講演名 | 2017-06-20 高濃度SOI基板と転写法によるTMDC FETsの作製 川那子 高暢(東工大), 居駒 遼(東工大), 高木 寛之(東工大), 小田 俊理(東工大), |
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資料番号 | SDM2017-28 |
発行日 | 2017-06-13 (SDM) |
研究会情報 | |
研究会 | SDM |
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開催期間 | 2017/6/20(から1日開催) |
開催地(和) | キャンパス・イノベーションセンター東京 508(AB) |
開催地(英) | Campus Innovation Center Tokyo |
テーマ(和) | MOSデバイス・メモリ高性能化-材料・プロセス技術 (応用物理学会、シリコンテクノロジー分科会との合同開催) |
テーマ(英) | Material Science and Process Technology for MOS Devices and Memories |
委員長氏名(和) | 国清 辰也(ルネサス エレクトロニクス) |
委員長氏名(英) | Tatsuya Kunikiyo(Renesas) |
副委員長氏名(和) | 品田 高宏(東北大) |
副委員長氏名(英) | Takahiro Shinada(Tohoku Univ.) |
幹事氏名(和) | 黒田 理人(東北大) / 山口 直(ルネサス エレクトロニクス) |
幹事氏名(英) | Rihito Kuroda(Tohoku Univ.) / Tadashi Yamaguchi(Renesas) |
幹事補佐氏名(和) | 池田 浩也(静岡大) |
幹事補佐氏名(英) | Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 高濃度SOI基板と転写法によるTMDC FETsの作製 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Heavily-doped SOI Substrate and Transfer Printing for Fabrication of TMDC FETs |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | |
第 1 著者 氏名(和/英) | 川那子 高暢 / Takamasa Kawanago |
第 1 著者 所属(和/英) | 東京工業大学(略称:東工大) Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Inst. of Tech.) |
第 2 著者 氏名(和/英) | 居駒 遼 / Ryo Ikoma |
第 2 著者 所属(和/英) | 東京工業大学(略称:東工大) Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Inst. of Tech.) |
第 3 著者 氏名(和/英) | 高木 寛之 / Hiroyuki Takagi |
第 3 著者 所属(和/英) | 東京工業大学(略称:東工大) Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Inst. of Tech.) |
第 4 著者 氏名(和/英) | 小田 俊理 / Shunri Oda |
第 4 著者 所属(和/英) | 東京工業大学(略称:東工大) Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Inst. of Tech.) |
発表年月日 | 2017-06-20 |
資料番号 | SDM2017-28 |
巻番号(vol) | vol.117 |
号番号(no) | SDM-101 |
ページ範囲 | pp.35-38(SDM), |
ページ数 | 4 |
発行日 | 2017-06-13 (SDM) |