| 講演名 | 2023-12-07 Graphene-Insulator-Semiconductor構造電子源における多重反射の効果 小市 崇央(阪大), 河嶋 祥吾(阪大), 阿保 智(阪大), 若家 冨士男(阪大), 長尾 昌善(産総研), 村上 勝久(産総研), |
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| 抄録(和) | Graphene-Insulator-Semiconductor構造電子源において、グラフェン層は電子ビームの特性に変化を与えられる可能性がある。本研究では電子ビームの単色性に着目し、グラフェン層の電子透過の数値シミュレーションを行った。このとき、電子の半波長の整数倍と層間距離が一致するエネルギーにおいて透過率が減少しており、多重反射によるエネルギーフィルタの効果を確認した。特に13.4 eVで透過率が減少し、透過波のエネルギースペクトルが広がった。 |
| 抄録(英) | In the graphene-insulator-semiconductor-structured electron source, the characteristics of emitted electron beam could be modified by transmission through the graphene. In this study, numerical simulations are performed to discuss the monochromaticity of the electron beam transmitted through the graphene. The transmittance decreases in the condition that half wavelength multiplied by an integer matches with the inter-layer distance of graphene. This leads to the energy filter effect for the electron beam. The transmittance decreases at 13.4 eV, for example, leading that the energy spectrum of the transmitted electron becomes broad around the energy. |
| キーワード(和) | グラフェン / GIS 構造電子源 / 多重反射 / 単色性 / 数値シミュレーション |
| キーワード(英) | graphene / GIS-structured electron source / multi-reflection / monochromaticity / numerical simulation |
| 資料番号 | ED2023-40 |
| 発行日 | 2023-11-30 (ED) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
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| 開催期間 | 2023/12/7(から2日開催) |
| 開催地（和） | ウインクあいち（愛知県産業労働センター） |
| 開催地（英） | WINC AICHI |
| テーマ（和） | 電子・イオンビーム応用 |
| テーマ（英） | Applications of electron and ion beam |
| 委員長氏名（和） | 葛西 誠也(北大) |
| 委員長氏名（英） | Seiya Sakai(Hokkaido Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 新井 学(名大) |
| 副委員長氏名（英） | Manabu Arai(Nagoya Univ.) |
| 幹事氏名（和） | 大石 敏之(佐賀大) / 山本 佳嗣(三菱電機) |
| 幹事氏名（英） | Toshiyuki Oishi(Saga Univ.) / Yoshitugu Yamamoto(Mitsubishi Electric) |
| 幹事補佐氏名（和） | 小山 政俊(阪工大) / 吉田 智洋(住友電工デバイス・イノベーション) |
| 幹事補佐氏名（英） | Masatoshi Koyama(Osaka Inst. of Tech.) / Tomohiro Yoshida(SUMITOMO ELECTRIC DEVICE INNOVATIONS) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Electron Devices |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | Graphene-Insulator-Semiconductor構造電子源における多重反射の効果 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Effect of multi-reflection in Graphene-Insulator-Semiconductor-structured electron source |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | グラフェン / graphene |
| キーワード(2)（和/英） | GIS 構造電子源 / GIS-structured electron source |
| キーワード(3)（和/英） | 多重反射 / multi-reflection |
| キーワード(4)（和/英） | 単色性 / monochromaticity |
| キーワード(5)（和/英） | 数値シミュレーション / numerical simulation |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 小市 崇央 / Takao Koichi |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 大阪大学(略称：阪大) Osaka University(略称：Osaka Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 河嶋 祥吾 / Shogo Kawashima |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 大阪大学(略称：阪大) Osaka University(略称：Osaka Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 阿保 智 / Satoshi Abo |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 大阪大学(略称：阪大) Osaka University(略称：Osaka Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 若家 冨士男 / Fujio Wakaya |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 大阪大学(略称：阪大) Osaka University(略称：Osaka Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 長尾 昌善 / Masayoshi Nagao |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所(略称：産総研) National Institute of Advanced Industrial and Science Technology(略称：AIST) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 村上 勝久 / Katsuhisa Murakami |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所(略称：産総研) National Institute of Advanced Industrial and Science Technology(略称：AIST) |
| 発表年月日 | 2023-12-07 |
| 資料番号 | ED2023-40 |
| 巻番号（vol） | vol.123 |
| 号番号（no） | ED-297 |
| ページ範囲 | pp.8-10(ED), |
| ページ数 | 3 |
| 発行日 | 2023-11-30 (ED) |