講演名 2015-10-14
超高密度イオン照射ビットパターン媒体実現のためのMnGa膜の薄膜化
松永 隆雅(名大), 福田 憲吾(名大), 大島 大輝(名大), 加藤 剛志(名大), 岩田 聡(名大), 綱島 滋(名古屋産業科学研),
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和)
抄録(英)
キーワード(和)
キーワード(英)
資料番号 CPM2015-79
発行日 2015-10-07 (CPM)

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2015/10/14(から1日開催)
開催地(和) 機械振興会館
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg.
テーマ(和) 光記録技術・電子材料、一般
テーマ(英)
委員長氏名(和) 野毛 悟(沼津高専)
委員長氏名(英) Satoru Noge(Numazu National College of Tech.)
副委員長氏名(和) 廣瀬 文彦(山形大)
副委員長氏名(英) Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.)
幹事氏名(和) 小舘 淳一(NTT) / 岩田 展幸(日大)
幹事氏名(英) Junichi Kodate(NTT) / Nobuyuki Iwata(Nihon Univ.)
幹事補佐氏名(和) 坂本 尊(NTT) / 中村 雄一(豊橋技科大)
幹事補佐氏名(英) Takashi Sakamoto(NTT) / Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Component Parts and Materials
本文の言語 JPN
タイトル(和) 超高密度イオン照射ビットパターン媒体実現のためのMnGa膜の薄膜化
サブタイトル(和)
タイトル(英) Thin film MnGa fabrication for ultra high density ion irradiation bit patterned media
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英)
第 1 著者 氏名(和/英) 松永 隆雅 / Takamasa Matsunaga
第 1 著者 所属(和/英) 名古屋大学(略称:名大)
Nagoya University(略称:Nagoya Univ.)
第 2 著者 氏名(和/英) 福田 憲吾 / Kengo Fukuta
第 2 著者 所属(和/英) 名古屋大学(略称:名大)
Nagoya University(略称:Nagoya Univ.)
第 3 著者 氏名(和/英) 大島 大輝 / Daiki Oshima
第 3 著者 所属(和/英) 名古屋大学(略称:名大)
Nagoya University(略称:Nagoya Univ.)
第 4 著者 氏名(和/英) 加藤 剛志 / Takeshi Kato
第 4 著者 所属(和/英) 名古屋大学(略称:名大)
Nagoya University(略称:Nagoya Univ.)
第 5 著者 氏名(和/英) 岩田 聡 / Satoshi Iwata
第 5 著者 所属(和/英) 名古屋大学(略称:名大)
Nagoya University(略称:Nagoya Univ.)
第 6 著者 氏名(和/英) 綱島 滋 / Shigeru Tsunashima
第 6 著者 所属(和/英) 名古屋産業科学研究所(略称:名古屋産業科学研)
Nagoya Industrial Science Research Institute(略称:NISRI)
発表年月日 2015-10-14
資料番号 CPM2015-79
巻番号(vol) vol.115
号番号(no) CPM-250
ページ範囲 pp.13-16(CPM),
ページ数 4
発行日 2015-10-07 (CPM)