| 講演名 | 2015-04-17 加湿酸素プラズマガスを用いた酸化ハフニウム膜の室温原子層堆積の反応機構 鹿又 健作(山形大), 大場 尚志(山形大), パンシラ ポープンブン(山形大), 有馬 ボシール アハンマド(山形大), 久保田 繁(山形大), 平原 和弘(山形大), 廣瀬 文彦(山形大), |
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| 抄録(和) | 我々はtetrakis(ethylmethylamino)hafnium(TEMAH)とプラズマ励起された酸素含有水蒸気を用いた酸化ハフニウム膜の室温原子層堆積法を開発した。加湿酸素プラズマガスは酸化ハフニウム表面に吸着したTEMAHを効果的に酸化すると同時にTEMAHの吸着サイトとなるOH基を室温で成長表面上に形成する。本方法では、酸化ハフニウム膜の成長速度は室温において0.26 nm/cycleと測定された。また、酸化ハフニウム膜の室温原子層堆積における反応素過程を多重内部反射赤外吸収分光法(MIR-IRAS)によって評価した結果を前回の研究会で報告した。本研究ではMIR-IRASの観察から得られたTEMAHの飽和吸着特性をラングミュアー型吸着モデル、多数サイト吸着モデルによるフィッティングを行い、吸着サイト数を推定し、反応モデルを構築したので報告する。 |
| 抄録(英) | Room-temperature atomic layer deposition (ALD) of hafnium dioxide is developed using tetrakis(ethylmethylamino)hafnium (TEMAH) and plasma-excited water and oxygen vapor generated from a remote plasma source. The plasma-excited water and oxygen vapor is effective in oxidizing the TEMAH-adsorbed HfO2 surface while leaving OH sites on the growing surface at room temperature for further TEMAH adsorption. The growth rate is measured to be 0.26 nm/cycle at room temperature. The TEMAH adsorption and its oxidation on HfO2 were investigated by multiple-internal-refraction infrared absorption spectroscopy (MIR-IRAS). In thin work, we constructed a reaction model of the RT HfO2 ALD by MIR-IRAS and adsorption site fitting. |
| キーワード(和) | 原子層堆積 / HfO2 / 加湿酸素プラズマガス / 赤外吸収分光法 / プラズマ分光 |
| キーワード(英) | ALD / TEMAH / Plasma-excited H2O and O2 / MIR-IRAS / Plasma optical spectroscopy |
| 資料番号 | ED2015-11 |
| 発行日 | 2015-04-09 (ED) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
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| 開催期間 | 2015/4/16(から2日開催) |
| 開催地（和） | 東北大通研ナノスピン実験施設 |
| 開催地（英） | Laboratory for Nanoelectronics and Spintronics |
| テーマ（和） | 有機デバイス・酸化物デバイス・一般 |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | 原 直紀(富士通研) |
| 委員長氏名（英） | Naoki Hara(Fujitsu Labs.) |
| 副委員長氏名（和） | 前澤 宏一(富山大) |
| 副委員長氏名（英） | Koichi Maezawa(Univ. of Toyama) |
| 幹事氏名（和） | 葛西 誠也(北大) / 松永 高治(NEC) |
| 幹事氏名（英） | Seiya Kasai(Hokkaido Univ.) / Koji Matsunaga(NEC) |
| 幹事補佐氏名（和） | 鈴木 寿一(北陸先端大) / 新井 学(新日本無線) |
| 幹事補佐氏名（英） | Toshikazu Suzuki(JAIST) / Manabu Arai(New JRC) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Electron Device |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 加湿酸素プラズマガスを用いた酸化ハフニウム膜の室温原子層堆積の反応機構 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Reaction mechanism of room temperature HfO2 atomic layer deposition using remote plasma excited water and oxygen |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 原子層堆積 / ALD |
| キーワード(2)（和/英） | HfO2 / TEMAH |
| キーワード(3)（和/英） | 加湿酸素プラズマガス / Plasma-excited H2O and O2 |
| キーワード(4)（和/英） | 赤外吸収分光法 / MIR-IRAS |
| キーワード(5)（和/英） | プラズマ分光 / Plasma optical spectroscopy |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 鹿又 健作 / Kensaku Kanomata |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 大場 尚志 / Hisashi Ohba |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | パンシラ ポープンブン / P. Pungboon Pansila |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 有馬 ボシール アハンマド / Bashir Ahmmad Arima |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 久保田 繁 / Shigeru Kubota |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 平原 和弘 / Kazuhiro Hirahara |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 発表年月日 | 2015-04-17 |
| 資料番号 | ED2015-11 |
| 巻番号（vol） | vol.115 |
| 号番号（no） | ED-5 |
| ページ範囲 | pp.53-58(ED), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2015-04-09 (ED) |