| 講演名 | 2016-04-22 プラズマ励起法を用いた室温原子層堆積法によるZrO2の試作と評価 野老 健太郎(山形大), 鹿又 健作(山形大), 三浦 正範(山形大), 有馬 ボシール アハンマド(山形大), 久保田 繁(山形大), 廣瀬 文彦(山形大), |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | LSI分野において酸化ジルコニウムは高誘電率ゲート絶縁膜としての利用が期待されている。一般に酸化ジルコニウムは熱原子層堆積法を用いて300℃の基板温度で成膜されるが、我々はTetrakis[EthylMethylAmino]Zirconium(TEMAZ)とプラズマ励起された水蒸気を用いて室温での原子層堆積法を確立した。本方法により、フレキシブル材料や有機デバイスへの適用も可能になると考えられる。室温原子層堆積法による酸化ジルコニウムの成長速度は0.171nm/cycleと測定された。さらに酸化ジルコニウムの室温原子層堆積を多重内部反射赤外吸収分光法によって評価し、成膜反応のモデル化を行った。 |
| 抄録(英) | In the field of LSI production, ZrO2 is expected as a high-k material for metal-oxide-field-effect transistors. ZrO2 has been deposited by thermal atomic layer deposition although it requires the process with high temperatures in excess of 300 ˚C, but we newly developed a room temperature ALD of ZrO2 using tetrakis[ethylmethylamino]zirconium (TEMAZ) and plasma-excited water vapor. We consider that it is possible to be applied to heat not withstanding flexible materials. The growth per cycle of ZrO2 was at 0.171 nm/cycle. We investigated the surface reaction mechanism by multiple-internal-refraction infrared absorption spectroscopy. |
| キーワード(和) | 原子層堆積 / ZrO₂ / プラズマ励起法 / 赤外吸収分光法 |
| キーワード(英) | Atomic layer deposition / ZrO₂ / Plasma excited method / MIR-IRAS |
| 資料番号 | ED2016-12 |
| 発行日 | 2016-04-14 (ED) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
|---|---|
| 開催期間 | 2016/4/21(から2日開催) |
| 開催地（和） | 山形大学工学部 有機EL研究センター 4F大会議室 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 有機デバイス、酸化物デバイス、一般 |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | 前澤 宏一(富山大) |
| 委員長氏名（英） | Koichi Maezawa(Univ. of Toyama) |
| 副委員長氏名（和） | 津田 邦男(東芝) |
| 副委員長氏名（英） | Kunio Tsuda(Toshiba) |
| 幹事氏名（和） | 松永 高治(NEC) / 鈴木 寿一(北陸先端大) |
| 幹事氏名（英） | Koji Matsunaga(NEC) / Toshikazu Suzuki(JAIST) |
| 幹事補佐氏名（和） | 新井 学(新日本無線) / 東脇 正高(NICT) |
| 幹事補佐氏名（英） | Manabu Arai(New JRC) / Masataka Higashiwaki(NICT) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Electron Device |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | プラズマ励起法を用いた室温原子層堆積法によるZrO2の試作と評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Room-temperature atomic layer deposition of zirconium oxide using plasma excited water vapor |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 原子層堆積 / Atomic layer deposition |
| キーワード(2)（和/英） | ZrO₂ / ZrO₂ |
| キーワード(3)（和/英） | プラズマ励起法 / Plasma excited method |
| キーワード(4)（和/英） | 赤外吸収分光法 / MIR-IRAS |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 野老 健太郎 / Kentaro Tokoro |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 鹿又 健作 / Kensaku kanomaka |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 三浦 正範 / Masanori Miura |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 有馬 ボシール アハンマド / Bashir Ahmmad |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 久保田 繁 / Shigeru Kubota |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 発表年月日 | 2016-04-22 |
| 資料番号 | ED2016-12 |
| 巻番号（vol） | vol.116 |
| 号番号（no） | ED-14 |
| ページ範囲 | pp.47-50(ED), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2016-04-14 (ED) |