講演名 | 2016-12-12 自己整合四端子平面型メタルダブルゲート低温poly-Si TFTから成るガラス上のCMOSインバータ 大澤 弘樹(東北学院大), 原 明人(東北学院大), |
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資料番号 | EID2016-19,SDM2016-100 |
発行日 | 2016-12-05 (EID, SDM) |
研究会情報 | |
研究会 | SDM / EID |
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開催期間 | 2016/12/12(から1日開催) |
開催地(和) | 奈良先端科学技術大学院大学 |
開催地(英) | NAIST |
テーマ(和) | シリコン関連材料の作製と評価 |
テーマ(英) | Fabrication and Evaluation of Silicon Related Materials |
委員長氏名(和) | 国清 辰也(ルネサス エレクトロニクス) / 志賀 智一(電通大) |
委員長氏名(英) | Tatsuya Kunikiyo(Renesas) / Tomokazu Shiga(Univ. of Electro-Comm.) |
副委員長氏名(和) | 品田 高宏(東北大) / 木村 睦(龍谷大) / 小南 裕子(静岡大) |
副委員長氏名(英) | Takahiro Shinada(Tohoku Univ.) / Mutsumi Kimura(Ryukoku Univ.) / Yuko Kominami(Shizuoka Univ.) |
幹事氏名(和) | 黒田 理人(東北大) / 山口 直(ルネサス エレクトロニクス) / 伊達 宗和(NTT) / 山口 雅浩(東工大) |
幹事氏名(英) | Rihito Kuroda(Tohoku Univ.) / Tadashi Yamaguchi(Renesas) / Munekazu Date(NTT) / Masahiro Yamaguchi(Tokyo Inst. of Tech.) |
幹事補佐氏名(和) | 池田 浩也(静岡大) / 山口 留美子(秋田大) / 新田 博幸(ジャパンディスプレイ) / 中田 充(NHK) / 小尻 尚志(日本ゼオン) / 野中 亮助(東芝) |
幹事補佐氏名(英) | Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.) / Rumiko Yamaguchi(Akita Univ.) / Hiroyuki Nitta(Japan Display) / Mitsuru Nakata(NHK) / Takashi Kojiri(ZEON) / Ryosuke Nonaka(Toshiba) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials / Technical Committee on Electronic Information Displays |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 自己整合四端子平面型メタルダブルゲート低温poly-Si TFTから成るガラス上のCMOSインバータ |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | CMOS Inverter Consisting of Self-Aligned Four-Terminal Planar Metal Double-Gate Low-Temperature Poly-Si TFTs on Glass Substrate |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | |
第 1 著者 氏名(和/英) | 大澤 弘樹 / Hiroki Ohsawa |
第 1 著者 所属(和/英) | 東北学院大学(略称:東北学院大) Tohoku Gakuin University(略称:Tohoku Gakuin Univ.) |
第 2 著者 氏名(和/英) | 原 明人 / Akito Hara |
第 2 著者 所属(和/英) | 東北学院大学(略称:東北学院大) Tohoku Gakuin University(略称:Tohoku Gakuin Univ.) |
発表年月日 | 2016-12-12 |
資料番号 | EID2016-19,SDM2016-100 |
巻番号(vol) | vol.116 |
号番号(no) | EID-354,SDM-355 |
ページ範囲 | pp.45-48(EID), pp.45-48(SDM), |
ページ数 | 4 |
発行日 | 2016-12-05 (EID, SDM) |