講演名 | 2017-01-30 [招待講演]Experimental Study on Polarization-Limited Operation Speed of Negative Capacitance FET with Ferroelectric HfO2 小林 正治(東大), 上山 望(東大), 蒋 京珉(東大), 平本 俊郎(東大), |
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抄録(和) | |
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資料番号 | SDM2016-132 |
発行日 | 2017-01-23 (SDM) |
研究会情報 | |
研究会 | SDM |
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開催期間 | 2017/1/30(から1日開催) |
開催地(和) | 機械振興会館 |
開催地(英) | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
テーマ(和) | 先端CMOSデバイス・ プロセス技術(IEDM特集) |
テーマ(英) | |
委員長氏名(和) | 国清 辰也(ルネサス エレクトロニクス) |
委員長氏名(英) | Tatsuya Kunikiyo(Renesas) |
副委員長氏名(和) | 品田 高宏(東北大) |
副委員長氏名(英) | Takahiro Shinada(Tohoku Univ.) |
幹事氏名(和) | 黒田 理人(東北大) / 山口 直(ルネサス エレクトロニクス) |
幹事氏名(英) | Rihito Kuroda(Tohoku Univ.) / Tadashi Yamaguchi(Renesas) |
幹事補佐氏名(和) | 池田 浩也(静岡大) |
幹事補佐氏名(英) | Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | [招待講演]Experimental Study on Polarization-Limited Operation Speed of Negative Capacitance FET with Ferroelectric HfO2 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | [Invited Talk] Experimental Study on Polarization-Limited Operation Speed of Negative Capacitance FET with Ferroelectric HfO2 |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | |
第 1 著者 氏名(和/英) | 小林 正治 / Masaharu Kobayashi |
第 1 著者 所属(和/英) | 東京大学(略称:東大) University of Tokyo(略称:Univ. of Tokyo) |
第 2 著者 氏名(和/英) | 上山 望 |
第 2 著者 所属(和/英) | 東京大学(略称:東大) University of Tokyo(略称:Univ. of Tokyo) |
第 3 著者 氏名(和/英) | 蒋 京珉 |
第 3 著者 所属(和/英) | 東京大学(略称:東大) University of Tokyo(略称:Univ. of Tokyo) |
第 4 著者 氏名(和/英) | 平本 俊郎 |
第 4 著者 所属(和/英) | 東京大学(略称:東大) University of Tokyo(略称:Univ. of Tokyo) |
発表年月日 | 2017-01-30 |
資料番号 | SDM2016-132 |
巻番号(vol) | vol.116 |
号番号(no) | SDM-448 |
ページ範囲 | pp.9-12(SDM), |
ページ数 | 4 |
発行日 | 2017-01-23 (SDM) |