| 講演名 | 2024-01-31 ［招待講演］チャージトラップ制御によるHfO-FeFETのEndurance改善 鈴木 都文(キオクシア), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | SDM2023-78 |
| 発行日 | 2024-01-24 (SDM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2024/1/31(から1日開催) |
| 開催地（和） | 金沢工業大学大学院 虎ノ門キャンパス |
| 開催地（英） | KIT Toranomon Graduate School |
| テーマ（和） | 先端デバイス・ プロセス技術（IEDM特集） |
| テーマ（英） | Advanced semiconductor devices and processes (Special feature on IEDM) |
| 委員長氏名（和） | 大見 俊一郎(東工大) |
| 委員長氏名（英） | Shunichiro Ohmi(Tokyo Inst. of Tech.) |
| 副委員長氏名（和） | 宇佐美 達矢(ラピダス) |
| 副委員長氏名（英） | Tatsuya Usami(Rapidus) |
| 幹事氏名（和） | 諏訪 智之(東北大) / 野田 泰史(パナソニック) |
| 幹事氏名（英） | Tomoyuki Suwa(Tohoku Univ.) / Taiji Noda(Panasonic) |
| 幹事補佐氏名（和） | 細井 卓治(関西学院大) / 二瀬 卓也(ウエスタンデジタル) |
| 幹事補佐氏名（英） | Takuji Hosoi(Kwansei Gakuin Univ.) / Takuya Futase(Western Digital) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ［招待講演］チャージトラップ制御によるHfO-FeFETのEndurance改善 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | [Invited Talk] Endurance Improvement of HfO-FeFET by Controlled Charge Trapping |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 鈴木 都文 / Kunifumi Suzuki |
| 第 1 著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社(略称：キオクシア) KIOXIA CORPORATION(略称：KIOXIA) |
| 発表年月日 | 2024-01-31 |
| 資料番号 | SDM2023-78 |
| 巻番号（vol） | vol.123 |
| 号番号（no） | SDM-375 |
| ページ範囲 | pp.17-19(SDM), |
| ページ数 | 3 |
| 発行日 | 2024-01-24 (SDM) |