講演名 | 2016-03-03 [招待講演]酸化物半導体を用いた薄膜デバイス応用の新展開 前元 利彦(阪工大), 孫 屹(阪工大), 松田 宗平(阪工大), 佐々木 翔太(阪工大), 芦田 浩平(阪工大), カルトシュタイン オリバー(阪工大), 小山 政俊(阪工大), 小池 一歩(阪工大), 矢野 満明(阪工大), 佐々 誠彦(阪工大), |
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抄録(和) | 酸化物半導体のデバイス応用として,フレキシブル酸化亜鉛(Zinc oxide; ZnO)薄膜トランジスタの開発と高性能化、プラスチック基板上ZnO薄膜トランジスタの曲げ耐性評価、ZnOトランジスタの完全透明化,ZnOセルフスイッチングナノダイオードの開発を行った.本稿では,それらの研究において得られた成果と知見について報告する. |
抄録(英) | We report on the fabrication and characterization of flexible thin-film-transistors using a transparent zinc oxide (ZnO) semiconductor. Characterizations in bending experiments of flexible ZnO-TFTs and DC characteristics for fully transparent ZnO-TFTs were reported. The self-switching nano-diodes (SSD) were fabricated by using electron beam lithography and wet chemical etching at room temperature. ZnO-SSDs on glass substrate and a fully transparent ZnO-SSD were also characterized for transparent device applications. |
キーワード(和) | 酸化亜鉛 / 透明 / フレキシブル / 薄膜トランジスタ / セルフスイッチング型ナノダイオード |
キーワード(英) | Zinc oxide / Transparent / Flexible / Thin-film transistor / Self-switching nano-diode |
資料番号 | ED2015-121,SDM2015-128 |
発行日 | 2016-02-25 (ED, SDM) |
研究会情報 | |
研究会 | ED / SDM |
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開催期間 | 2016/3/3(から2日開催) |
開催地(和) | 北海道大学百年記念会館 |
開催地(英) | Centennial Hall, Hokkaido Univ. |
テーマ(和) | 機能ナノデバイスおよび関連技術 |
テーマ(英) | Functional Nanodevices and Related Technologies |
委員長氏名(和) | 前澤 宏一(富山大) / 大野 裕三(筑波大) |
委員長氏名(英) | Koichi Maezawa(Univ. of Toyama) / Yuzou Oono(Univ. of Tsukuba) |
副委員長氏名(和) | 津田 邦男(東芝) / 国清 辰也(ルネサス エレクトロニクス) |
副委員長氏名(英) | Kunio Tsuda(Toshiba) / Tatsuya Kunikiyo(Renesas) |
幹事氏名(和) | 松永 高治(NEC) / 鈴木 寿一(北陸先端大) / 黒田 理人(東北大) |
幹事氏名(英) | Koji Matsunaga(NEC) / Toshikazu Suzuki(JAIST) / Rihito Kuroda(Tohoku Univ.) |
幹事補佐氏名(和) | 新井 学(新日本無線) / 東脇 正高(NICT) / 山口 直(ルネサス エレクトロニクス) |
幹事補佐氏名(英) | Manabu Arai(New JRC) / Masataka Higashiwaki(NICT) / Tadashi Yamaguchi(Renesas) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Technical Committee on Electron Device / Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | [招待講演]酸化物半導体を用いた薄膜デバイス応用の新展開 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | [Invited Talk] A Recent Development in Thin-Film Device Applications using Oxide Semiconductors |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | 酸化亜鉛 / Zinc oxide |
キーワード(2)(和/英) | 透明 / Transparent |
キーワード(3)(和/英) | フレキシブル / Flexible |
キーワード(4)(和/英) | 薄膜トランジスタ / Thin-film transistor |
キーワード(5)(和/英) | セルフスイッチング型ナノダイオード / Self-switching nano-diode |
第 1 著者 氏名(和/英) | 前元 利彦 / Toshihiko Maemoto |
第 1 著者 所属(和/英) | 大阪工業大学(略称:阪工大) Osaka Institute of Technology(略称:Osaka Inst. Tech.) |
第 2 著者 氏名(和/英) | 孫 屹 / Yi Sun |
第 2 著者 所属(和/英) | 大阪工業大学(略称:阪工大) Osaka Institute of Technology(略称:Osaka Inst. Tech.) |
第 3 著者 氏名(和/英) | 松田 宗平 / Souhei Matsuda |
第 3 著者 所属(和/英) | 大阪工業大学(略称:阪工大) Osaka Institute of Technology(略称:Osaka Inst. Tech.) |
第 4 著者 氏名(和/英) | 佐々木 翔太 / Shota Sasaki |
第 4 著者 所属(和/英) | 大阪工業大学(略称:阪工大) Osaka Institute of Technology(略称:Osaka Inst. Tech.) |
第 5 著者 氏名(和/英) | 芦田 浩平 / Kouhei Ashida |
第 5 著者 所属(和/英) | 大阪工業大学(略称:阪工大) Osaka Institute of Technology(略称:Osaka Inst. Tech.) |
第 6 著者 氏名(和/英) | カルトシュタイン オリバー / Oliver Kaltstein |
第 6 著者 所属(和/英) | 大阪工業大学(略称:阪工大) Osaka Institute of Technology(略称:Osaka Inst. Tech.) |
第 7 著者 氏名(和/英) | 小山 政俊 / Masatoshi Koyama |
第 7 著者 所属(和/英) | 大阪工業大学(略称:阪工大) Osaka Institute of Technology(略称:Osaka Inst. Tech.) |
第 8 著者 氏名(和/英) | 小池 一歩 / Kazuto Koike |
第 8 著者 所属(和/英) | 大阪工業大学(略称:阪工大) Osaka Institute of Technology(略称:Osaka Inst. Tech.) |
第 9 著者 氏名(和/英) | 矢野 満明 / Mitsuaki Yano |
第 9 著者 所属(和/英) | 大阪工業大学(略称:阪工大) Osaka Institute of Technology(略称:Osaka Inst. Tech.) |
第 10 著者 氏名(和/英) | 佐々 誠彦 / Shigehiko Sasa |
第 10 著者 所属(和/英) | 大阪工業大学(略称:阪工大) Osaka Institute of Technology(略称:Osaka Inst. Tech.) |
発表年月日 | 2016-03-03 |
資料番号 | ED2015-121,SDM2015-128 |
巻番号(vol) | vol.115 |
号番号(no) | ED-469,SDM-470 |
ページ範囲 | pp.1-6(ED), pp.1-6(SDM), |
ページ数 | 6 |
発行日 | 2016-02-25 (ED, SDM) |