| 講演名 | 2022-11-30 ボロノイ分割と繰り返し改善によるマスク最適化手法 野中 尚貴(会津大), 小平 行秀(会津大), 高橋 篤司(東工大), 児玉 親亮(キオクシア), |
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| 抄録(和) | 製造プロセスの1 つである光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち，ウェハ上に転写されるパタンの忠実性をマスク最適化によって改善する光学近接補正は，半導体の微細化の進展において重要な役割を担っている．本稿では，ボロノイ分割と繰り返し改善によるマスク最適化を提案する．マスク領域をボロノイ分割で分け，各領域に対して領域内のパタン形状を定めるパラメタを1 つ定義し，繰り返し改善によってそのパラメタ値を調整することでマスクパタンの全体形状を決定する．計算機実験により，提案手法により得られるマスク形状の質は大きく悪化することなく，最適化における変数が削減されることで計算時間が削減されることを確認する． |
| 抄録(英) | To realize continuously scaling down technology node, progressing manufacturing process by optical lithography is required. In resolution enhancement techniques in the optical lithography, Optical Proximity Correction (OPC), which improves shape fidelity of formed patterns on wafers to designed target patterns by mask optimization, is essential to progress the optical lithography. In this paper, we propose a mask optimization by Voronoi partition and iterative improvement. The mask region is divided by Voronoi partition and one parameter is defined for each region. The shape of mask pattern is determined by adjusting these parameters in the iterative improvement. Experiments show that the quality of the mask shape obtained by the proposed method is not degraded significantly and that the reduction of variables in the optimization reduces the execution time. |
| キーワード(和) | 光リソグラフィ / マスク最適化 / 光学近接補正 / ボロノイ分割 |
| キーワード(英) | optical lithography / mask optimization / Optical Proximity Correction (OPC) / Voronoi partition |
| 資料番号 | VLD2022-41,ICD2022-58,DC2022-57,RECONF2022-64 |
| 発行日 | 2022-11-21 (VLD, ICD, DC, RECONF) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD / DC / RECONF / ICD / IPSJ-SLDM |
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| 開催期間 | 2022/11/28(から3日開催) |
| 開催地（和） | 金沢市文化ホール |
| 開催地（英） | Kanazawa Bunka Hall |
| テーマ（和） | デザインガイア2022 -VLSI設計の新しい大地- |
| テーマ（英） | Design Gaia 2022 -New Field of VLSI Design- |
| 委員長氏名（和） | 池田 奈美子(NTT) / 土屋 達弘(阪大) / 佐野 健太郎(理研) / 高橋 真史(キオクシア) / 越智 裕之(立命館大) |
| 委員長氏名（英） | Minako Ikeda(NTT) / Tatsuhiro Tsuchiya(Osaka Univ.) / Kentaro Sano(RIKEN) / Masafumi Takahashi(Kioxia) / Hiroyuki Ochi(Ritsumeikan Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 中武 繁寿(北九州市大) / 細川 利典(日大) / 山口 佳樹(筑波大) / 泉 知論(立命館大) / 池田 誠(東大) |
| 副委員長氏名（英） | Shigetoshi Nakatake(Univ. of Kitakyushu) / Toshinori Hosokawa(Nihon Univ.) / Yoshiki Yamaguchi(Tsukuba Univ.) / Tomonori Izumi(Ritsumeikan Univ.) / Makoto Ikeda(Univ. of Tokyo) |
| 幹事氏名（和） | 宮村 信(ナノブリッジ・セミコンダクター) / 今井 雅(弘前大) / 新井 雅之(日大) / 難波 一輝(千葉大) / 小林 悠記(NEC) / 佐藤 幸紀(豊橋技科大) / 新居 浩二(TSMCデザインテクノロジージャパン) / 宮地 幸祐(信州大) / 川村 一志(東工大) / 今川 隆司(明大) / 細田 浩希(ソニーセミコンダクタソリューションズ) / 田中 勇気(日立) |
| 幹事氏名（英） | Makoto Miyamura(NBS) / Masashi Imai(Hirosaki Univ.) / Masayuki Arai(Nihon Univ.) / Kazuteru Namba(Chiba Univ.) / Yuuki Kobayashi(NEC) / Yukinori Sato(Toyohashi Univ. of Tech.) / Koji Nii(TSMC) / Kosuke Miyaji(Shinshu Univ.) / Kazushi Kawamura(Tokyo Inst. of Tech.) / Takashi Imagawa(Meiji Univ.) / Hiroki Hosoda(Sony Semiconductor Solutions) / Yuki Tanaka(HITACHI) |
| 幹事補佐氏名（和） | 西元 琢真(日立) / / 竹村 幸尚(インテル) / 長名 保範(琉球大学) / 吉原 義昭(キオクシア) / 塩見 準(阪大) / 久保木 猛(ソニーセミコンダクタソリューションズ) |
| 幹事補佐氏名（英） | Takuma Nishimoto(Hitachi) / / Yukitaka Takemura(INTEL) / Yasunori Osana(Ryukyu Univ.) / Yoshiaki Yoshihara(KIOXIA) / Jun Shiomi(Osaka Univ.) / Takeshi Kuboki(Sony Semiconductor Solutions) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on VLSI Design Technologies / Technical Committee on Dependable Computing / Technical Committee on Reconfigurable Systems / Technical Committee on Integrated Circuits and Devices / Special Interest Group on System and LSI Design Methodology |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ボロノイ分割と繰り返し改善によるマスク最適化手法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Mask Optimization Using Voronoi Partition and Iterative Improvement |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光リソグラフィ / optical lithography |
| キーワード(2)（和/英） | マスク最適化 / mask optimization |
| キーワード(3)（和/英） | 光学近接補正 / Optical Proximity Correction (OPC) |
| キーワード(4)（和/英） | ボロノイ分割 / Voronoi partition |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 野中 尚貴 / Naoki Nonaka |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 会津大学(略称：会津大) The University of Aizu(略称：Univ. of Aizu) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 小平 行秀 / Yukihide Kohira |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 会津大学(略称：会津大) The University of Aizu(略称：Univ. of Aizu) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 高橋 篤司 / Atsushi Takahashi |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo Tech) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 児玉 親亮 / Chikaaki Kodama |
| 第 4 著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社(略称：キオクシア) KIOXIA Corporation(略称：KIOXIA) |
| 発表年月日 | 2022-11-30 |
| 資料番号 | VLD2022-41,ICD2022-58,DC2022-57,RECONF2022-64 |
| 巻番号（vol） | vol.122 |
| 号番号（no） | VLD-283,ICD-284,DC-285,RECONF-286 |
| ページ範囲 | pp.127-132(VLD), pp.127-132(ICD), pp.127-132(DC), pp.127-132(RECONF), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2022-11-21 (VLD, ICD, DC, RECONF) |