講演名 2016-04-14
[依頼講演]A Triple-Protection Structured COB FRAM with 1.2-V Operation and 1E17-Cycle Endurance
齋藤 仁(FSL), 中村 亘(FSL), 小澤 聡一郎(FSL), 佐次田 直也(FSL), 三原 智(FSL), 彦坂 幸信(FSL), 王 文生(FSL), 堀 智之(FSL), 高井 一章(FSL), 中澤 光晴(FSL), 小杉 騰(FSL), 濱田 誠(FSL), 川嶋 将一郎(FSL), 恵下 隆(FSL), 松宮 正人(FSL),
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抄録(和) 我々は低電圧1.2 V動作, 書き換え回数1E17 サイクルの強誘電体RAM(FRAM)を開発した。我々が新たに開発したトリプル・プロテクション構造のセル・アレイは, 追加マスク工程不要で, 水素や湿度による劣化から0.4 μm^2の強誘電体キャパシタを効果的に保護する。我々はCOB(Capacitor over bit-line)構造で0.5 μm^2の小セル・サイズを実現した。
抄録(英) We have developed a ferroelectric RAM (FRAM) with a low operation voltage of 1.2 V and a high switching endurance up to 1E17 cycles. Our newly developed triple- protection structured cell array, has constructed without an additional mask step, effectively protects 0.4-μm^2 ferroelectric capacitors from hydrogen and moisture degradation. We have designed our capacitor-over-bit-line (COB) structure to have a small cell size of 0.5-μm^2.
キーワード(和) FRAM / PZT / COB / 低電圧動作 / 書き換え回数 / トリプル・プロテクション構造
キーワード(英) FRAM / PZT / COB / low voltage operation / high switching endurance / triple-protection structure
資料番号 ICD2016-9
発行日 2016-04-07 (ICD)

研究会情報
研究会 ICD
開催期間 2016/4/14(から2日開催)
開催地(和) 機械振興会館
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg.
テーマ(和) メモリ技術と一般
テーマ(英)
委員長氏名(和) 藤島 実(広島大)
委員長氏名(英) Minoru Fujishima(Hiroshima Univ.)
副委員長氏名(和) 日高 秀人(ルネサス エレクトロニクス)
副委員長氏名(英) Hideto Hidaka(Renesas)
幹事氏名(和) 吉田 毅(広島大)
幹事氏名(英) Takeshi Yoshida(Hiroshima Univ.)
幹事補佐氏名(和) 高宮 真(東大) / 岩崎 裕江(NTT) / 橋本 隆(パナソニック) / 伊藤 浩之(東工大) / 範 公可(電通大)
幹事補佐氏名(英) Makoto Takamiya(Univ. of Tokyo) / Hiroe Iwasaki(NTT) / Takashi Hashimoto(Panasonic) / Hiroyuki Ito(Tokyo Inst. of Tech.) / Pham Konkuha(Univ. of Electro-Comm.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Integrated Circuits and Devices
本文の言語 JPN
タイトル(和) [依頼講演]A Triple-Protection Structured COB FRAM with 1.2-V Operation and 1E17-Cycle Endurance
サブタイトル(和)
タイトル(英) [Invited Lecture] A Triple-Protection Structured COB FRAM with 1.2-V Operation and 1E17-Cycle Endurance
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) FRAM / FRAM
キーワード(2)(和/英) PZT / PZT
キーワード(3)(和/英) COB / COB
キーワード(4)(和/英) 低電圧動作 / low voltage operation
キーワード(5)(和/英) 書き換え回数 / high switching endurance
キーワード(6)(和/英) トリプル・プロテクション構造 / triple-protection structure
第 1 著者 氏名(和/英) 齋藤 仁 / Hitoshi Saito
第 1 著者 所属(和/英) 富士通セミコンダクター株式会社(略称:FSL)
FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED(略称:FSL)
第 2 著者 氏名(和/英) 中村 亘 / Ko Nakamura
第 2 著者 所属(和/英) 富士通セミコンダクター株式会社(略称:FSL)
FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED(略称:FSL)
第 3 著者 氏名(和/英) 小澤 聡一郎 / Soichiro Ozawa
第 3 著者 所属(和/英) 富士通セミコンダクター株式会社(略称:FSL)
FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED(略称:FSL)
第 4 著者 氏名(和/英) 佐次田 直也 / Naoya Sashida
第 4 著者 所属(和/英) 富士通セミコンダクター株式会社(略称:FSL)
FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED(略称:FSL)
第 5 著者 氏名(和/英) 三原 智 / Satoru Mihara
第 5 著者 所属(和/英) 富士通セミコンダクター株式会社(略称:FSL)
FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED(略称:FSL)
第 6 著者 氏名(和/英) 彦坂 幸信 / Yukinobu Hikosaka
第 6 著者 所属(和/英) 富士通セミコンダクター株式会社(略称:FSL)
FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED(略称:FSL)
第 7 著者 氏名(和/英) 王 文生 / Wensheng Wang
第 7 著者 所属(和/英) 富士通セミコンダクター株式会社(略称:FSL)
FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED(略称:FSL)
第 8 著者 氏名(和/英) 堀 智之 / Tomoyuki Hori
第 8 著者 所属(和/英) 富士通セミコンダクター株式会社(略称:FSL)
FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED(略称:FSL)
第 9 著者 氏名(和/英) 高井 一章 / Kazuaki Takai
第 9 著者 所属(和/英) 富士通セミコンダクター株式会社(略称:FSL)
FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED(略称:FSL)
第 10 著者 氏名(和/英) 中澤 光晴 / Mitsuharu Nakazawa
第 10 著者 所属(和/英) 富士通セミコンダクター株式会社(略称:FSL)
FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED(略称:FSL)
第 11 著者 氏名(和/英) 小杉 騰 / Noboru Kosugi
第 11 著者 所属(和/英) 富士通セミコンダクター株式会社(略称:FSL)
FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED(略称:FSL)
第 12 著者 氏名(和/英) 濱田 誠 / Makoto Hamada
第 12 著者 所属(和/英) 富士通セミコンダクター株式会社(略称:FSL)
FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED(略称:FSL)
第 13 著者 氏名(和/英) 川嶋 将一郎 / Shoichiro Kawashima
第 13 著者 所属(和/英) 富士通セミコンダクター株式会社(略称:FSL)
FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED(略称:FSL)
第 14 著者 氏名(和/英) 恵下 隆 / Takashi Eshita
第 14 著者 所属(和/英) 富士通セミコンダクター株式会社(略称:FSL)
FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED(略称:FSL)
第 15 著者 氏名(和/英) 松宮 正人 / Masato Matsumiya
第 15 著者 所属(和/英) 富士通セミコンダクター株式会社(略称:FSL)
FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED(略称:FSL)
発表年月日 2016-04-14
資料番号 ICD2016-9
巻番号(vol) vol.116
号番号(no) ICD-3
ページ範囲 pp.45-49(ICD),
ページ数 5
発行日 2016-04-07 (ICD)