| 講演名 | 2017-01-30 [Invited Talk] General relationship for cation and anion doping effects on ferroelectric HfO2 formation 徐 倫(東大), 柴山 茂久(東大), 厳樫 一孝(東大), 西村 知紀(東大), 矢嶋 赳彬(東大), 右田 真司(産総研), 鳥海 明(東大), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | This work discusses the general relationship for cation and anion doping effects on the HfO2 para-/ferroelectric transition, which will provide us a helpful instruction for precise HfO2 ferroelectricity design. In addition, ferroelectric N-doped HfO2 has been demonstrated as a gate dielectric film on an oxide semiconductor for ferroelectric field-effect transistors (FeFETs). |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | ferroelectric HfO2dopantsN dopingFeFETs |
| 資料番号 | SDM2016-137 |
| 発行日 | 2017-01-23 (SDM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2017/1/30(から1日開催) |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 先端ＣＭＯＳデバイス・ プロセス技術（ＩＥＤＭ特集） |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | 国清 辰也(ルネサス エレクトロニクス) |
| 委員長氏名（英） | Tatsuya Kunikiyo(Renesas) |
| 副委員長氏名（和） | 品田 高宏(東北大) |
| 副委員長氏名（英） | Takahiro Shinada(Tohoku Univ.) |
| 幹事氏名（和） | 黒田 理人(東北大) / 山口 直(ルネサス エレクトロニクス) |
| 幹事氏名（英） | Rihito Kuroda(Tohoku Univ.) / Tadashi Yamaguchi(Renesas) |
| 幹事補佐氏名（和） | 池田 浩也(静岡大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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| 本文の言語 | ENG |
| タイトル（和） | |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | [Invited Talk] General relationship for cation and anion doping effects on ferroelectric HfO2 formation |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | / ferroelectric HfO2dopantsN dopingFeFETs |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 徐 倫 / Xu Lun |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京大学(略称：東大) University of Tokyo(略称：Univ. of Tokyo) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 柴山 茂久 / Shibayama Shigehisa |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東京大学(略称：東大) University of Tokyo(略称：Univ. of Tokyo) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 厳樫 一孝 / Izukashi Kazutaka |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京大学(略称：東大) University of Tokyo(略称：Univ. of Tokyo) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 西村 知紀 / Nishimura Tomonori |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京大学(略称：東大) University of Tokyo(略称：Univ. of Tokyo) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 矢嶋 赳彬 / Yajima Takeaki |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 東京大学(略称：東大) University of Tokyo(略称：Univ. of Tokyo) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 右田 真司 / Migita Shinji |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 産総研(略称：産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology(略称：AIST) |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 鳥海 明 / Toriumi Akira |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 東京大学(略称：東大) University of Tokyo(略称：Univ. of Tokyo) |
| 発表年月日 | 2017-01-30 |
| 資料番号 | SDM2016-137 |
| 巻番号（vol） | vol.116 |
| 号番号（no） | SDM-448 |
| ページ範囲 | pp.29-32(SDM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2017-01-23 (SDM) |