| 講演名 | 2015-11-07 触媒反応生成高エネルギーH2Oビームを用いて堆積したZnO薄膜へのNOガス添加効果 石塚 侑己(長岡技科大), 田島 諒一(長岡技科大), 大橋 優樹(長岡技科大), 玉山 泰宏(長岡技科大), 安井 寛治(長岡技科大), |
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| 抄録(和) | 本研究室ではこれまで触媒反応により生成した高エネルギーH2Oビームを用いたCVD法によりa面サファイア基板上に高品質なZnO結晶膜の作製に成功している．本研究ではp型ZnO膜の成長を目指して，膜堆積において一酸化窒素(NO)を供給することでZnO膜への窒素(N)ドーピングを試み，得られた膜の評価を行った．その結果，p型膜は得られなかったもののHall効果測定において残留キャリア密度の減少を確認した．また低温フォトルミネッセンス測定において，いずれの試料からもn=1およびn=2の自由励起子に由来する発光と中性ドナー束縛励起子(D0X)の高エネルギー側にイオン化ドナー束縛励起子(D+X)に由来すると考えられる強い発光が観察されたことから優れた結晶性を有していると推察された．さらに弱いながらも中性アクセプタ束縛励起子(A0X)に由来する発光も観測され，アクセプタのドーピングも生じていることが確認された． |
| 抄録(英) | We have developed a new CVD method for ZnO film growth using a reaction between an alkylzinc (DMZn) and high- temperature H2O generated by a catalytic reaction on Pt-nanoparticles. The resulting ZnO films grown on a-plane (11-20) sapphire (a-Al2O3) substrates exhibited excellent optical and electronic properties. In this study, we have investigated the influence of the NO gas addition during the film growth on the properties of the ZnO films. By the addition of the NO gas, the full-width at half maximum of ω-rocking curve of ZnO(0002) of the films became large compared with those of undoped ZnO films. Although the residual carrier concentration decreased by the addition of the NO gas, p-type ZnO films were not obtained. In the PL spectra of the NO doped ZnO films measured at a low temperature, emission peaks derived from ionized donor bound exciton (D+X) and neutral accepter bound exciton (A0X) in addition to those derived from free exciton (FXA) and neutral donor bound exciton (D0X) were observed. |
| キーワード(和) | ZnO / 触媒反応 / 高エネルギーH2O / NOガス / PLスペクトル |
| キーワード(英) | ZnO / catalytic reaction / high-energy H2O / NO gas / PL spectra |
| 資料番号 | CPM2015-101 |
| 発行日 | 2015-10-30 (CPM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2015/11/6(から2日開催) |
| 開催地（和） | まちなかキャンパス長岡 |
| 開催地（英） | Machinaka Campus Nagaoka |
| テーマ（和） | 薄膜プロセス・材料，一般 |
| テーマ（英） | Thin film processing, etc. |
| 委員長氏名（和） | 野毛 悟(沼津高専) |
| 委員長氏名（英） | Satoru Noge(Numazu National College of Tech.) |
| 副委員長氏名（和） | 廣瀬 文彦(山形大) |
| 副委員長氏名（英） | Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) |
| 幹事氏名（和） | 小舘 淳一(NTT) / 岩田 展幸(日大) |
| 幹事氏名（英） | Junichi Kodate(NTT) / Nobuyuki Iwata(Nihon Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 坂本 尊(NTT) / 中村 雄一(豊橋技科大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Takashi Sakamoto(NTT) / Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Component Parts and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 触媒反応生成高エネルギーH2Oビームを用いて堆積したZnO薄膜へのNOガス添加効果 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Effect of NO addition on the properties of ZnO films grown using high-temperature H2O generated by a catalytic reaction on Pt nanoparticles |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ZnO / ZnO |
| キーワード(2)（和/英） | 触媒反応 / catalytic reaction |
| キーワード(3)（和/英） | 高エネルギーH2O / high-energy H2O |
| キーワード(4)（和/英） | NOガス / NO gas |
| キーワード(5)（和/英） | PLスペクトル / PL spectra |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 石塚 侑己 / Yuki Ishizuka |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学(略称：長岡技科大) Nagaoka University of Technology(略称：NUT) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 田島 諒一 / Ryoichi Tajima |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学(略称：長岡技科大) Nagaoka University of Technology(略称：NUT) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 大橋 優樹 / Yuki Ohashi |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学(略称：長岡技科大) Nagaoka University of Technology(略称：NUT) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 玉山 泰宏 / Yasuhiro Tamayama |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学(略称：長岡技科大) Nagaoka University of Technology(略称：NUT) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 安井 寛治 / Kanzi Yasui |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学(略称：長岡技科大) Nagaoka University of Technology(略称：NUT) |
| 発表年月日 | 2015-11-07 |
| 資料番号 | CPM2015-101 |
| 巻番号（vol） | vol.115 |
| 号番号（no） | CPM-297 |
| ページ範囲 | pp.81-84(CPM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2015-10-30 (CPM) |