| 講演名 | 2022-08-04 マグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素膜特性への水素ガスの効果 西田 竜也(弘前大), 谷口 颯(弘前大), 佐藤 聖能(弘前大), 小林 康之(弘前大), 遠田 義晴(弘前大), 鈴木 裕史(弘前大), 吹留 博一(東北大), 中澤 日出樹(弘前大), |
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| 抄録(和) | 炭化ホウ素(B4C)ターゲットを用いたRFマグネトロンスパッタ法によりアモルファスB4C薄膜およびH2を導入して水素化アモルファスB4C (B4C:H) 薄膜を作製し、水素がB4C膜特性に及ぼす影響を調べた。スクラッチ試験により求められた臨界荷重はB4C膜に比べてB4C:H膜の方が低く、H2流量比の増加と共に減少した。さらに、臨界荷重と内部応力の間には負の相関関係があることがわかった。また、B4C:Hの摩擦係数と比摩耗量は水素流量比の増加によって減少傾向を示した。光学バンドギャップ(Eg)および比抵抗はB4C膜に比べてB4C:H膜の方が大きくなり、水素流量比の増加に伴いB4C:H膜のEgおよび比抵抗は増加した。これは、水素導入により膜中のsp2 C=C結合成分が減少したためであると考えられる。 |
| 抄録(英) | We have deposited amorphous boron carbide (B4C) films and hydrogenated amorphous B4C (B4C:H) films by RF magnetron sputtering without H2 and with H2, respectively, using a B4C target and investigated the effects of hydrogen on the properties of the B4C and B4C:H films. The critical loads of the B4C:H films, as obtained from scratch tests, were smaller than that of the B4C film, and the critical load of the B4C:H films increased with increasing hydrogen flow ratio. It was found that the critical load was negatively correlated with internal stress. The friction coefficient and specific wear rate of the B4C:H films tended to decrease with the hydrogen flow ratio. The optical bandgap (Eg) and resistivity of the B4C:H films were greater than those of the B4C film. As the hydrogen flow ratio increased, the Eg and resistivity of the B4C:H films increased, probably due to a decrease in sp2 C=C bonds caused by the introduction of hydrogen. |
| キーワード(和) | 炭化ホウ素 / 水素 / スパッタ / 機械的特性 / トライボロジー特性 / 光学バンドギャップ / 比抵抗 |
| キーワード(英) | Boron carbide / Hydrogen / Sputtering / Mechanical properties / Tribological properties / Optical bandgap / Resistivity |
| 資料番号 | CPM2022-15 |
| 発行日 | 2022-07-28 (CPM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2022/8/4(から2日開催) |
| 開催地（和） | 北見工業大学 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 電子部品・材料，一般 |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | 中村 雄一(豊橋技科大) |
| 委員長氏名（英） | Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) |
| 副委員長氏名（和） | 中澤 日出樹(弘前大) |
| 副委員長氏名（英） | Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.) |
| 幹事氏名（和） | 寺迫 智昭(愛媛大) / 武山 真弓(北見工大) |
| 幹事氏名（英） | Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) / Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech) |
| 幹事補佐氏名（和） | 木村 康男(東京工科大) / 廣瀬 文彦(山形大) / 番場 教子(信州大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) / Noriko Bamba(Shinshu Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Component Parts and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | マグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素膜特性への水素ガスの効果 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Hydrogen gas effects on the properties of boron carbide films prepared by magnetron sputtering |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 炭化ホウ素 / Boron carbide |
| キーワード(2)（和/英） | 水素 / Hydrogen |
| キーワード(3)（和/英） | スパッタ / Sputtering |
| キーワード(4)（和/英） | 機械的特性 / Mechanical properties |
| キーワード(5)（和/英） | トライボロジー特性 / Tribological properties |
| キーワード(6)（和/英） | 光学バンドギャップ / Optical bandgap |
| キーワード(7)（和/英） | 比抵抗 / Resistivity |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 西田 竜也 / Nishida Tatsuya |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 弘前大学(略称：弘前大) Hirosaki University(略称：Hirosaki Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 谷口 颯 / Taniguchi Ryu |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 弘前大学(略称：弘前大) Hirosaki University(略称：Hirosaki Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 佐藤 聖能 / Masayoshi Sato |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 弘前大学(略称：弘前大) Hirosaki University(略称：Hirosaki Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 小林 康之 / Yasuyuki Kobayashi |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 弘前大学(略称：弘前大) Hirosaki University(略称：Hirosaki Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 遠田 義晴 / Yoshiharu Enta |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 弘前大学(略称：弘前大) Hirosaki University(略称：Hirosaki Univ.) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 鈴木 裕史 / Yushi Suzuki |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 弘前大学(略称：弘前大) Hirosaki University(略称：Hirosaki Univ.) |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 吹留 博一 / Hirokazu Fukidome |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Touhoku University,(略称：Touhoku Univ.) |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 中澤 日出樹 / Hideki Nakazawa |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 弘前大学(略称：弘前大) Hirosaki University(略称：Hirosaki Univ.) |
| 発表年月日 | 2022-08-04 |
| 資料番号 | CPM2022-15 |
| 巻番号（vol） | vol.122 |
| 号番号（no） | CPM-147 |
| ページ範囲 | pp.14-17(CPM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2022-07-28 (CPM) |