| 講演名 | 2017-04-20 ［招待講演］ナノドット型恒久メモリーの研究 渡邊 強(神戸大), 三浦 典之(神戸大), 劉 施佳(神戸大), 今井 繁規(神戸大), 永田 真(神戸大), |
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| 抄録(和) | ワード線、ビット線の交差部分に配したナノドットの静電容量をデータとして読み取る恒久メモリーを考案し、0.18m CMOSプロセスで作製したテストチップを用いて、読み取り特性の1000年以上の耐久性を検証した。更に、EBL、NILを用いてナノドット、読み取り配線を微細化することにより、1.3Tbit/in2の高密度化が可能であることを明らかにした。 |
| 抄録(英) | We propose a permanent digital memory system in which data is saved by a presence of metal nano-dot at interconnects of word line and bit line. The data is retrieved by mutual capacitance difference due to the nano-dot presence. A test chip is prepared by 0.18μm CMOS process. Its read-out properties have over 1000-years durability which is verified by aging acceleration test. It is shown that an areal density of memory can be increased up to 1.3Tbit/in2 by miniaturization of nano-dots and word/bit lines using EB lithography and nanoimprint lithography. |
| キーワード(和) | 恒久メモリー / ナノドット / EBリソグラフィー / ナノインプリントリソグラフィー |
| キーワード(英) | Permanent memory / nano-dot / EB lithography / Nanoimprint lithography |
| 資料番号 | ICD2017-4 |
| 発行日 | 2017-04-13 (ICD) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ICD |
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| 開催期間 | 2017/4/20(から2日開催) |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | メモリ技術と集積回路関連一般 |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | 藤島 実(広島大) |
| 委員長氏名（英） | Minoru Fujishima(Hiroshima Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 日高 秀人(ルネサス エレクトロニクス) |
| 副委員長氏名（英） | Hideto Hidaka(Renesas) |
| 幹事氏名（和） | 吉田 毅(広島大) / 高宮 真(東大) |
| 幹事氏名（英） | Takeshi Yoshida(Hiroshima Univ.) / Makoto Takamiya(Univ. of Tokyo) |
| 幹事補佐氏名（和） | 橋本 隆(パナソニック) / 夏井 雅典(東北大) / 伊藤 浩之(東工大) / 範 公可(電通大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Takashi Hashimoto(Panasonic) / Masanori Natsui(Tohoku Univ.) / Hiroyuki Ito(Tokyo Inst. of Tech.) / Pham Konkuha(Univ. of Electro-Comm.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Integrated Circuits and Devices |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ［招待講演］ナノドット型恒久メモリーの研究 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | [Invited Talk] Study on Nano-Dot Structure Permanent Memory |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 恒久メモリー / Permanent memory |
| キーワード(2)（和/英） | ナノドット / nano-dot |
| キーワード(3)（和/英） | EBリソグラフィー / EB lithography |
| キーワード(4)（和/英） | ナノインプリントリソグラフィー / Nanoimprint lithography |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 渡邊 強 / Tsuyoshi Watanabe |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 神戸大学(略称：神戸大) Kobe University(略称：Kobe Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 三浦 典之 / Noriyuki Miura |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 神戸大学(略称：神戸大) Kobe University(略称：Kobe Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 劉 施佳 / Shijia Liu |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 神戸大学(略称：神戸大) Kobe University(略称：Kobe Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 今井 繁規 / Shigeki Imai |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 神戸大学(略称：神戸大) Kobe University(略称：Kobe Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 永田 真 / Makoto Nagata |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 神戸大学(略称：神戸大) Kobe University(略称：Kobe Univ.) |
| 発表年月日 | 2017-04-20 |
| 資料番号 | ICD2017-4 |
| 巻番号（vol） | vol.117 |
| 号番号（no） | ICD-9 |
| ページ範囲 | pp.17-22(ICD), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2017-04-13 (ICD) |