講演名 2022-08-05
化学溶液析出法による水酸化ニッケルナノウォール成長と表面形態へのシード層の影響
寺迫 智昭(愛媛大), 山本 哲也(高知工科大),
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抄録(和)
抄録(英)
キーワード(和)
キーワード(英)
資料番号 CPM2022-17
発行日 2022-07-28 (CPM)

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2022/8/4(から2日開催)
開催地(和) 北見工業大学
開催地(英)
テーマ(和) 電子部品・材料,一般
テーマ(英)
委員長氏名(和) 中村 雄一(豊橋技科大)
委員長氏名(英) Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.)
副委員長氏名(和) 中澤 日出樹(弘前大)
副委員長氏名(英) Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.)
幹事氏名(和) 寺迫 智昭(愛媛大) / 武山 真弓(北見工大)
幹事氏名(英) Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) / Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech)
幹事補佐氏名(和) 木村 康男(東京工科大) / 廣瀬 文彦(山形大) / 番場 教子(信州大)
幹事補佐氏名(英) Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) / Noriko Bamba(Shinshu Univ.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Component Parts and Materials
本文の言語 JPN
タイトル(和) 化学溶液析出法による水酸化ニッケルナノウォール成長と表面形態へのシード層の影響
サブタイトル(和)
タイトル(英) Chemical Bath Deposition of Nickel Hydroxide Nanowalls and Influence of Seed Layers on Their Morphological Properties
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英)
第 1 著者 氏名(和/英) 寺迫 智昭 / Tomoaki Terasako
第 1 著者 所属(和/英) 愛媛大学(略称:愛媛大)
Ehime University(略称:Ehime Univ.)
第 2 著者 氏名(和/英) 山本 哲也 / Tetsuya Yamamoto
第 2 著者 所属(和/英) 高知工科大学(略称:高知工科大)
Kochi University of Technology(略称:Kochi. Univ. Technol.)
発表年月日 2022-08-05
資料番号 CPM2022-17
巻番号(vol) vol.122
号番号(no) CPM-147
ページ範囲 pp.22-25(CPM),
ページ数 4
発行日 2022-07-28 (CPM)