講演名 | 2022-08-05 化学溶液析出法による水酸化ニッケルナノウォール成長と表面形態へのシード層の影響 寺迫 智昭(愛媛大), 山本 哲也(高知工科大), |
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抄録(和) | |
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キーワード(和) | |
キーワード(英) | |
資料番号 | CPM2022-17 |
発行日 | 2022-07-28 (CPM) |
研究会情報 | |
研究会 | CPM |
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開催期間 | 2022/8/4(から2日開催) |
開催地(和) | 北見工業大学 |
開催地(英) | |
テーマ(和) | 電子部品・材料,一般 |
テーマ(英) | |
委員長氏名(和) | 中村 雄一(豊橋技科大) |
委員長氏名(英) | Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) |
副委員長氏名(和) | 中澤 日出樹(弘前大) |
副委員長氏名(英) | Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.) |
幹事氏名(和) | 寺迫 智昭(愛媛大) / 武山 真弓(北見工大) |
幹事氏名(英) | Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) / Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech) |
幹事補佐氏名(和) | 木村 康男(東京工科大) / 廣瀬 文彦(山形大) / 番場 教子(信州大) |
幹事補佐氏名(英) | Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) / Noriko Bamba(Shinshu Univ.) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Technical Committee on Component Parts and Materials |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 化学溶液析出法による水酸化ニッケルナノウォール成長と表面形態へのシード層の影響 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Chemical Bath Deposition of Nickel Hydroxide Nanowalls and Influence of Seed Layers on Their Morphological Properties |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | |
第 1 著者 氏名(和/英) | 寺迫 智昭 / Tomoaki Terasako |
第 1 著者 所属(和/英) | 愛媛大学(略称:愛媛大) Ehime University(略称:Ehime Univ.) |
第 2 著者 氏名(和/英) | 山本 哲也 / Tetsuya Yamamoto |
第 2 著者 所属(和/英) | 高知工科大学(略称:高知工科大) Kochi University of Technology(略称:Kochi. Univ. Technol.) |
発表年月日 | 2022-08-05 |
資料番号 | CPM2022-17 |
巻番号(vol) | vol.122 |
号番号(no) | CPM-147 |
ページ範囲 | pp.22-25(CPM), |
ページ数 | 4 |
発行日 | 2022-07-28 (CPM) |