講演名 | 2016-01-28 プラズマ処理による低抵抗IGZO領域の形成とセルフアライン型TFTへの応用 曲 勇作(高知工科大), 戸田 達也(高知工科大), 牧野 久雄(高知工科大), 古田 守(高知工科大), |
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資料番号 | EID2015-31 |
発行日 | 2016-01-21 (EID) |
研究会情報 | |
研究会 | EID / ITE-IDY / IEE-EDD / SID-JC / IEIJ-SSL |
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開催期間 | 2016/1/28(から2日開催) |
開催地(和) | 富山大学 |
開催地(英) | Toyama Univ. |
テーマ(和) | 発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会 |
テーマ(英) | Joint Meeting of Emissive / Non-Emissive Displays |
委員長氏名(和) | 志賀 智一(電通大) / 別井 圭一(日立) |
委員長氏名(英) | Tomokazu Shiga(Univ. of Electro-Comm.) / Keiichi Betsui(Hitachi) |
副委員長氏名(和) | 木村 睦(龍谷大) / 小南 裕子(静岡大) |
副委員長氏名(英) | Mutsumi Kimura(Ryukoku Univ.) / Yuko Kominami(Shizuoka Univ.) |
幹事氏名(和) | 伊達 宗和(NTT) / 山口 雅浩(東工大) / 中村 篤志(静岡大) |
幹事氏名(英) | Munekazu Date(NTT) / Masahiro Yamaguchi(Tokyo Inst. of Tech.) / Atsushi Nakamura(Shizuoka Univ.) |
幹事補佐氏名(和) | 山口 留美子(秋田大) / 新田 博幸(ジャパンディスプレイ) / 中田 充(NHK) / 小尻 尚志(日本ゼオン) / 野中 亮助(東芝) / 奥野 武志(Samsung R&D Inst. Japan) |
幹事補佐氏名(英) | Rumiko Yamaguchi(Akita Univ.) / Hiroyuki Nitta(Japan Display) / Mitsuru Nakata(NHK) / Takashi Kojiri(ZEON) / Ryosuke Nonaka(Toshiba) / Takeshi Okuno(Samsung) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Technical Committee on Electronic Information Displays / Technical Group on Information Display / Technical Group on Electron Devices / Society for Information Display Japan Chapter / * |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | プラズマ処理による低抵抗IGZO領域の形成とセルフアライン型TFTへの応用 |
サブタイトル(和) | プラズマ処理時の基板バイアスの効果 |
タイトル(英) | Plasma treatment for source/drain regions of self-aligned InGaZnO thin-film transistors |
サブタイトル(和) | Effects of substrate bias during the plasma treatment of IGZO. |
キーワード(1)(和/英) | |
第 1 著者 氏名(和/英) | 曲 勇作 / Yusaku Magari |
第 1 著者 所属(和/英) | 高知工科大学(略称:高知工科大) Kochi University of Technology(略称:Kochi Univ. of Technol.) |
第 2 著者 氏名(和/英) | 戸田 達也 / Tatsuya Toda |
第 2 著者 所属(和/英) | 高知工科大学(略称:高知工科大) Kochi University of Technology(略称:Kochi Univ. of Technol.) |
第 3 著者 氏名(和/英) | 牧野 久雄 / Hisao Makino |
第 3 著者 所属(和/英) | 高知工科大学(略称:高知工科大) Kochi University of Technology(略称:Kochi Univ. of Technol.) |
第 4 著者 氏名(和/英) | 古田 守 / Mamoru Furuta |
第 4 著者 所属(和/英) | 高知工科大学(略称:高知工科大) Kochi University of Technology(略称:Kochi Univ. of Technol.) |
発表年月日 | 2016-01-28 |
資料番号 | EID2015-31 |
巻番号(vol) | vol.115 |
号番号(no) | EID-439 |
ページ範囲 | pp.41-44(EID), |
ページ数 | 4 |
発行日 | 2016-01-21 (EID) |