講演名 2022-11-25
組成傾斜層を用いた230nm帯AlGaN系LEDの高効率化
前田 哲利(理研), 鹿嶋 行雄(理研), 松浦 恵理子(理研), 祝迫 恭(日タン), 平山 秀樹(理研),
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和)
抄録(英)
キーワード(和)
キーワード(英)
資料番号 ED2022-45,CPM2022-70,LQE2022-78
発行日 2022-11-17 (ED, CPM, LQE)

研究会情報
研究会 CPM / ED / LQE
開催期間 2022/11/24(から2日開催)
開催地(和) ウインクあいち(愛知県産業労働センター)(名古屋)
開催地(英) Winc Aichi (Aichi Industry & Labor Center)
テーマ(和) 窒化物半導体光、電子デバイス、材料、関連技術、及び一般
テーマ(英)
委員長氏名(和) 中村 雄一(豊橋技科大) / 藤代 博記(東京理科大) / 高原 淳一(阪大)
委員長氏名(英) Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) / Hiroki Fujishiro(Tokyo Univ. of Science) / Junichi Takahara(Osaka Univ.)
副委員長氏名(和) 中澤 日出樹(弘前大) / 葛西 誠也(北大) / 西村 公佐(KDDI総合研究所)
副委員長氏名(英) Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.) / Seiya Sakai(Hokkaido Univ.) / Kosuke Nishimura(KDDI Research)
幹事氏名(和) 寺迫 智昭(愛媛大) / 武山 真弓(北見工大) / 大石 敏之(佐賀大) / 堤 卓也(NTT) / 田中 信介(富士通) / 藤田 和上(浜松ホトニクス)
幹事氏名(英) Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) / Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech) / Toshiyuki Oishi(Saga Univ.) / Takuya Tsutsumi(NTT) / Shinsuke Tanaka(Fujitsu) / Kazuue Fujita(Hamamatsu Photonics)
幹事補佐氏名(和) 木村 康男(東京工科大) / 廣瀬 文彦(山形大) / 番場 教子(信州大) / 小山 政俊(阪工大) / 山本 佳嗣(三菱電機) / 西島 喜明(横浜国大) / 西山 伸彦(東工大)
幹事補佐氏名(英) Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) / Noriko Bamba(Shinshu Univ.) / Masatoshi Koyama(Osaka Inst. of Tech.) / Yoshitugu Yamamoto(Mitsubishi Electric) / Yoshiaki Nishijima(Yokohama National Univ.) / Nobuhiko Nishiyama(Tokyo Inst. of Tech.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Component Parts and Materials / Technical Committee on Electron Devices / Technical Committee on Lasers and Quantum Electronics
本文の言語 JPN
タイトル(和) 組成傾斜層を用いた230nm帯AlGaN系LEDの高効率化
サブタイトル(和)
タイトル(英) High Efficiency of 230nm band AlGaN based LED by using Al Compositionally Graded Layer
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英)
第 1 著者 氏名(和/英) 前田 哲利 / Noritoshi Maeda
第 1 著者 所属(和/英) 理化学研究所(略称:理研)
RIKEN(略称:RIKEN)
第 2 著者 氏名(和/英) 鹿嶋 行雄 / Yukio Kashima
第 2 著者 所属(和/英) 理化学研究所(略称:理研)
RIKEN(略称:RIKEN)
第 3 著者 氏名(和/英) 松浦 恵理子 / Eriko Matsuura
第 3 著者 所属(和/英) 理化学研究所(略称:理研)
RIKEN(略称:RIKEN)
第 4 著者 氏名(和/英) 祝迫 恭 / Yasushi Iwaisako
第 4 著者 所属(和/英) 日本タングステン(略称:日タン)
Nippon Tungsten(略称:NT)
第 5 著者 氏名(和/英) 平山 秀樹 / Hideki Hirayama
第 5 著者 所属(和/英) 理化学研究所(略称:理研)
RIKEN(略称:RIKEN)
発表年月日 2022-11-25
資料番号 ED2022-45,CPM2022-70,LQE2022-78
巻番号(vol) vol.122
号番号(no) ED-271,CPM-272,LQE-273
ページ範囲 pp.93-98(ED), pp.93-98(CPM), pp.93-98(LQE),
ページ数 6
発行日 2022-11-17 (ED, CPM, LQE)