| 講演名 | 2022-06-21 ［招待講演］WSe2 n/p FETsを用いた低電圧動作CMOSインバータ 川那子 高暢(東工大), 松﨑 貴広(東工大), 梶川 亮介(東工大), 宗田 伊理也(東工大), 星井 拓也(東工大), 角嶋 邦之(東工大), 筒井 一生(東工大), 若林 整(東工大), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | SDM2022-30 |
| 発行日 | 2022-06-14 (SDM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2022/6/21(から1日開催) |
| 開催地（和） | 名古屋大学 VBL３F |
| 開催地（英） | Nagoya Univ. VBL3F |
| テーマ（和） | MOSデバイス・メモリ・パワーデバイス高性能化−材料・プロセス技術 （応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会との合同開催） |
| テーマ（英） | Material Science and Process Technology for MOS Devices, Memories, and Power Devices |
| 委員長氏名（和） | 平野 博茂(タワー パートナーズ セミコンダクター) |
| 委員長氏名（英） | Hiroshige Hirano(TowerPartners Semiconductor) |
| 副委員長氏名（和） | 大見 俊一郎(東工大) |
| 副委員長氏名（英） | Shunichiro Ohmi(Tokyo Inst. of Tech.) |
| 幹事氏名（和） | 森 貴洋(産総研) / 小林 伸彰(日大) |
| 幹事氏名（英） | Takahiro Mori(AIST) / Nobuaki Kobayashi(Nihon Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 野田 泰史(パナソニック) / 諏訪 智之(東北大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Taiji Noda(Panasonic) / Tomoyuki Suwa(Tohoku Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ［招待講演］WSe2 n/p FETsを用いた低電圧動作CMOSインバータ |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | [Invited Talk] Low Voltage Operation of CMOS Inverter based on WSe2 n/p FETs |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 川那子 高暢 / Takamasa Kawanago |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo Tech) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 松﨑 貴広 / Takahiro Matsuzaki |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo Tech) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 梶川 亮介 / Ryosuke Kajikawa |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo Tech) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 宗田 伊理也 / Iriya Muneta |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo Tech) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 星井 拓也 / Takuya Hoshii |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo Tech) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 角嶋 邦之 / Kuniyuki Kakushima |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo Tech) |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 筒井 一生 / Kazuo Tsutsui |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo Tech) |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 若林 整 / Hitoshi Wakabayashi |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo Tech) |
| 発表年月日 | 2022-06-21 |
| 資料番号 | SDM2022-30 |
| 巻番号（vol） | vol.122 |
| 号番号（no） | SDM-84 |
| ページ範囲 | pp.23-26(SDM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2022-06-14 (SDM) |