| 講演名 | 2017-03-02 LELEダブルパターニングにおけるFMアルゴリズムを用いた効率的なパターン局所修正手法 尾頭 篤(東工大), 佐藤 真平(東工大), 高橋 篤司(東工大), |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | 現在の半導体設計では，高品質で短時間の設計が求められている．近年の最先端のリソグラフィ技術では，デザインルールに従うパターンにおいても歩留まり低下の要因となるホットスポットが存在することがある．そのため，ホットスポットのないパターンを短時間で得て設計を収束させることが求められる．しかし，ホットスポットの有無を確認するためのリソグラフィシミュレーションにかかる時間は長く，ホットスポット解消のためのパターン修正により新たなホットスポットが生じる場合がある．そこで本研究では，修正による新たなホットスポットの発生を抑えつつ修正後に必要なシミュレーション時間が短いパターン修正を得る手法を提案する．手法により求めたパターン修正を用いることで，設計を短時間で収束させ，効率的な半導体設計を達成することが期待される． |
| 抄録(英) | In current semiconductor design, high quality and short time design is required. In an advanced lithography technology in recent years, even in a pattern that satisfies design rule may contain spot that degrades the yield which is called hot spot. Therefore, it is required to obtain a pattern without a hot spot in a short time and toconverge the design. However, the time required for lithography simulation for checking the existence of hot spotsis long, and a new hot spot may be generated by pattern modification for eliminating hot spots. Therefore, in this research, we propose a method to obtain a pattern modification with short simulation time required after modification, while suppressing the occurrence of new hot spots by modification. By using a pattern modification obtained by the method, it is expected that the design can be converged in a short time and an efficient semiconductor design can be achieved. |
| キーワード(和) | パターン修正 / ホットスポット / ダブルパターニング |
| キーワード(英) | pattern modification / hot spot / double patterning |
| 資料番号 | VLD2016-113 |
| 発行日 | 2017-02-22 (VLD) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD |
|---|---|
| 開催期間 | 2017/3/1(から3日開催) |
| 開催地（和） | 沖縄県青年会館 |
| 開催地（英） | Okinawa Seinen Kaikan |
| テーマ（和） | システムオンシリコンを支える設計技術 |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | 竹中 崇(NEC) |
| 委員長氏名（英） | Takashi Takenana(NEC) |
| 副委員長氏名（和） | 越智 裕之(立命館大) |
| 副委員長氏名（英） | Hiroyuki Ochi(Ritsumeikan Univ.) |
| 幹事氏名（和） | 福田 大輔(富士通研) / 永山 忍(広島市大) |
| 幹事氏名（英） | Daisuke Fukuda(Fujitsu Labs.) / Shinobu Nagayama(Hiroshima City Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | Parizy Matthieu(富士通研) |
| 幹事補佐氏名（英） | Parizy Matthieu(Fujitsu Labs.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on VLSI Design Technologies |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | LELEダブルパターニングにおけるFMアルゴリズムを用いた効率的なパターン局所修正手法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Efficient Local Pattern Modification Method using FM Algorithm in LELE Double Patterning |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | パターン修正 / pattern modification |
| キーワード(2)（和/英） | ホットスポット / hot spot |
| キーワード(3)（和/英） | ダブルパターニング / double patterning |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 尾頭 篤 / Atsushi Ogashira |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo TECH) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 佐藤 真平 / Shimpei Sato |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo TECH) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 高橋 篤司 / Atsushi Takahashi |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo TECH) |
| 発表年月日 | 2017-03-02 |
| 資料番号 | VLD2016-113 |
| 巻番号（vol） | vol.116 |
| 号番号（no） | VLD-478 |
| ページ範囲 | pp.67-72(VLD), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2017-02-22 (VLD) |