Akita Univ.) / Munehiro Kimura(Nagaoka Univ. of Tech.) |
| 幹事氏名（和） | 伊達 宗和(NTT) / 山口 雅浩(東工大) / 中村 篤志(静岡大) / 石鍋 隆宏(東北大) |
| 幹事氏名（英） | Munekazu Date(NTT) / Masahiro Yamaguchi(Tokyo Inst. of Tech.) / Atsushi Nakamura(Shizuoka Univ.) / Takahiro Ishinabe(Tohoku Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 新田 博幸(ジャパンディスプレイ) / 中田 充(NHK) / 野中 亮助(東芝) / 奥野 武志(ファーウェイ) / 志賀 智一(電通大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Hiroyuki Nitta(Japan Display) / Mitsuru Nakata(NHK) / Ryosuke Nonaka(Toshiba) / Takeshi Okuno(Huawei) / Tomokazu Shiga(Univ. of Electro-Comm.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Electronic Information Displays / Technical Group on Information Display / Division of Solid State Light Sources / Society for Information Display Japan Chapter / Technical Meeting on Electron Devices |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ナノインプリントリソグラフィを用いたV溝構造を有する液晶素子の基礎検討 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Liquid Crystal Devices Having the V-Groove Structure by Nano-Imprint Lithography |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ナノインプリントリソグラフィ / nano imprint lithography |
| キーワード(2)（和/英） | 液晶配向 / liquid crystal alignment |
| キーワード(3)（和/英） | 異方性エッチング / anisotropic etching |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 春名 皓太 / Kota Haruna |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 富山大学(略称：富山大) University of Toyama(略称：Univ. of Toyama) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 岡田 裕之 / Hiroyuki Okada |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 富山大学(略称：富山大) University of Toyama(略称：Univ. of Toyama) |
| 発表年月日 | 2018-01-26 |
| 資料番号 | EID2017-41 |
| 巻番号（vol） | vol.117 |
| 号番号（no） | EID-411 |
| ページ範囲 | pp.65-68(EID), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2018-01-18 (EID) |