講演名 2016-10-26
電界誘起酸素エッチングによるナノ突起エミッタの形成過程の検証
若本 実(三重大), 永井 滋一(三重大), 岩田 達夫(三重大), 梶原 和夫(三重大), 畑 浩一(三重大),
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抄録(和) 集束イオンビーム装置に搭載されている液体金属イオン源は、照射イオンによる試料汚染と色収差によるビーム径の拡がりの問題を持っており、それらの問題を持たない電界電離型希ガスイオン源(GFIS)がイオン源として期待されている。当研究グループは、GFISの放射角電流密度向上のため、電界誘起酸素エッチング法を改良することで、先端にナノ突起をもつ理想形状エミッタの作製に成功した。本発表では、電界誘起酸素エッチングによるナノ突起形成における形状、および生成される酸化物組成を電界イオン顕微鏡法、透過型電子顕微鏡、およびアトムプローブ法によって調査した。その結果、これまでに我々が提唱してきたオーバーハングモデルを支持する結果が示された。
抄録(英) Focused ion beam systems equipped with liquid metal ion source has serious problems which are pollutions of samples due to irradiated ions and a broadening of spot size of ion beams due to chromatic aberration. In order to overcome these problems, gas field ion sources (GFIS) with narrow energy distributions are required. We succeeded to prepared a nano-protrusion on a tungsten emitter with large-radius by the modified field-induced oxygen etching to obtain a higher angular current density dI/dΩ. In this study, we investigated the emitter shape and identified oxide during the oxygen etching by field ion microscopy, transmission electron microscopy and atom probe. These results suppose the overhang model we proposed.
キーワード(和) 電界イオン顕微鏡 / 電界誘起酸素エッチング / アトムプローブ法
キーワード(英) field ion microscope / field-induced oxygen etching / atom probe analysis
資料番号 ED2016-54
発行日 2016-10-18 (ED)

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2016/10/25(から2日開催)
開催地(和) 三重大学 新産業創成研究拠点(旧VBL)
開催地(英)
テーマ(和) 電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術
テーマ(英)
委員長氏名(和) 前澤 宏一(富山大)
委員長氏名(英) Koichi Maezawa(Univ. of Toyama)
副委員長氏名(和) 津田 邦男(東芝)
副委員長氏名(英) Kunio Tsuda(Toshiba)
幹事氏名(和) 鈴木 寿一(北陸先端大) / 新井 学(新日本無線)
幹事氏名(英) Toshikazu Suzuki(JAIST) / Manabu Arai(New JRC)
幹事補佐氏名(和) 東脇 正高(NICT) / 大石 敏之(佐賀大)
幹事補佐氏名(英) Masataka Higashiwaki(NICT) / Toshiyuki Oishi(Saga Univ.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Electron Device
本文の言語 JPN
タイトル(和) 電界誘起酸素エッチングによるナノ突起エミッタの形成過程の検証
サブタイトル(和)
タイトル(英) A verification of formation process of emitters with nano-protrusion fabricated by the field-induced oxygen etching
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 電界イオン顕微鏡 / field ion microscope
キーワード(2)(和/英) 電界誘起酸素エッチング / field-induced oxygen etching
キーワード(3)(和/英) アトムプローブ法 / atom probe analysis
第 1 著者 氏名(和/英) 若本 実 / Minoru Wakamoto
第 1 著者 所属(和/英) 三重大学(略称:三重大)
Mie University(略称:MIe Univ.)
第 2 著者 氏名(和/英) 永井 滋一 / Shigekazu Nagai
第 2 著者 所属(和/英) 三重大学(略称:三重大)
Mie University(略称:MIe Univ.)
第 3 著者 氏名(和/英) 岩田 達夫 / Tatsuo Iwata
第 3 著者 所属(和/英) 三重大学(略称:三重大)
Mie University(略称:MIe Univ.)
第 4 著者 氏名(和/英) 梶原 和夫 / Kazuo Kajiwara
第 4 著者 所属(和/英) 三重大学(略称:三重大)
Mie University(略称:MIe Univ.)
第 5 著者 氏名(和/英) 畑 浩一 / Koichi Hata
第 5 著者 所属(和/英) 三重大学(略称:三重大)
Mie University(略称:MIe Univ.)
発表年月日 2016-10-26
資料番号 ED2016-54
巻番号(vol) vol.116
号番号(no) ED-268
ページ範囲 pp.51-56(ED),
ページ数 6
発行日 2016-10-18 (ED)