講演名 2022-08-05
低温成膜したSiNx膜の特性
新出 航大(北見工大), 佐藤 勝(北見工大), 武山 真弓(北見工大),
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抄録(和)
抄録(英)
キーワード(和)
キーワード(英)
資料番号 CPM2022-20
発行日 2022-07-28 (CPM)

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2022/8/4(から2日開催)
開催地(和) 北見工業大学
開催地(英)
テーマ(和) 電子部品・材料,一般
テーマ(英)
委員長氏名(和) 中村 雄一(豊橋技科大)
委員長氏名(英) Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.)
副委員長氏名(和) 中澤 日出樹(弘前大)
副委員長氏名(英) Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.)
幹事氏名(和) 寺迫 智昭(愛媛大) / 武山 真弓(北見工大)
幹事氏名(英) Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) / Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech)
幹事補佐氏名(和) 木村 康男(東京工科大) / 廣瀬 文彦(山形大) / 番場 教子(信州大)
幹事補佐氏名(英) Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) / Noriko Bamba(Shinshu Univ.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Component Parts and Materials
本文の言語 JPN
タイトル(和) 低温成膜したSiNx膜の特性
サブタイトル(和)
タイトル(英) Characterization of SiNx Film Deposited at low Temperatures
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英)
第 1 著者 氏名(和/英) 新出 航大 / Kota Niide
第 1 著者 所属(和/英) 北見工業大学(略称:北見工大)
Kitami Institute of Technology(略称:KIT)
第 2 著者 氏名(和/英) 佐藤 勝 / Masaru Sato
第 2 著者 所属(和/英) 北見工業大学(略称:北見工大)
Kitami Institute of Technology(略称:KIT)
第 3 著者 氏名(和/英) 武山 真弓 / Mayumi B. Takeyama
第 3 著者 所属(和/英) 北見工業大学(略称:北見工大)
Kitami Institute of Technology(略称:KIT)
発表年月日 2022-08-05
資料番号 CPM2022-20
巻番号(vol) vol.122
号番号(no) CPM-147
ページ範囲 pp.32-33(CPM),
ページ数 2
発行日 2022-07-28 (CPM)