講演名 | 2015-10-23 ヘリウム3イオン照射による低損失60GHz帯CMOSオンチップダイポールアンテナの設計 平野 拓一(東工大), 李 寧(東工大), 岡田 健一(東工大), 松澤 昭(東工大), 広川 二郎(東工大), 安藤 真(東工大), 井上 剛(住重試験検査), 坂根 仁(住重試験検査), |
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抄録(和) | 60GHz帯ミリ波CMOSオンチップアンテナはシリコン(Si)基板による損失が大きいという欠点がある。Si基板にヘリウムイオンを照射することで、抵抗率を上げ(導電率を下げ)て損失を低減することが可能である。本稿では、抵抗率10 Ohm cm(導電率10S/m)のSi基板の500um×1000umの領域を抵抗率10k Ohm cm(導電率0.01S/m)と損失を低減させ、高効率なオンチップダイポールアンテナを設計した。ダイポール素子の幅は損失低減と広帯域化のために太い。また整合を取るためにテーパー部とスタブが設けられている。背面放射を抑制するためにチップの裏面は金属で裏打ちしている。電磁界シミュレーションの結果、62GHzでの反射は-15dB、放射効率は48%、チップ正面方向の利得は2.7dBiとなった。 |
抄録(英) | 60 GHz CMOS on-chip antenna is low radiation efficiency due to large loss of silicon (Si) substrate. In this paper, a 60 GHz CMOS on-chip dipole antenna with helium-3 ion irradiated silicon substrate is designed. Rectangular region with 500 um x 1000 um around the dipole is irradiated by helium-3 ion and resistivity is increased from 10 Ohm cm (10 S/m) to 10 k Ohm cm (0.01 S/m). The width of dipole section is wide for broad bandwidth and reduction of conductor loss. There are a taper section and stub for impedance matching. A backing metal reduces back radiation. At 62 GHz, the calculated reflection, radiation efficiency and gain are -15 dB, 48 % and 2.7 dBi, respectively. |
キーワード(和) | ミリ波 / オンチップアンテナ / ダイポールアンテナ / CMOS / ヘリウムイオン照射 / 放射効率 |
キーワード(英) | Millimeter-wave / On-chip antenna / Dipole antenna / CMOS / Helium ion irradiation / Radiation efficiency |
資料番号 | EMCJ2015-79,MW2015-118,EST2015-89 |
発行日 | 2015-10-15 (EMCJ, MW, EST) |
研究会情報 | |
研究会 | EMCJ / IEE-EMC / MW / EST |
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開催期間 | 2015/10/22(から2日開催) |
開催地(和) | 東北大学 片平キャンパス さくらホール |
開催地(英) | Sakura Hall, Katahira Campus, Tohoku Univ. |
テーマ(和) | マイクロ波,電磁界シミュレーション,EMC一般 |
テーマ(英) | Microwave, Electromagnetic simulation, EMC, etc. |
委員長氏名(和) | 曽根 秀昭(東北大) / 川又 憲(東北学院大学) / 石川 容平(京大) / 柏 達也(北見工大) |
委員長氏名(英) | Hideaki Sone(Tohoku Univ.) / Ken Kawamata(Tohoku Gakuin University) / Yohei Ishikawa(Kyoto Univ.) / Tatsuya Kashiwa(Kitami Inst. of Tech.) |
副委員長氏名(和) | 和田 修己(京大) / / 中津川 征士(NTT) / 九鬼 孝夫(国士舘大) / 西川 健二郎(鹿児島大) / 木村 秀明(NTT) / 平田 晃正(名工大) / 大貫 進一郎(日大) |
副委員長氏名(英) | Osami Wada(Kyoto Univ.) / / Masashi Nakatsugawa(NTT) / Takao Kuki(Kokushikan Univ.) / Kenjiro Nishikawa(Kagoshima Univ.) / Hideaki Kimura(NTT) / Akimasa Hirata(Nagoya Inst. of Tech.) / Shinichiro Ohnuki(Nihon Univ.) |
幹事氏名(和) | 豊田 啓孝(岡山大) / 大坂 英樹(日立) / 牛尾 知雄(大阪大学) / 関口 秀紀(海上技術安全研究所) / 山口 陽(NTT) / 佐藤 潤二(パナソニック) / 平野 拓一(東工大) / 辻 寧英(室蘭工大) |
幹事氏名(英) | Yoshitaka Toyota(Okayama Univ.) / Hideki Osaka(Hitachi) / Tomoo Ushio(Osaka University) / Hidenori Sekiguchi(National Maritime Research Institute) / Yo Yamaguchi(NTT) / Junji Sato(Panasonic) / Takuichi Hirano(Tokyo Inst. of Tech.) / Yasuhide Tsuji(Muroran Inst. of Tech.) |
幹事補佐氏名(和) | 高橋 篤弘(豊田中研) / 萓野 良樹(秋田大) / 勝部 勇作(日立) / 林 優一(東北学院大学) / 石川 亮(電通大) / 關谷 尚人(山梨大) / 毛塚 敦(電子航法研) / 田口 健治(北見工大) |
幹事補佐氏名(英) | Atsuhiro Takahashi(Toyota Central R&D Labs.) / Yoshiki Kayano(Akita Univ.) / Yusaku Katsube(Hitachi) / Yu-chi Hayashi(Tohoku Gakuin University) / Ryo Ishikawa(Univ. of Electro-Comm.) / Naoto Sekiya(Univ. of Yamanashi) / Atsushi Kezuka(ENRI) / Kenji Taguchi(Kitami Inst. of Tech.) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Technical Committee on Electromagnetic Compatibility / Technical Meeting on Electromagnetic Compatibility / Technical Committee on Microwaves / Technical Committee on Electronics Simulation Technology |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | ヘリウム3イオン照射による低損失60GHz帯CMOSオンチップダイポールアンテナの設計 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Design of Low Loss 60 GHz CMOS On-Chip Dipole Antenna By Helium-3 Ion Irradiation |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | ミリ波 / Millimeter-wave |
キーワード(2)(和/英) | オンチップアンテナ / On-chip antenna |
キーワード(3)(和/英) | ダイポールアンテナ / Dipole antenna |
キーワード(4)(和/英) | CMOS / CMOS |
キーワード(5)(和/英) | ヘリウムイオン照射 / Helium ion irradiation |
キーワード(6)(和/英) | 放射効率 / Radiation efficiency |
第 1 著者 氏名(和/英) | 平野 拓一 / Takuichi Hirano |
第 1 著者 所属(和/英) | 東京工業大学(略称:東工大) Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech.) |
第 2 著者 氏名(和/英) | 李 寧 / Ning Li |
第 2 著者 所属(和/英) | 東京工業大学(略称:東工大) Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech.) |
第 3 著者 氏名(和/英) | 岡田 健一 / Kenichi Okada |
第 3 著者 所属(和/英) | 東京工業大学(略称:東工大) Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech.) |
第 4 著者 氏名(和/英) | 松澤 昭 / Akira Matsuzawa |
第 4 著者 所属(和/英) | 東京工業大学(略称:東工大) Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech.) |
第 5 著者 氏名(和/英) | 広川 二郎 / Jiro Hirokawa |
第 5 著者 所属(和/英) | 東京工業大学(略称:東工大) Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech.) |
第 6 著者 氏名(和/英) | 安藤 真 / Makoto Ando |
第 6 著者 所属(和/英) | 東京工業大学(略称:東工大) Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech.) |
第 7 著者 氏名(和/英) | 井上 剛 / Tsuyoshi Inoue |
第 7 著者 所属(和/英) | 住重試験検査株式会社(略称:住重試験検査) S.H.I. Examination and Inspection, Ltd.(略称:SHIEI) |
第 8 著者 氏名(和/英) | 坂根 仁 / Hitoshi Sakane |
第 8 著者 所属(和/英) | 住重試験検査株式会社(略称:住重試験検査) S.H.I. Examination and Inspection, Ltd.(略称:SHIEI) |
発表年月日 | 2015-10-23 |
資料番号 | EMCJ2015-79,MW2015-118,EST2015-89 |
巻番号(vol) | vol.115 |
号番号(no) | EMCJ-259,MW-260,EST-261 |
ページ範囲 | pp.123-127(EMCJ), pp.123-127(MW), pp.123-127(EST), |
ページ数 | 5 |
発行日 | 2015-10-15 (EMCJ, MW, EST) |