講演名 2015-12-02
可変成形型電子ビーム露光装置のためのレイアウトのL型分割手法
星 克也(東京農工大), 藤吉 邦洋(東京農工大),
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抄録(和) LSIのマスク製造に用いられている電子ビーム露光装置は矩形形状のビームしか照射できない為,レイアウトを矩形に分割して1つずつ露光していくのだが,LSIの高集積化により露光する矩形数が増え,これに伴ってマスク製造コストが増大している.そこでL型形状のビームを照射できるように露光装置を改良する事を前提に,レイアウトを矩形とL型に分割する手法が提案されたが,この手法は必ずしも矩形とL型の合計個数が最小となる様にレイアウトを分割可能であるとは限らない.そこで本稿では最小個数に分割する動的計画法を用いたアルゴリズムを提案する.
抄録(英) Since electron beam mask writers for LSI mask fabrication can only expose a rectangle shaped-beam, a layout pattern has to be decomposed into a set of rectangles, and then they are fabricated by the mask writing machine. Because of the increase of transistors in one chip, the number of rectangles in a layout is increased, so manufacturing cost is also increased. So, a method which decomposes a layout into rectangles and L-Shaped polygons was proposed on the assumption that mask writers can expose a L-Shaped beam. However, this method cannnot always obtain a set of polygons of the minimum number. In this paper, we propose a new algorithm which can decompose a layout into minimum number of rectangles and L-Shaped polygons using dynamic programming.
キーワード(和) L型分割 / 動的計画法 / 可変成形型電子ビーム露光装置 / マスクデータ
キーワード(英) L-Shape Fracturing / Dynamic Programming / Variable Shaped Beam Mask Writer / Mask Data
資料番号 VLD2015-52,DC2015-48
発行日 2015-11-24 (VLD, DC)

研究会情報
研究会 VLD / DC / IPSJ-SLDM / CPSY / RECONF / ICD / CPM
開催期間 2015/12/1(から3日開催)
開催地(和) 長崎県勤労福祉会館
開催地(英) Nagasaki Kinro Fukushi Kaikan
テーマ(和) デザインガイア2015 -VLSI設計の新しい大地-
テーマ(英) Design Gaia 2015 -New Field of VLSI Design-
委員長氏名(和) 松永 裕介(九大) / 金川 信康(日立) / 福井 正博(立命館大) / 中島 康彦(奈良先端大) / 渡邊 実(静岡大) / 藤島 実(広島大) / 野毛 悟(沼津高専)
委員長氏名(英) Yusuke Matsunaga(Kyushu Univ.) / Nobuyasu Kanekawa(Hitachi) / Masahiro Fukui(Ritsumeikan Univ.) / Yasuhiko Nakashima(NAIST) / Minoru Watanabe(Shizuoka Univ.) / Minoru Fujishima(Hiroshima Univ.) / Satoru Noge(Numazu National College of Tech.)
副委員長氏名(和) 竹中 崇(NEC) / 井上 美智子(奈良先端大) / / 中野 浩嗣(広島大) / 入江 英嗣(東大) / 本村 真人(北大) / 柴田 裕一郎(長崎大) / 日高 秀人(ルネサス エレクトロニクス) / 廣瀬 文彦(山形大)
副委員長氏名(英) Takashi Takenana(NEC) / Michiko Inoue(NAIST) / / Koji Nakano(Hiroshima Univ.) / Hidetsugu Irie(Univ. of Tokyo) / Masato Motomura(Hokkaido Univ.) / Yuichiro Shibata(Nagasaki Univ.) / Hideto Hidaka(Renesas) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.)
幹事氏名(和) 冨山 宏之(立命館大) / 福田 大輔(富士通研) / 岩田 浩司(鉄道総研) / 吉村 正義(京都産大) / 横山 昌生(シャープ) / 高島 康裕(北九州市大) / 西出 岳央(東芝) / 三吉 貴史(富士通研) / 鯉渕 道紘(NII) / 山田 裕(東芝) / 山口 佳樹(筑波大) / 吉田 毅(広島大) / 小舘 淳一(NTT) / 岩田 展幸(日大)
幹事氏名(英) Hiroyuki Tomiyama(Ritsumeikan Univ.) / Daisuke Fukuda(Fujitsu Labs.) / Koji Iwata(RTRI) / Masayoshi Yoshimura(Kyoto Sangyo Univ.) / Masao Yokoyama(Sharp) / Yasuhiro Takashima(Kitakyushu City Univ.) / Takeo Nishide(Toshiba) / Takashi Miyoshi(Fujitsu Labs.) / Michihiro Koibuchi(NII) / Yutaka Yamada(Toshiba) / Yoshiki Yamaguchi(Univ. of Tsukuba) / Takeshi Yoshida(Hiroshima Univ.) / Junichi Kodate(NTT) / Nobuyuki Iwata(Nihon Univ.)
幹事補佐氏名(和) 谷口 一徹(立命館大) / / / 高前田 伸也(奈良先端大) / 大川 猛(宇都宮大) / 谷川 一哉(広島市大) / 三好 健文(イーツリーズ・ジャパン) / 高宮 真(東大) / 岩崎 裕江(NTT) / 橋本 隆(パナソニック) / 伊藤 浩之(東工大) / 範 公可(電通大) / 坂本 尊(NTT) / 中村 雄一(豊橋技科大)
幹事補佐氏名(英) Ittetsu Taniguchi(Ritsumeikan Univ.) / / / Shinya Takameda(NAIST) / Takeshi Ohkawa(Utsunomiya Univ.) / Kazuya Tanikagawa(Hiroshima City Univ.) / Takefumi Miyoshi(e-trees.Japan) / Makoto Takamiya(Univ. of Tokyo) / Hiroe Iwasaki(NTT) / Takashi Hashimoto(Panasonic) / Hiroyuki Ito(Tokyo Inst. of Tech.) / Pham Konkuha(Univ. of Electro-Comm.) / Takashi Sakamoto(NTT) / Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on VLSI Design Technologies / Technical Committee on Dependable Computing / Special Interest Group on System and LSI Design Methodology / Technical Committee on Computer Systems / Technical Committee on Reconfigurable Systems / Technical Committee on Integrated Circuits and Devices / Technical Committee on Component Parts and Materials
本文の言語 JPN
タイトル(和) 可変成形型電子ビーム露光装置のためのレイアウトのL型分割手法
サブタイトル(和)
タイトル(英) Layout Decomposition into L-Shaped Parts for Variable Shaped-Beam Mask Writer
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) L型分割 / L-Shape Fracturing
キーワード(2)(和/英) 動的計画法 / Dynamic Programming
キーワード(3)(和/英) 可変成形型電子ビーム露光装置 / Variable Shaped Beam Mask Writer
キーワード(4)(和/英) マスクデータ / Mask Data
第 1 著者 氏名(和/英) 星 克也 / Katsuya Hoshi
第 1 著者 所属(和/英) 東京農工大学(略称:東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology(略称:TUAT)
第 2 著者 氏名(和/英) 藤吉 邦洋 / Kunihiro Fujiyoshi
第 2 著者 所属(和/英) 東京農工大学(略称:東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology(略称:TUAT)
発表年月日 2015-12-02
資料番号 VLD2015-52,DC2015-48
巻番号(vol) vol.115
号番号(no) VLD-338,DC-339
ページ範囲 pp.87-92(VLD), pp.87-92(DC),
ページ数 6
発行日 2015-11-24 (VLD, DC)