| 講演名 | 2016-12-12 IGZO薄膜素子の磁気抵抗効果に対する電極の影響 符川 明日香(龍谷大), 野村 竜生(龍谷大), 松田 時宜(龍谷大), 木村 睦(龍谷大), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | EID2016-13,SDM2016-94 |
| 発行日 | 2016-12-05 (EID, SDM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM / EID |
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| 開催期間 | 2016/12/12(から1日開催) |
| 開催地（和） | 奈良先端科学技術大学院大学 |
| 開催地（英） | NAIST |
| テーマ（和） | シリコン関連材料の作製と評価 |
| テーマ（英） | Fabrication and Evaluation of Silicon Related Materials |
| 委員長氏名（和） | 国清 辰也(ルネサス エレクトロニクス) / 志賀 智一(電通大) |
| 委員長氏名（英） | Tatsuya Kunikiyo(Renesas) / Tomokazu Shiga(Univ. of Electro-Comm.) |
| 副委員長氏名（和） | 品田 高宏(東北大) / 木村 睦(龍谷大) / 小南 裕子(静岡大) |
| 副委員長氏名（英） | Takahiro Shinada(Tohoku Univ.) / Mutsumi Kimura(Ryukoku Univ.) / Yuko Kominami(Shizuoka Univ.) |
| 幹事氏名（和） | 黒田 理人(東北大) / 山口 直(ルネサス エレクトロニクス) / 伊達 宗和(NTT) / 山口 雅浩(東工大) |
| 幹事氏名（英） | Rihito Kuroda(Tohoku Univ.) / Tadashi Yamaguchi(Renesas) / Munekazu Date(NTT) / Masahiro Yamaguchi(Tokyo Inst. of Tech.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 池田 浩也(静岡大) / 山口 留美子(秋田大) / 新田 博幸(ジャパンディスプレイ) / 中田 充(NHK) / 小尻 尚志(日本ゼオン) / 野中 亮助(東芝) |
| 幹事補佐氏名（英） | Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.) / Rumiko Yamaguchi(Akita Univ.) / Hiroyuki Nitta(Japan Display) / Mitsuru Nakata(NHK) / Takashi Kojiri(ZEON) / Ryosuke Nonaka(Toshiba) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials / Technical Committee on Electronic Information Displays |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | IGZO薄膜素子の磁気抵抗効果に対する電極の影響 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Influence of Electrodes for Magnetoresistance Effect in IGZO Thin Film Devices |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 符川 明日香 / Asuka Fukawa |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 龍谷大学(略称：龍谷大) Ryukoku University(略称：Ryukoku Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 野村 竜生 / Ryuki Nomura |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 龍谷大学(略称：龍谷大) Ryukoku University(略称：Ryukoku Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 松田 時宜 / Tokiyosi Matsuda |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 龍谷大学(略称：龍谷大) Ryukoku University(略称：Ryukoku Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 木村 睦 / Mutsumi Kimura |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 龍谷大学(略称：龍谷大) Ryukoku University(略称：Ryukoku Univ.) |
| 発表年月日 | 2016-12-12 |
| 資料番号 | EID2016-13,SDM2016-94 |
| 巻番号（vol） | vol.116 |
| 号番号（no） | EID-354,SDM-355 |
| ページ範囲 | pp.19-22(EID), pp.19-22(SDM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2016-12-05 (EID, SDM) |