講演名 | 2022-11-10 [招待講演]CMOSデバイス技術の最新動向とIRDSロードマップ 若林 整(東工大), |
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抄録(和) | |
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キーワード(英) | |
資料番号 | SDM2022-64 |
発行日 | 2022-11-03 (SDM) |
研究会情報 | |
研究会 | SDM |
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開催期間 | 2022/11/10(から2日開催) |
開催地(和) | オンライン開催 |
開催地(英) | Online |
テーマ(和) | プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 |
テーマ(英) | Process, Device, Circuit simulation, etc. |
委員長氏名(和) | 大見 俊一郎(東工大) |
委員長氏名(英) | Shunichiro Ohmi(Tokyo Inst. of Tech.) |
副委員長氏名(和) | 宇佐美 達矢(日本エーエスエム) |
副委員長氏名(英) | Tatsuya Usami(ASM Japan) |
幹事氏名(和) | 諏訪 智之(東北大) / 野田 泰史(パナソニック) |
幹事氏名(英) | Tomoyuki Suwa(Tohoku Univ.) / Taiji Noda(Panasonic) |
幹事補佐氏名(和) | 細井 卓治(関西学院大) / 二瀬 卓也(サンディスク) |
幹事補佐氏名(英) | Takuji Hosoi(Kwansei Gakuin Univ.) / Takuya Futase(SanDisk) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | [招待講演]CMOSデバイス技術の最新動向とIRDSロードマップ |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | [Invited Talk] Progress in CMOS Device Technology and IRDS Roadmap |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | |
第 1 著者 氏名(和/英) | 若林 整 / Hitoshi Wakabayashi |
第 1 著者 所属(和/英) | 東京工業大学(略称:東工大) Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech) |
発表年月日 | 2022-11-10 |
資料番号 | SDM2022-64 |
巻番号(vol) | vol.122 |
号番号(no) | SDM-247 |
ページ範囲 | pp.1-6(SDM), |
ページ数 | 6 |
発行日 | 2022-11-03 (SDM) |