| 講演名 | 2017-12-22 ミストCVD法を用いたGaSnO薄膜の特性評価 岡本 龍吾(龍谷大), 福嶋 大貴(龍谷大), 松田 時宜(龍谷大), 木村 睦(龍谷大), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | EID2017-23,SDM2017-84 |
| 発行日 | 2017-12-15 (EID, SDM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM / EID |
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| 開催期間 | 2017/12/22(から1日開催) |
| 開催地（和） | 京都大学 |
| 開催地（英） | Kyoto University |
| テーマ（和） | Si、Siを含む材料の作製、プロセス技術、デバイス、およびディスプレイ関連技術 |
| テーマ（英） | Si, Si-related materials, device process, electron devices, and display technology |
| 委員長氏名（和） | 国清 辰也(ルネサス エレクトロニクス) / 小南 裕子(静岡大) |
| 委員長氏名（英） | Tatsuya Kunikiyo(Renesas) / Yuko Kominami(Shizuoka Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 品田 高宏(東北大) / 木村 睦(龍谷大) |
| 副委員長氏名（英） | Takahiro Shinada(Tohoku Univ.) / Mutsumi Kimura(Ryukoku Univ.) |
| 幹事氏名（和） | 黒田 理人(東北大) / 山口 直(ルネサス エレクトロニクス) / 伊達 宗和(NTT) / 山口 雅浩(東工大) |
| 幹事氏名（英） | Rihito Kuroda(Tohoku Univ.) / Tadashi Yamaguchi(Renesas) / Munekazu Date(NTT) / Masahiro Yamaguchi(Tokyo Inst. of Tech.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 池田 浩也(静岡大) / 諸岡 哲(東芝メモリ) / 山口 留美子(秋田大) / 新田 博幸(ジャパンディスプレイ) / 中田 充(NHK) / 野中 亮助(東芝) / 奥野 武志(ファーウェイ) / 志賀 智一(電通大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.) / Tetsu Morooka(TOSHIBA MEMORY) / Rumiko Yamaguchi(Akita Univ.) / Hiroyuki Nitta(Japan Display) / Mitsuru Nakata(NHK) / Ryosuke Nonaka(Toshiba) / Takeshi Okuno(Huawei) / Tomokazu Shiga(Univ. of Electro-Comm.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials / Technical Committee on Electronic Information Displays |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ミストCVD法を用いたGaSnO薄膜の特性評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Characteristic Evaluation of GaSnO Thin Films deposited using Mist Chemical Vapor Deposition |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 岡本 龍吾 / Ryugo Okamoto |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 龍谷大学(略称：龍谷大) Ryukoku University(略称：Ryukoku Univ) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 福嶋 大貴 / Hiroki Fukushima |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 龍谷大学(略称：龍谷大) Ryukoku University(略称：Ryukoku Univ) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 松田 時宜 / Tokiyoshi Matsuda |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 龍谷大学(略称：龍谷大) Ryukoku University(略称：Ryukoku Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 木村 睦 / Mutsumi Kimura |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 龍谷大学(略称：龍谷大) Ryukoku University(略称：Ryukoku Univ) |
| 発表年月日 | 2017-12-22 |
| 資料番号 | EID2017-23,SDM2017-84 |
| 巻番号（vol） | vol.117 |
| 号番号（no） | EID-372,SDM-373 |
| ページ範囲 | pp.63-66(EID), pp.63-66(SDM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2017-12-15 (EID, SDM) |