講演名 2022-10-27
SiO2膜上に成膜された薄いTaWN合金膜上のCu(111)優先配向
田島 優介(北見工大), 佐藤 勝(北見工大), 武山 真弓(北見工大),
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抄録(和)
抄録(英)
キーワード(和)
キーワード(英)
資料番号 MRIS2022-8,CPM2022-39
発行日 2022-10-20 (MRIS, CPM)

研究会情報
研究会 MRIS / CPM / ITE-MMS
開催期間 2022/10/27(から2日開催)
開催地(和) 信州大学+オンライン開催
開催地(英) Shinshu Univ.
テーマ(和) スピントロニクス・固体メモリ・機能性材料・薄膜プロセス・材料・デバイス+一般
テーマ(英) Spintronics, Solid State Memory, Functional material, Thin film process, Material, Devices, etc.
委員長氏名(和) 田河 育也(東北工大) / 中村 雄一(豊橋技科大)
委員長氏名(英) Ikuya Tagawa(Tohoku Inst. of Tech.) / Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.)
副委員長氏名(和) / 中澤 日出樹(弘前大)
副委員長氏名(英) / Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.)
幹事氏名(和) 仲村 泰明(愛媛大) / 平山 義幸(サムスン日本研究所) / 寺迫 智昭(愛媛大) / 武山 真弓(北見工大)
幹事氏名(英) Yasuaki Nakamura(Ehime Univ.) / Yoshiyuki Hirayama(Samsung) / Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) / Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech)
幹事補佐氏名(和) 菊池 伸明(東北大) / 山路 俊樹(産総研) / 木村 康男(東京工科大) / 廣瀬 文彦(山形大) / 番場 教子(信州大)
幹事補佐氏名(英) Nobuaki Kikuchi(Tohoku Univ.) / Toshiki Yamaji(AIST) / Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) / Noriko Bamba(Shinshu Univ.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Magnetic Recording & Information Storage / Technical Committee on Component Parts and Materials / Technical Group on Multi-media Storage
本文の言語 JPN
タイトル(和) SiO2膜上に成膜された薄いTaWN合金膜上のCu(111)優先配向
サブタイトル(和)
タイトル(英) Preferential Orientation of Cu(111) on TaWN Alloy Films Deposited on SiO2
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英)
第 1 著者 氏名(和/英) 田島 優介 / Yusuke Tajima
第 1 著者 所属(和/英) 北見工業大学(略称:北見工大)
Kitami Institute of Technology(略称:Kitami Inst. Technol.)
第 2 著者 氏名(和/英) 佐藤 勝 / Masaru Sato
第 2 著者 所属(和/英) 北見工業大学(略称:北見工大)
Kitami Institute of Technology(略称:Kitami Inst. Technol.)
第 3 著者 氏名(和/英) 武山 真弓 / Mayumi B. Takeyama
第 3 著者 所属(和/英) 北見工業大学(略称:北見工大)
Kitami Institute of Technology(略称:Kitami Inst. Technol.)
発表年月日 2022-10-27
資料番号 MRIS2022-8,CPM2022-39
巻番号(vol) vol.122
号番号(no) MRIS-230,CPM-231
ページ範囲 pp.12-13(MRIS), pp.12-13(CPM),
ページ数 2
発行日 2022-10-20 (MRIS, CPM)