講演名 2015-10-23
ヘリウム3イオン照射による低損失60GHz帯CMOSオンチップダイポールアンテナの設計
平野 拓一(東工大), 李 寧(東工大), 岡田 健一(東工大), 松澤 昭(東工大), 広川 二郎(東工大), 安藤 真(東工大), 井上 剛(住重試験検査), 坂根 仁(住重試験検査),
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抄録(和) 60GHz帯ミリ波CMOSオンチップアンテナはシリコン(Si)基板による損失が大きいという欠点がある。Si基板にヘリウムイオンを照射することで、抵抗率を上げ(導電率を下げ)て損失を低減することが可能である。本稿では、抵抗率10 Ohm cm(導電率10S/m)のSi基板の500um×1000umの領域を抵抗率10k Ohm cm(導電率0.01S/m)と損失を低減させ、高効率なオンチップダイポールアンテナを設計した。ダイポール素子の幅は損失低減と広帯域化のために太い。また整合を取るためにテーパー部とスタブが設けられている。背面放射を抑制するためにチップの裏面は金属で裏打ちしている。電磁界シミュレーションの結果、62GHzでの反射は-15dB、放射効率は48%、チップ正面方向の利得は2.7dBiとなった。
抄録(英) 60 GHz CMOS on-chip antenna is low radiation efficiency due to large loss of silicon (Si) substrate. In this paper, a 60 GHz CMOS on-chip dipole antenna with helium-3 ion irradiated silicon substrate is designed. Rectangular region with 500 um x 1000 um around the dipole is irradiated by helium-3 ion and resistivity is increased from 10 Ohm cm (10 S/m) to 10 k Ohm cm (0.01 S/m). The width of dipole section is wide for broad bandwidth and reduction of conductor loss. There are a taper section and stub for impedance matching. A backing metal reduces back radiation. At 62 GHz, the calculated reflection, radiation efficiency and gain are -15 dB, 48 % and 2.7 dBi, respectively.
キーワード(和) ミリ波 / オンチップアンテナ / ダイポールアンテナ / CMOS / ヘリウムイオン照射 / 放射効率
キーワード(英) Millimeter-wave / On-chip antenna / Dipole antenna / CMOS / Helium ion irradiation / Radiation efficiency
資料番号 EMCJ2015-79,MW2015-118,EST2015-89
発行日 2015-10-15 (EMCJ, MW, EST)

研究会情報
研究会 EMCJ / IEE-EMC / MW / EST
開催期間 2015/10/22(から2日開催)
開催地(和) 東北大学 片平キャンパス さくらホール
開催地(英) Sakura Hall, Katahira Campus, Tohoku Univ.
テーマ(和) マイクロ波,電磁界シミュレーション,EMC一般
テーマ(英) Microwave, Electromagnetic simulation, EMC, etc.
委員長氏名(和) 曽根 秀昭(東北大) / 川又 憲(東北学院大学) / 石川 容平(京大) / 柏 達也(北見工大)
委員長氏名(英) Hideaki Sone(Tohoku Univ.) / Ken Kawamata(Tohoku Gakuin University) / Yohei Ishikawa(Kyoto Univ.) / Tatsuya Kashiwa(Kitami Inst. of Tech.)
副委員長氏名(和) 和田 修己(京大) / / 中津川 征士(NTT) / 九鬼 孝夫(国士舘大) / 西川 健二郎(鹿児島大) / 木村 秀明(NTT) / 平田 晃正(名工大) / 大貫 進一郎(日大)
副委員長氏名(英) Osami Wada(Kyoto Univ.) / / Masashi Nakatsugawa(NTT) / Takao Kuki(Kokushikan Univ.) / Kenjiro Nishikawa(Kagoshima Univ.) / Hideaki Kimura(NTT) / Akimasa Hirata(Nagoya Inst. of Tech.) / Shinichiro Ohnuki(Nihon Univ.)
幹事氏名(和) 豊田 啓孝(岡山大) / 大坂 英樹(日立) / 牛尾 知雄(大阪大学) / 関口 秀紀(海上技術安全研究所) / 山口 陽(NTT) / 佐藤 潤二(パナソニック) / 平野 拓一(東工大) / 辻 寧英(室蘭工大)
幹事氏名(英) Yoshitaka Toyota(Okayama Univ.) / Hideki Osaka(Hitachi) / Tomoo Ushio(Osaka University) / Hidenori Sekiguchi(National Maritime Research Institute) / Yo Yamaguchi(NTT) / Junji Sato(Panasonic) / Takuichi Hirano(Tokyo Inst. of Tech.) / Yasuhide Tsuji(Muroran Inst. of Tech.)
幹事補佐氏名(和) 高橋 篤弘(豊田中研) / 萓野 良樹(秋田大) / 勝部 勇作(日立) / 林 優一(東北学院大学) / 石川 亮(電通大) / 關谷 尚人(山梨大) / 毛塚 敦(電子航法研) / 田口 健治(北見工大)
幹事補佐氏名(英) Atsuhiro Takahashi(Toyota Central R&D Labs.) / Yoshiki Kayano(Akita Univ.) / Yusaku Katsube(Hitachi) / Yu-chi Hayashi(Tohoku Gakuin University) / Ryo Ishikawa(Univ. of Electro-Comm.) / Naoto Sekiya(Univ. of Yamanashi) / Atsushi Kezuka(ENRI) / Kenji Taguchi(Kitami Inst. of Tech.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Electromagnetic Compatibility / Technical Meeting on Electromagnetic Compatibility / Technical Committee on Microwaves / Technical Committee on Electronics Simulation Technology
本文の言語 JPN
タイトル(和) ヘリウム3イオン照射による低損失60GHz帯CMOSオンチップダイポールアンテナの設計
サブタイトル(和)
タイトル(英) Design of Low Loss 60 GHz CMOS On-Chip Dipole Antenna By Helium-3 Ion Irradiation
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) ミリ波 / Millimeter-wave
キーワード(2)(和/英) オンチップアンテナ / On-chip antenna
キーワード(3)(和/英) ダイポールアンテナ / Dipole antenna
キーワード(4)(和/英) CMOS / CMOS
キーワード(5)(和/英) ヘリウムイオン照射 / Helium ion irradiation
キーワード(6)(和/英) 放射効率 / Radiation efficiency
第 1 著者 氏名(和/英) 平野 拓一 / Takuichi Hirano
第 1 著者 所属(和/英) 東京工業大学(略称:東工大)
Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech.)
第 2 著者 氏名(和/英) 李 寧 / Ning Li
第 2 著者 所属(和/英) 東京工業大学(略称:東工大)
Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech.)
第 3 著者 氏名(和/英) 岡田 健一 / Kenichi Okada
第 3 著者 所属(和/英) 東京工業大学(略称:東工大)
Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech.)
第 4 著者 氏名(和/英) 松澤 昭 / Akira Matsuzawa
第 4 著者 所属(和/英) 東京工業大学(略称:東工大)
Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech.)
第 5 著者 氏名(和/英) 広川 二郎 / Jiro Hirokawa
第 5 著者 所属(和/英) 東京工業大学(略称:東工大)
Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech.)
第 6 著者 氏名(和/英) 安藤 真 / Makoto Ando
第 6 著者 所属(和/英) 東京工業大学(略称:東工大)
Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech.)
第 7 著者 氏名(和/英) 井上 剛 / Tsuyoshi Inoue
第 7 著者 所属(和/英) 住重試験検査株式会社(略称:住重試験検査)
S.H.I. Examination and Inspection, Ltd.(略称:SHIEI)
第 8 著者 氏名(和/英) 坂根 仁 / Hitoshi Sakane
第 8 著者 所属(和/英) 住重試験検査株式会社(略称:住重試験検査)
S.H.I. Examination and Inspection, Ltd.(略称:SHIEI)
発表年月日 2015-10-23
資料番号 EMCJ2015-79,MW2015-118,EST2015-89
巻番号(vol) vol.115
号番号(no) EMCJ-259,MW-260,EST-261
ページ範囲 pp.123-127(EMCJ), pp.123-127(MW), pp.123-127(EST),
ページ数 5
発行日 2015-10-15 (EMCJ, MW, EST)