| 講演名 | 2023-04-22 Neを用いてガラス上にスパッタ堆積したInSb膜のRTAによる結晶化 岡田 竜弥(琉球大), チャリット ジャヤナダ コスワッタゲー(琉球大), 梶原 隆司(九大), 佐道 泰造(九大), 野口 隆(琉球大), |
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| 抄録(和) | 安価な絶縁基板上への高結晶性InSb膜の形成に向けて、ArガスおよびNeガスを用いたRFスパッタリング法により製膜したInSb膜にRTAを施し結晶化を行なった。Neガスを用いて製膜した試料の方がより短時間で高いホール移動度が得られ、ホール移動度2010 cm2/Vsが得られた。 |
| 抄録(英) | For realizing high crystallinity InSb films on low-cost insulating substrate, we investigate the crystallization using RTA of the InSb films deposited by RF sputtering using Ne or Ar gas on glass substrate. By using Ne gas, higher Hall mobility of 2010 cm2/Vs was obtained with shorter RTA duration. |
| キーワード(和) | InSb / 急速熱処理 / スパッタ / Ne |
| キーワード(英) | InSb / Rapid Thermal Annealing / Sputtering / Ne |
| 資料番号 | SDM2023-8,OME2023-8 |
| 発行日 | 2023-04-14 (SDM, OME) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM / OME |
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| 開催期間 | 2023/4/21(から2日開催) |
| 開催地（和） | 沖縄県青年会館 |
| 開催地（英） | Okinawaken Seinen Kaikan |
| テーマ（和） | 薄膜（Si,化合物,有機,フレキシブル）機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術および一般 |
| テーマ（英） | Thin film devices (Si, compound, organic, flexible), Biotechnology, Materials, Characterization, etc. |
| 委員長氏名（和） | 大見 俊一郎(東工大) / 山田 俊樹(NICT) |
| 委員長氏名（英） | Shunichiro Ohmi(Tokyo Inst. of Tech.) / Toshiki Yamada(NICT) |
| 副委員長氏名（和） | 宇佐美 達矢(日本エーエスエム) / 伊東 栄次(信州大学) |
| 副委員長氏名（英） | Tatsuya Usami(ASM Japan) / Eiji Itoh(Shinshu Univ.) |
| 幹事氏名（和） | 諏訪 智之(東北大) / 野田 泰史(パナソニック) / 梶井 博武(阪大) / 嘉治 寿彦(東京農工大) |
| 幹事氏名（英） | Tomoyuki Suwa(Tohoku Univ.) / Taiji Noda(Panasonic) / Hirotake Kajii(Osaka Univ.) / Toshihiko Kaji(Tokyo Univ. of Agriculture and Tech.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 細井 卓治(関西学院大) / 二瀬 卓也(サンディスク) / 清家 善之(愛知工大) / 馬場 暁(新潟大学) |
| 幹事補佐氏名（英） | Takuji Hosoi(Kwansei Gakuin Univ.) / Takuya Futase(SanDisk) / Yoshiyuki Seike(Aichi Inst. of Tech.) / Akira Baba(Niigata Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials / Technical Committee on Organic Molecular Electronics |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | Neを用いてガラス上にスパッタ堆積したInSb膜のRTAによる結晶化 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Crystallization by Rapid Thermal Annealing of Sputtered InSb Films Deposited on Glass Using Ne |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | InSb / InSb |
| キーワード(2)（和/英） | 急速熱処理 / Rapid Thermal Annealing |
| キーワード(3)（和/英） | スパッタ / Sputtering |
| キーワード(4)（和/英） | Ne / Ne |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 岡田 竜弥 / Tatsuya Okada |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 琉球大学(略称：琉球大) University of the Ryukyus(略称：Univ. Ryukyus) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | チャリット ジャヤナダ コスワッタゲー / C. J. Koswaththage |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 琉球大学(略称：琉球大) University of the Ryukyus(略称：Univ. Ryukyus) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 梶原 隆司 / Takashi Kajiwar |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 九州大学(略称：九大) Kyushu University(略称：Kyushu Univ) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 佐道 泰造 / Taizoh Sadoh |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 九州大学(略称：九大) Kyushu University(略称：Kyushu Univ) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 野口 隆 / Takashi Noguchi |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 琉球大学(略称：琉球大) University of the Ryukyus(略称：Univ. Ryukyus) |
| 発表年月日 | 2023-04-22 |
| 資料番号 | SDM2023-8,OME2023-8 |
| 巻番号（vol） | vol.123 |
| 号番号（no） | SDM-8,OME-9 |
| ページ範囲 | pp.30-31(SDM), pp.30-31(OME), |
| ページ数 | 2 |
| 発行日 | 2023-04-14 (SDM, OME) |