| 講演名 | 2015-06-19 ペチーニ法で作製したBi1+xFeO3 (x = 0.0, 0.2)ターゲットおよび パルスレーザー堆積法で作製したBiFeO3薄膜の化学当量性の評価 王 春(日大), 大島 佳祐(日大), 稲葉 隆哲(日大), 宋 華平(日大), 渡部 雄太(日大), 永田 知子(日大), 橋本 拓也(日大), 高瀬 浩一(日大), 山本 寛(日大), 岩田 展幸(日大), |
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| 抄録(和) | パルスレーザー堆積法を用いて作製したBiFeO3薄膜の表面組成比について調べた。BiFeO3薄膜表面においてBi/Fe＝0.72でBiが欠損していることがわかった。また、レーザーアブレーションした後のBiFeO3ターゲット表面形状及び元素組成比を調べた。BiFeO3ターゲット表面のレーザースポット内の位置により異なる表面像を観測した。レーザーアブレーション回数によって、BFOターゲットのBi/Feの組成比も異なったことがわかった。Biが不足していることよりBi過剰なBi1.2FeOxターゲットを作製した。Bi1.2FeOxターゲットの密度は85.1%となった。 |
| 抄録(英) | The study of the surface composition of BiFeO3 thin films grown by pulsed laser deposition showed that the surface of BiFeO3 is bismuth-poor with a ratio of Bi and Fe of Bi/Fe=0.72. We also investigated the surface composition and morphology of BiFeO3 target after laser ablation. The Bi/Fe ratios at the laser ablation positions were different if the times of pulsed were different. While all the Bi/Fe ratios were lower than 1 under different laser ablation conditions. In order to solve the problem of bismuth lack in the target and deposited BiFeO3 films. Bi-rich Bi1.2FeOx target was made successfully. The density of Bi1.2FeOx target is 85.1%. |
| キーワード(和) | BiFeO3 / ペチーニ法 / Bi過剰 / BFOターゲット |
| キーワード(英) | BiFeO3 / Pechini method / Bi excess / BFO target |
| 資料番号 | EMD2015-12,CPM2015-22,OME2015-25 |
| 発行日 | 2015-06-12 (EMD, CPM, OME) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMD / CPM / OME |
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| 開催期間 | 2015/6/19(から1日開催) |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 材料デバイスサマーミーティング |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | 関川 純哉(静岡大) / 野毛 悟(沼津高専) / 松田 直樹(産総研) |
| 委員長氏名（英） | Junya Sekikawa(Shizuoka Univ.) / Satoru Noge(Numazu National College of Tech.) / Naoki Matsuda(AIST) |
| 副委員長氏名（和） | 阿部 宜輝(NTT) / 廣瀬 文彦(山形大) / 森 竜雄(愛知工大) |
| 副委員長氏名（英） | Yoshiteru Abe(NTT) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) / Tatsuo Mori(Aichi Inst. of Tech.) |
| 幹事氏名（和） | 澤田 滋(住友電装) / 鈴木 健司(富士電機機器制御) / 小舘 淳一(NTT) / 岩田 展幸(日大) / 鴻野 晃洋(NTT) / 染谷 隆夫(東大) |
| 幹事氏名（英） | Shigeru Sawada(Sumitomo Denso) / Kenji Suzuki(Fujielectric) / Junichi Kodate(NTT) / Nobuyuki Iwata(Nihon Univ.) / Akihiro Kohno(NTT) / Takao Someya(Univ. of Tokyo) |
| 幹事補佐氏名（和） | 和田 真一(TMCシステム) / 坂本 尊(NTT) / 中村 雄一(豊橋技科大) / 梶井 博武(阪大) / 田口 大(東工大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Shinichi Wada(TMC system) / Takashi Sakamoto(NTT) / Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) / Hirotake Kajii(Osaka Univ.) / Dai Taguchi(Tokyo Inst. of Tech.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Electromechanical Devices / Technical Committee on Component Parts and Materials / Technical Committee on Organic Molecular Electronics |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ペチーニ法で作製したBi1+xFeO3 (x = 0.0, 0.2)ターゲットおよび パルスレーザー堆積法で作製したBiFeO3薄膜の化学当量性の評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Stoichiometric study of Bi1+xFeO3 (x =0.0, 0.2) target prepared by Pechini method and BiFeO3 thin film fabricated by pulsed laser deposition method |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | BiFeO3 / BiFeO3 |
| キーワード(2)（和/英） | ペチーニ法 / Pechini method |
| キーワード(3)（和/英） | Bi過剰 / Bi excess |
| キーワード(4)（和/英） | BFOターゲット / BFO target |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 王 春 / Chun Wang |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 日大大学(略称：日大) Nihon University(略称：Nihon Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 大島 佳祐 / Keisuke Oshima |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 日大大学(略称：日大) Nihon University(略称：Nihon Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 稲葉 隆哲 / Takaaki Inaba |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 日大大学(略称：日大) Nihon University(略称：Nihon Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 宋 華平 / Huaping Song |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 日大大学(略称：日大) Nihon University(略称：Nihon Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 渡部 雄太 / Yuta Watabe |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 日大大学(略称：日大) Nihon University(略称：Nihon Univ.) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 永田 知子 / Tomoko Nagata |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 日大大学(略称：日大) Nihon University(略称：Nihon Univ.) |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 橋本 拓也 / Takuya Hashimoto |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 日大大学(略称：日大) Nihon University(略称：Nihon Univ.) |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 高瀬 浩一 / Kouichi Takase |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 日大大学(略称：日大) Nihon University(略称：Nihon Univ.) |
| 第 9 著者 氏名（和/英） | 山本 寛 / Hiroshi Yamamoto |
| 第 9 著者 所属（和/英） | 日大大学(略称：日大) Nihon University(略称：Nihon Univ.) |
| 第 10 著者 氏名（和/英） | 岩田 展幸 / Nobuyuki Iwata |
| 第 10 著者 所属（和/英） | 日大大学(略称：日大) Nihon University(略称：Nihon Univ.) |
| 発表年月日 | 2015-06-19 |
| 資料番号 | EMD2015-12,CPM2015-22,OME2015-25 |
| 巻番号（vol） | vol.115 |
| 号番号（no） | EMD-103,CPM-104,OME-105 |
| ページ範囲 | pp.5-9(EMD), pp.5-9(CPM), pp.5-9(OME), |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2015-06-12 (EMD, CPM, OME) |