講演名 2022-08-08
[招待講演]飽和信号量と量子効率の向上を可能にする2層トランジスタ画素積層型CMOSイメージセンサー
財津 光一郎(ソニーセミコンダクタソリューションズ), 松本 晃(ソニーセミコンダクタソリューションズ), 西田 水輝(ソニーセミコンダクタソリューションズ), 田中 裕介(ソニーセミコンダクタソリューションズ), 山下 浩史(ソニーセミコンダクタソリューションズ), 佐竹 遥介(ソニーセミコンダクタソリューションズ), 渡辺 敬(ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング), 荒木 邦彦(ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング), 根井 直毅(ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング), 中澤 圭一(ソニーセミコンダクタソリューションズ), 山元 純平(ソニーセミコンダクタソリューションズ), 上原 睦雄(ソニーセミコンダクタソリューションズ), 川島 寛之(ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング), 小林 悠作(ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング), 平野 智之(ソニーセミコンダクタソリューションズ), 田谷 圭司(ソニーセミコンダクタソリューションズ),
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抄録(和) 高い飽和信号量と量子効率を実現する2層トランジスタ画素積層型CMOSイメージセンサー(2-Layer Pixel)を開発した.2-Layer Pixelでは,3Dシーケンシャルプロセスを用いることによりフォトダイオードと画素トランジスタが異なるSi層に形成され,フォトダイオードの体積を従来の構造よりも拡大することが可能となる.また,複数の浮遊拡散層(FD)どうしを接続するサブローカル配線を新たに導入し,変換効率の向上とランダムノイズの抑制を行った.画素セルどうしは貫通トレンチにより分離され,トレンチの材料として,従来用いられているPoly-SiではなくSiOを用いる構造を初めて導入した.これにより貫通トレンチによる入射光の吸収を抑え,量子効率は波長530nmにおいて19%向上した.我々はこれらの技術を用いて1.0 μmのDual PDの画素構造を有するCMOSイメージセンサーを作製し,12,000 e-の飽和信号量を達成した.これは従来構造のCMOSイメージセンサーにおいて,画素セルの寸法がより大きいもので得られていた飽和信号量よりもさらに大きな値である.
抄録(英)
キーワード(和) CMOSイメージセンサー / 2-Layer Pixel / 3Dシーケンシャル積層
キーワード(英)
資料番号 SDM2022-33,ICD2022-1
発行日 2022-08-01 (SDM, ICD)

研究会情報
研究会 ICD / SDM / ITE-IST
開催期間 2022/8/8(から3日開催)
開催地(和) オンライン開催に変更 現地開催(北海道大学百年記念会館)は中止
開催地(英)
テーマ(和) アナログ、アナデジ混載、RF及びセンサインタフェース回路、低電圧・低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用
テーマ(英) Analog, Mixed Analog and Digital, RF, and Sensor Interface, Low Voltage/Low Power Techniques, Novel Devices/Circuits, and the Applications
委員長氏名(和) 高橋 真史(キオクシア) / 大見 俊一郎(東工大) / 秋田 純一(金沢大)
委員長氏名(英) Masafumi Takahashi(Kioxia) / Shunichiro Ohmi(Tokyo Inst. of Tech.) / 秋田 純一(金沢大)
副委員長氏名(和) 池田 誠(東大) / 宇佐美 達矢(日本エーエスエム) / 池辺 将之(北大) / 廣瀬 裕(パナソニック)
副委員長氏名(英) Makoto Ikeda(Univ. of Tokyo) / Tatsuya Usami(ASM Japan) / 池辺 将之(北大) / 廣瀬 裕(パナソニック)
幹事氏名(和) 宮地 幸祐(信州大) / 新居 浩二(TSMCデザインテクノロジージャパン) / 諏訪 智之(東北大) / 野田 泰史(パナソニック) / 小室 孝(埼玉大) / 下ノ村 和弘(立命館大) / 香川 景一郞(静岡大) / 徳田 崇(東工大) / 黒田 理人(東北大) / 船津 良平(NHK)
幹事氏名(英) Kosuke Miyaji(Shinshu Univ.) / Koji Nii(TSMC) / Tomoyuki Suwa(Tohoku Univ.) / Taiji Noda(Panasonic) / 小室 孝(埼玉大) / 下ノ村 和弘(立命館大) / 香川 景一郞(静岡大) / 徳田 崇(東工大) / 黒田 理人(東北大) / 船津 良平(NHK)
幹事補佐氏名(和) 塩見 準(阪大) / 吉原 義昭(キオクシア) / 久保木 猛(ソニーセミコンダクタソリューションズ) / 細井 卓治(関西学院大) / 二瀬 卓也(サンディスク) / 山下 雄一郎(TSMC) / 大倉 俊介(立命館大) / 竹本 良章(メムスコア)
幹事補佐氏名(英) Jun Shiomi(Osaka Univ.) / Yoshiaki Yoshihara(キオクシア) / Takeshi Kuboki(Sony Semiconductor Solutions) / Takuji Hosoi(Kwansei Gakuin Univ.) / Takuya Futase(SanDisk) / 山下 雄一郎(TSMC) / 大倉 俊介(立命館大) / 竹本 良章(メムスコア)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Integrated Circuits and Devices / Technical Committee on Silicon Device and Materials / Technical Group on Information Sensing Technologies
本文の言語 JPN
タイトル(和) [招待講演]飽和信号量と量子効率の向上を可能にする2層トランジスタ画素積層型CMOSイメージセンサー
サブタイトル(和)
タイトル(英) [Invited Talk] A 2-Layer Transistor Pixel Stacked CMOS Image Sensor with Oxide Based Full Trench Isolation for Large Full Well Capacity and High Quantum Efficiency
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) CMOSイメージセンサー
キーワード(2)(和/英) 2-Layer Pixel
キーワード(3)(和/英) 3Dシーケンシャル積層
第 1 著者 氏名(和/英) 財津 光一郎 / Koichiro Zaitsu
第 1 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社(略称:ソニーセミコンダクタソリューションズ)
Sony Semiconductor Solutions Corporation(略称:Sony Semiconductor Solutions)
第 2 著者 氏名(和/英) 松本 晃 / Akira Matsumoto
第 2 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社(略称:ソニーセミコンダクタソリューションズ)
Sony Semiconductor Solutions Corporation(略称:Sony Semiconductor Solutions)
第 3 著者 氏名(和/英) 西田 水輝 / Mizuki Nishida
第 3 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社(略称:ソニーセミコンダクタソリューションズ)
Sony Semiconductor Solutions Corporation(略称:Sony Semiconductor Solutions)
第 4 著者 氏名(和/英) 田中 裕介 / Yusuke Tanaka
第 4 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社(略称:ソニーセミコンダクタソリューションズ)
Sony Semiconductor Solutions Corporation(略称:Sony Semiconductor Solutions)
第 5 著者 氏名(和/英) 山下 浩史 / Hirofumi Yamashita
第 5 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社(略称:ソニーセミコンダクタソリューションズ)
Sony Semiconductor Solutions Corporation(略称:Sony Semiconductor Solutions)
第 6 著者 氏名(和/英) 佐竹 遥介 / Yosuke Satake
第 6 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社(略称:ソニーセミコンダクタソリューションズ)
Sony Semiconductor Solutions Corporation(略称:Sony Semiconductor Solutions)
第 7 著者 氏名(和/英) 渡辺 敬 / Takashi Watanabe
第 7 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング株式会社(略称:ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation(略称:Sony Semiconductor Manufacturing)
第 8 著者 氏名(和/英) 荒木 邦彦 / Kunihiko Araki
第 8 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング株式会社(略称:ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation(略称:Sony Semiconductor Manufacturing)
第 9 著者 氏名(和/英) 根井 直毅 / Naoki Nei
第 9 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング株式会社(略称:ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation(略称:Sony Semiconductor Manufacturing)
第 10 著者 氏名(和/英) 中澤 圭一 / Keiichi Nakazawa
第 10 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社(略称:ソニーセミコンダクタソリューションズ)
Sony Semiconductor Solutions Corporation(略称:Sony Semiconductor Solutions)
第 11 著者 氏名(和/英) 山元 純平 / Junpei Yamamoto
第 11 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社(略称:ソニーセミコンダクタソリューションズ)
Sony Semiconductor Solutions Corporation(略称:Sony Semiconductor Solutions)
第 12 著者 氏名(和/英) 上原 睦雄 / Mutsuo Uehara
第 12 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社(略称:ソニーセミコンダクタソリューションズ)
Sony Semiconductor Solutions Corporation(略称:Sony Semiconductor Solutions)
第 13 著者 氏名(和/英) 川島 寛之 / Hiroyuki Kawashima
第 13 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング株式会社(略称:ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation(略称:Sony Semiconductor Manufacturing)
第 14 著者 氏名(和/英) 小林 悠作 / Yusaku Kobayashi
第 14 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング株式会社(略称:ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation(略称:Sony Semiconductor Manufacturing)
第 15 著者 氏名(和/英) 平野 智之 / Tomoyuki Hirano
第 15 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社(略称:ソニーセミコンダクタソリューションズ)
Sony Semiconductor Solutions Corporation(略称:Sony Semiconductor Solutions)
第 16 著者 氏名(和/英) 田谷 圭司 / Keiji Tatani
第 16 著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社(略称:ソニーセミコンダクタソリューションズ)
Sony Semiconductor Solutions Corporation(略称:Sony Semiconductor Solutions)
発表年月日 2022-08-08
資料番号 SDM2022-33,ICD2022-1
巻番号(vol) vol.122
号番号(no) SDM-148,ICD-149
ページ範囲 pp.1-6(SDM), pp.1-6(ICD),
ページ数 6
発行日 2022-08-01 (SDM, ICD)