| 講演名 | 2016-11-18 溶液成長法による硫化スズ膜形成における下地基板の検討 野毛 悟(沼津高専), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | CPM2016-61 |
| 発行日 | 2016-11-11 (CPM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2016/11/18(から2日開催) |
| 開催地（和） | 金沢工大 扇が丘キャンパス |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 機能性材料(半導体、磁性体、誘電体、透明導電体・半導体、等)薄膜プロセス/材料/デバイス，一般 |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | 野毛 悟(沼津高専) |
| 委員長氏名（英） | Satoru Noge(Numazu National College of Tech.) |
| 副委員長氏名（和） | 廣瀬 文彦(山形大) |
| 副委員長氏名（英） | Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) |
| 幹事氏名（和） | 小舘 淳一(NTT) / 岩田 展幸(日大) |
| 幹事氏名（英） | Junichi Kodate(NTT) / Nobuyuki Iwata(Nihon Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 坂本 尊(NTT) / 中村 雄一(豊橋技科大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Takashi Sakamoto(NTT) / Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Component Parts and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 溶液成長法による硫化スズ膜形成における下地基板の検討 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Study of the underlying substrate in SnS film formation by chemical bath deposition |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 野毛 悟 / Satoru Noge |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 沼津工業高等専門学校(略称：沼津高専) National Institute of Technology, Numazu college(略称：NIT, Numazu college) |
| 発表年月日 | 2016-11-18 |
| 資料番号 | CPM2016-61 |
| 巻番号（vol） | vol.116 |
| 号番号（no） | CPM-311 |
| ページ範囲 | pp.1-4(CPM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2016-11-11 (CPM) |