| 講演名 | 2023-06-26 ［招待講演］加熱その場高分解能TEMを用いた薄膜Si固相結晶化過程の原子スケールリアルタイム観察 手面 学(キオクシア㈱), 浅野 孝典(キオクシア㈱), 高石 理一郎(キオクシア㈱), 富田 充裕(キオクシア㈱), 齋藤 真澄(キオクシア㈱), 田中 洋毅(キオクシア㈱), |
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| 抄録(和) | 加熱その場高分解能TEMを用いて，多結晶Siチャネルを模した薄膜Si内で微結晶Siと結晶化していないアモルファス領域の局所的な界面において，Si原子面が一層ずつ形成される固相結晶化の過程をリアルタイム観察した．その結果，連続的な固相エピタキシャル（SPE）成長と，多結晶Siチャネルの薄膜トランジスタにおいて移動度劣化や閾値電圧のバラつき等の要因となる粒内欠陥が形成される不連続なSPE成長を初めて区別できた．この粒内欠陥が形成されるメカニズムについて，詳細に考察した． |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | 多結晶Siチャネル / 固相結晶化 / その場観察 / TEM / 原子スケール / リアルタイム |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | SDM2023-34 |
| 発行日 | 2023-06-19 (SDM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2023/6/26(から1日開催) |
| 開催地（和） | 広島大学 ナノデバイス研究所 |
| 開催地（英） | Hiroshima Univ. (Res. Inst. of Nanodevices) |
| テーマ（和） | MOSデバイス・メモリ・パワーデバイス高性能化−材料・プロセス技術 （応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会との合同開催） |
| テーマ（英） | Material Science and Process Technology for MOS Devices, Memories, and Power Devices |
| 委員長氏名（和） | 大見 俊一郎(東工大) |
| 委員長氏名（英） | Shunichiro Ohmi(Tokyo Inst. of Tech.) |
| 副委員長氏名（和） | 宇佐美 達矢(日本エーエスエム) |
| 副委員長氏名（英） | Tatsuya Usami(ASM Japan) |
| 幹事氏名（和） | 諏訪 智之(東北大) / 野田 泰史(パナソニック) |
| 幹事氏名（英） | Tomoyuki Suwa(Tohoku Univ.) / Taiji Noda(Panasonic) |
| 幹事補佐氏名（和） | 細井 卓治(関西学院大) / 二瀬 卓也(ウエスタンデジタル) |
| 幹事補佐氏名（英） | Takuji Hosoi(Kwansei Gakuin Univ.) / Takuya Futase(Western Digital) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ［招待講演］加熱その場高分解能TEMを用いた薄膜Si固相結晶化過程の原子スケールリアルタイム観察 |
| サブタイトル（和） | 多結晶Siチャネル高性能化に向けて |
| タイトル（英） | [Invited Talk] Atomic-Scale and Real-Time Observation of Solid-Phase Crystallization in Thin Silicon Film using in situ Heating High-Resolution TEM |
| サブタイトル（和） | Toward High-Performance Poly-Si Channel |
| キーワード(1)（和/英） | 多結晶Siチャネル |
| キーワード(2)（和/英） | 固相結晶化 |
| キーワード(3)（和/英） | その場観察 |
| キーワード(4)（和/英） | TEM |
| キーワード(5)（和/英） | 原子スケール |
| キーワード(6)（和/英） | リアルタイム |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 手面 学 / Manabu Tezura |
| 第 1 著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社(略称：キオクシア㈱) Kioxia Corporation(略称：Kioxia Corp.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 浅野 孝典 / Takanori Asano |
| 第 2 著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社(略称：キオクシア㈱) Kioxia Corporation(略称：Kioxia Corp.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 高石 理一郎 / Riichiro Takaishi |
| 第 3 著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社(略称：キオクシア㈱) Kioxia Corporation(略称：Kioxia Corp.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 富田 充裕 / Mitsuhiro Tomita |
| 第 4 著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社(略称：キオクシア㈱) Kioxia Corporation(略称：Kioxia Corp.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 齋藤 真澄 / Masumi Saitoh |
| 第 5 著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社(略称：キオクシア㈱) Kioxia Corporation(略称：Kioxia Corp.) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 田中 洋毅 / Hiroki Tanaka |
| 第 6 著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社(略称：キオクシア㈱) Kioxia Corporation(略称：Kioxia Corp.) |
| 発表年月日 | 2023-06-26 |
| 資料番号 | SDM2023-34 |
| 巻番号（vol） | vol.123 |
| 号番号（no） | SDM-89 |
| ページ範囲 | pp.28-30(SDM), |
| ページ数 | 3 |
| 発行日 | 2023-06-19 (SDM) |