| 講演名 | 2016-05-11 側壁ダブルパターニングのための2色グリッドに準じた配線手法 三浦 発彦(東京農工大), 長谷川 充(東京農工大), 比留川 拓(東京農工大), 藤吉 邦洋(東京農工大), |
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| 抄録(和) | 高密度な LSI 製造のため、光リソグラフィの露光限界を超えて微細な加工を行なう技術の 1 つに側壁ダブルパターニング (SADP) がある。 SADP のためのレイアウト設計では、実際にリソグラフィで露光する芯材の領域に生成される一次の配線と、芯材の領域でもその周りに生成される側壁の領域でもない領域に生成される二次の配線の両方を考慮する必要があるため、設計が困難である。また、二次の配線のためにレイアウト設計後の未使用領域をダミーの配線で埋める必要があるが、その設計も困難である。そこで、予め一部に色を塗った「 2 色グリッド」を用いて厳しい制約の下で配線する手法が提案されたが、その制約は必要以上に厳しく、緩和することが望まれる。そこで本論文では、 2 色グリッドを用いた配線手法を大幅に拡張し、ネットの端子位置制約を緩和し、配線密度が比較的高い問題にも適用できる配線手法を提案する。具体的には、後にダミー配線を置くことが可能になるよう考慮しながら端子間の配線を行うことで、 SADP で製造可能なレイアウトを求めることを目標としている。提案手法を計算機実装して実験した結果、計算時間はかかるが、比較的密な問題でも配線が求められた。 |
| 抄録(英) | Self-Aligned Double Patterning (SADP) is one of the promising manufacturing option to overcome the limit of miniaturization. However, routing design for SADP process is very complicated. In this paper, we propose a thoughtful routing method using two-color grid for SADP process. It may solve high density routing problems which cannot be solved by previous methods. Experimental results indicate that our method achieves shorter wire length. |
| キーワード(和) | ダブルパターニング / SADP / グリッド配線 |
| キーワード(英) | Double Patterning / SADP / Grid Routing |
| 資料番号 | VLD2016-2 |
| 発行日 | 2016-05-04 (VLD) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD / IPSJ-SLDM |
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| 開催期間 | 2016/5/11(から1日開催) |
| 開催地（和） | 北九州国際会議場 |
| 開催地（英） | Kitakyushu International Conference Center |
| テーマ（和） | システム設計および一般 |
| テーマ（英） | System Design, etc. |
| 委員長氏名（和） | 松永 裕介(九大) / 福井 正博(立命館大) |
| 委員長氏名（英） | Yusuke Matsunaga(Kyushu Univ.) / Masahiro Fukui(Ritsumeikan Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 竹中 崇(NEC) |
| 副委員長氏名（英） | Takashi Takenana(NEC) |
| 幹事氏名（和） | 冨山 宏之(立命館大) / 福田 大輔(富士通研) / 横山 昌生(シャープ) / 高島 康裕(北九州市大) / 西出 岳央(東芝) |
| 幹事氏名（英） | Hiroyuki Tomiyama(Ritsumeikan Univ.) / Daisuke Fukuda(Fujitsu Labs.) / Masao Yokoyama(Sharp) / Yasuhiro Takashima(Kitakyushu City Univ.) / Takeo Nishide(Toshiba) |
| 幹事補佐氏名（和） | 谷口 一徹(立命館大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Ittetsu Taniguchi(Ritsumeikan Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on VLSI Design Technologies / Special Interest Group on System and LSI Design Methodology |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 側壁ダブルパターニングのための2色グリッドに準じた配線手法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Self-Aligned Double Patterning-Aware Two-color Grid Routing |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ダブルパターニング / Double Patterning |
| キーワード(2)（和/英） | SADP / SADP |
| キーワード(3)（和/英） | グリッド配線 / Grid Routing |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 三浦 発彦 / Hatsuhiko Miura |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京農工大学(略称：東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology(略称：TUAT) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 長谷川 充 / Mitsuru Hasegawa |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東京農工大学(略称：東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology(略称：TUAT) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 比留川 拓 / Taku Hirukawa |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京農工大学(略称：東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology(略称：TUAT) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 藤吉 邦洋 / Kunihiro Fujiyoshi |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京農工大学(略称：東京農工大) Tokyo University of Agriculture and Technology(略称：TUAT) |
| 発表年月日 | 2016-05-11 |
| 資料番号 | VLD2016-2 |
| 巻番号（vol） | vol.116 |
| 号番号（no） | VLD-21 |
| ページ範囲 | pp.5-10(VLD), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2016-05-04 (VLD) |