| 講演名 | 2015-05-28 液体原料を用いた熱CVDによるグラフェンの合成 岸 直希(名工大), 岩田 鷹明(名工大), 岩間 一樹(名工大), 包 建峰(名工大), 劉 会濤(名工大), 曽我 哲夫(名工大), |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | 我々は安全・簡便なグラフェン合成を目指し、炭素源として液体原料であるエタノールを、またキャリアガスとして窒素を用いたグラフェンCVDの研究を行っている。本稿では合成されるグラフェンの反応炉温度依存性、また炭素源供給前のアニール処理時間依存性について報告する。得られるグラフェンは反応炉温度に依存し、温度を高くするに従い層数の少ないグラフェンが得られ、質も高くなることがわかった。また炭素源供給前のアニール処理時間もエタノールによるグラフェンCVDにおいて重要なパラメーターとなり、アニール時間が長くなるに従い、層数の少ないグラフェン領域が大きくなることがわかった。 |
| 抄録(英) | The synthesis of graphenes on Ni foils by thermal chemical vapor deposition (CVD) using ethanol as a liquid precursor has been reported. The effects of growth temperature and the annealing time were investigated. Thin layer graphenes were synthesized by CVD at high temperature. Increasing the reaction temperature improves the graphene quality. We found that the annealing time also affects to the graphene growth. The area of thin graphene layers increase with increasing the annealing time. |
| キーワード(和) | グラフェン / 熱CVD / ラマン分光分析 |
| キーワード(英) | Graphenes / Thermal chemical vapor deposition / Raman spectroscopy |
| 資料番号 | ED2015-16,CPM2015-1,SDM2015-18 |
| 発行日 | 2015-05-21 (ED, CPM, SDM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED / CPM / SDM |
|---|---|
| 開催期間 | 2015/5/28(から2日開催) |
| 開催地（和） | 豊橋技科大VBL棟 |
| 開催地（英） | Venture Business Laboratory, Toyohashi University of Technology |
| テーマ（和） | 結晶成長、評価及びデバイス（化合物、Si、SiGe、電子・光材料） |
| テーマ（英） | crystal growth、devices characterization , etc. |
| 委員長氏名（和） | 原 直紀(富士通研) / 高野 泰(静岡大) / 大野 裕三(筑波大) |
| 委員長氏名（英） | Naoki Hara(Fujitsu Labs.) / Yasushi Takano(Shizuoka Univ.) / Yuzou Oono(Univ. of Tsukuba) |
| 副委員長氏名（和） | 前澤 宏一(富山大) / 野毛 悟(沼津高専) / 国清 辰也(ルネサス エレクトロニクス) |
| 副委員長氏名（英） | Koichi Maezawa(Univ. of Toyama) / Satoru Noge(Numazu National College of Tech.) / Tatsuya Kunikiyo(Renesas) |
| 幹事氏名（和） | 葛西 誠也(北大) / 松永 高治(NEC) / 佐藤 知正(神奈川大) / 小舘 淳一(NTT) / 黒田 理人(東北大) |
| 幹事氏名（英） | Seiya Kasai(Hokkaido Univ.) / Koji Matsunaga(NEC) / Tomomasa Sato(Kanagawa Univ.) / Junichi Kodate(NTT) / Rihito Kuroda(Tohoku Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 鈴木 寿一(北陸先端大) / 新井 学(新日本無線) / 岩田 展幸(日大) / 坂本 尊(NTT) / 山口 直(ルネサス エレクトロニクス) |
| 幹事補佐氏名（英） | Toshikazu Suzuki(JAIST) / Manabu Arai(New JRC) / Nobuyuki Iwata(Nihon Univ.) / Takashi Sakamoto(NTT) / Tadashi Yamaguchi(Renesas) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Electron Device / Technical Committee on Component Parts and Materials / Technical Committee on Silicon Device and Materials |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 液体原料を用いた熱CVDによるグラフェンの合成 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Synthesis of graphenes by chemical vapor deposition using liquid precursor |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | グラフェン / Graphenes |
| キーワード(2)（和/英） | 熱CVD / Thermal chemical vapor deposition |
| キーワード(3)（和/英） | ラマン分光分析 / Raman spectroscopy |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 岸 直希 / Naoki Kishi |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 名古屋工業大学(略称：名工大) Nagoya Institute of Technology(略称：NITech) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 岩田 鷹明 / Takaaki Iwata |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 名古屋工業大学(略称：名工大) Nagoya Institute of Technology(略称：NITech) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 岩間 一樹 / Kazuki Iwama |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 名古屋工業大学(略称：名工大) Nagoya Institute of Technology(略称：NITech) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 包 建峰 / Jianfeng Bao |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 名古屋工業大学(略称：名工大) Nagoya Institute of Technology(略称：NITech) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 劉 会濤 / Liu Huito |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 名古屋工業大学(略称：名工大) Nagoya Institute of Technology(略称：NITech) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 曽我 哲夫 / Tetsuo Soga |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 名古屋工業大学(略称：名工大) Nagoya Institute of Technology(略称：NITech) |
| 発表年月日 | 2015-05-28 |
| 資料番号 | ED2015-16,CPM2015-1,SDM2015-18 |
| 巻番号（vol） | vol.115 |
| 号番号（no） | ED-63,CPM-64,SDM-65 |
| ページ範囲 | pp.1-4(ED), pp.1-4(CPM), pp.1-4(SDM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2015-05-21 (ED, CPM, SDM) |