| 講演名 | 2015-10-29 ［招待講演］イオン注入技術の現状と課題 中島 良樹(日新イオン機器), 濱本 成顕(日新イオン機器), 酒井 滋樹(日新イオン機器), おの田 博(日新イオン機器), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | SDM2015-71 |
| 発行日 | 2015-10-22 (SDM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2015/10/29(から2日開催) |
| 開催地（和） | 東北大学未来研 |
| 開催地（英） | Niche, Tohoku Univ. |
| テーマ（和） | プロセス科学と新プロセス技術 |
| テーマ（英） | Process Science and New Process Technology |
| 委員長氏名（和） | 大野 裕三(筑波大) |
| 委員長氏名（英） | Yuzou Oono(Univ. of Tsukuba) |
| 副委員長氏名（和） | 国清 辰也(ルネサス エレクトロニクス) |
| 副委員長氏名（英） | Tatsuya Kunikiyo(Renesas) |
| 幹事氏名（和） | 黒田 理人(東北大) |
| 幹事氏名（英） | Rihito Kuroda(Tohoku Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 山口 直(ルネサス エレクトロニクス) |
| 幹事補佐氏名（英） | Tadashi Yamaguchi(Renesas) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ［招待講演］イオン注入技術の現状と課題 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | [Invited Talk] Current situation and challenging for ion implantation technology |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 中島 良樹 / Yoshiki Nakashima |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 日新イオン機器株式会社(略称：日新イオン機器) Nissin Ion Equipment Co. LTD.(略称：NIC) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 濱本 成顕 / Nariaki Hamamoto |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 日新イオン機器株式会社(略称：日新イオン機器) Nissin Ion Equipment Co. LTD.(略称：NIC) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 酒井 滋樹 / Shigeki Sakai |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 日新イオン機器株式会社(略称：日新イオン機器) Nissin Ion Equipment Co. LTD.(略称：NIC) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | おの田 博 / Hiroshi Onoda |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 日新イオン機器株式会社(略称：日新イオン機器) Nissin Ion Equipment Co. LTD.(略称：NIC) |
| 発表年月日 | 2015-10-29 |
| 資料番号 | SDM2015-71 |
| 巻番号（vol） | vol.115 |
| 号番号（no） | SDM-280 |
| ページ範囲 | pp.1-6(SDM), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2015-10-22 (SDM) |