| 講演名 | 2017-12-01 フォトニック結晶深紫外LEDの実現 鹿嶋 行雄(丸文), 前田 哲利(理研), 松浦 恵里子(丸文), 定 昌史(理研), 岩井 武(東京応化), 森田 敏郎(東京応化), 小久保 光典(東芝機械), 田代 貴晴(東芝機械), 上村 隆一郎(アルバック), 長田 大和(アルバック), 倉島 優一(産総研), 高木 秀樹(産総研), 平山 秀樹(理研), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | ED2017-60,CPM2017-103,LQE2017-73 |
| 発行日 | 2017-11-23 (ED, CPM, LQE) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE / CPM / ED |
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| 開催期間 | 2017/11/30(から2日開催) |
| 開催地（和） | 名古屋工業大学 |
| 開催地（英） | Nagoya Inst. tech. |
| テーマ（和） | 窒化物半導体光・電子デバイス、材料、関連技術、及び一般 |
| テーマ（英） | Nitride Semiconductor Devices, Materials, Related Technologies |
| 委員長氏名（和） | 山本 剛之(富士通研) / 廣瀬 文彦(山形大) / 津田 邦男(東芝) |
| 委員長氏名（英） | Tsuyoshi Yamamoto(Fujitsu Labs.) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) / Kunio Tsuda(Toshiba) |
| 副委員長氏名（和） | 浜本 貴一(九大) / 武山 真弓(北見工大) / 須原 理彦(首都大) |
| 副委員長氏名（英） | Kiichi Hamamoto(Kyusyu Univ.) / Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech.) / Michihiko Suhara(TMU) |
| 幹事氏名（和） | 片桐 崇史(東北大) / 八木 英樹(住友電工) / 岩田 展幸(日大) / 中村 雄一(豊橋技科大) / 新井 学(新日本無線) / 東脇 正高(NICT) |
| 幹事氏名（英） | Takashi Katagiri(Tohoku Univ.) / Hideki Yagi(SEI) / Nobuyuki Iwata(Nihon Univ.) / Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) / Manabu Arai(New JRC) / Masataka Higashiwaki(NICT) |
| 幹事補佐氏名（和） | 川北 泰雅(古河電工) / 藤原 直樹(NTT) / 赤毛 勇一(NTTデバイスイノベーションセンタ) / 大石 敏之(佐賀大) / 岩田 達哉(豊橋技科大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Yasumasa Kawakita(Furukawa Electric Industries) / Naoki Fujiwara(NTT) / Yuichi Akage(NTT) / Toshiyuki Oishi(Saga Univ.) / Tatsuya Iwata(TUT) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Lasers and Quantum Electronics / Technical Committee on Component Parts and Materials / Technical Committee on Electron Devices |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | フォトニック結晶深紫外LEDの実現 |
| サブタイトル（和） | p型コンタクト層における高反射型フォトニック結晶によるAlGaN深紫外LEDの外部量子効率10%動作 |
| タイトル（英） | Achievement of AlGaN deep-UV LED using photonic crystal(PhC) |
| サブタイトル（和） | Achievement of high-EQE(10%) AlGaN deep-UV LED using highly-reflective PhC on p-contact layer |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 鹿嶋 行雄 / Yukio Kashima |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 丸文株式会社(略称：丸文) Marubun Corporation(略称：Marubun) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 前田 哲利 / Noritoshi Maeda |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 理化学研究所(略称：理研) THE INSTITUTE OF PHYSICAL AND CHEMICAL RESEARCH(略称：RIKEN) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 松浦 恵里子 / Eriko Matsuura |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 丸文株式会社(略称：丸文) Marubun Corporation(略称：Marubun) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 定 昌史 / Masafumi Jo |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 理化学研究所(略称：理研) THE INSTITUTE OF PHYSICAL AND CHEMICAL RESEARCH(略称：RIKEN) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 岩井 武 / Takeshi Iwai |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 東京応化工業株式会社(略称：東京応化) TOKYO OHKA KOGYO ., LTD(略称：TOK) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 森田 敏郎 / Toshiro Morita |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 東京応化工業株式会社(略称：東京応化) TOKYO OHKA KOGYO ., LTD(略称：TOK) |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 小久保 光典 / Mitsunori Kokubo |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 東芝機械株式会社(略称：東芝機械) TOSHIBA MACHINE CO ., LTD(略称：TOSHIBA MACHINE) |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 田代 貴晴 / Takaharu Tashiro |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 東芝機械株式会社(略称：東芝機械) TOSHIBA MACHINE CO ., LTD(略称：TOSHIBA MACHINE) |
| 第 9 著者 氏名（和/英） | 上村 隆一郎 / Ryuichiro Kamimura |
| 第 9 著者 所属（和/英） | 株式会社 アルバック(略称：アルバック) ULVAC,Inc.(略称：ULVAC) |
| 第 10 著者 氏名（和/英） | 長田 大和 / Yamato Osada |
| 第 10 著者 所属（和/英） | 株式会社 アルバック(略称：アルバック) ULVAC,Inc.(略称：ULVAC) |
| 第 11 著者 氏名（和/英） | 倉島 優一 / Yuichi Kurashima |
| 第 11 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所(略称：産総研) ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY(略称：AIST) |
| 第 12 著者 氏名（和/英） | 高木 秀樹 / Hideki Takagi |
| 第 12 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所(略称：産総研) ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY(略称：AIST) |
| 第 13 著者 氏名（和/英） | 平山 秀樹 / Hideki Hirayama |
| 第 13 著者 所属（和/英） | 理化学研究所(略称：理研) THE INSTITUTE OF PHYSICAL AND CHEMICAL RESEARCH(略称：RIKEN) |
| 発表年月日 | 2017-12-01 |
| 資料番号 | ED2017-60,CPM2017-103,LQE2017-73 |
| 巻番号（vol） | vol.117 |
| 号番号（no） | ED-331,CPM-332,LQE-333 |
| ページ範囲 | pp.55-60(ED), pp.55-60(CPM), pp.55-60(LQE), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2017-11-23 (ED, CPM, LQE) |