| 講演名 | 2016-01-22 ラジカル処理を用いた低温TiNx膜の特性評価 佐藤 勝(北見工大), 武山 真弓(北見工大), 野矢 厚(北見工大), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | SDM2015-113 |
| 発行日 | 2016-01-15 (SDM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2016/1/22(から1日開催) |
| 開催地（和） | 東京大学 山上会館 |
| 開催地（英） | Sanjo Conference Hall, The University of Tokyo |
| テーマ（和） | 配線・実装技術と関連材料技術 |
| テーマ（英） | Interconnects, Package and related materials |
| 委員長氏名（和） | 大野 裕三(筑波大) |
| 委員長氏名（英） | Yuzou Oono(Univ. of Tsukuba) |
| 副委員長氏名（和） | 国清 辰也(ルネサス エレクトロニクス) |
| 副委員長氏名（英） | Tatsuya Kunikiyo(Renesas) |
| 幹事氏名（和） | 黒田 理人(東北大) |
| 幹事氏名（英） | Rihito Kuroda(Tohoku Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 山口 直(ルネサス エレクトロニクス) |
| 幹事補佐氏名（英） | Tadashi Yamaguchi(Renesas) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ラジカル処理を用いた低温TiNx膜の特性評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Characteristic of TiNx film by low temperature deposition using radical treatment |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 佐藤 勝 / Masaru Sato |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 北見工業大学(略称：北見工大) Kitami Institute of Technology(略称：Kitami inst. of Technol.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 武山 真弓 / Mayumi B. Takeyama |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 北見工業大学(略称：北見工大) Kitami Institute of Technology(略称：Kitami inst. of Technol.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 野矢 厚 / Atsushi Noya |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 北見工業大学(略称：北見工大) Kitami Institute of Technology(略称：Kitami inst. of Technol.) |
| 発表年月日 | 2016-01-22 |
| 資料番号 | SDM2015-113 |
| 巻番号（vol） | vol.115 |
| 号番号（no） | SDM-417 |
| ページ範囲 | pp.21-24(SDM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2016-01-15 (SDM) |