| 講演名 | 2022-04-23 光学干渉非接触温度測定法(OICT)によるシリコンウェハ内部の過渡的熱拡散過程の三次元イメージング 松口 康太郎(広島大), 藤本 渓也(広島大), Yu Jiawen(広島大), 花房 宏明(広島大), 佐藤 拓磨(広島大), 東 清一郎(広島大), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | SDM2022-8,OME2022-8 |
| 発行日 | 2022-04-15 (SDM, OME) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME / SDM |
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| 開催期間 | 2022/4/22(から2日開催) |
| 開催地（和） | 高千穂ホール（宮崎市） |
| 開催地（英） | Takachiho Hall |
| テーマ（和） | 薄膜（Si,化合物,有機,フレキシブル）機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術および一般 |
| テーマ（英） | Thin film devices (Si, compound, organic, flexible), Biotechnology, Materials, Characterization, etc. |
| 委員長氏名（和） | 山田 俊樹(NICT) / 平野 博茂(タワー パートナーズ セミコンダクター) |
| 委員長氏名（英） | Toshiki Yamada(NICT) / Hiroshige Hirano(TowerPartners Semiconductor) |
| 副委員長氏名（和） | 伊東 栄次(信州大学) / 大見 俊一郎(東工大) |
| 副委員長氏名（英） | Eiji Itoh(Shinshu Univ.) / Shunichiro Ohmi(Tokyo Inst. of Tech.) |
| 幹事氏名（和） | 梶井 博武(阪大) / 嘉治 寿彦(東京農工大) / 森 貴洋(産総研) / 小林 伸彰(日大) |
| 幹事氏名（英） | Hirotake Kajii(Osaka Univ.) / Toshihiko Kaji(Tokyo Univ. of Agriculture and Tech.) / Takahiro Mori(AIST) / Nobuaki Kobayashi(Nihon Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 清家 善之(愛知工大) / 馬場 暁(新潟大学) / 野田 泰史(パナソニック) / 諏訪 智之(東北大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Yoshiyuki Seike(Aichi Inst. of Tech.) / Akira Baba(Niigata Univ.) / Taiji Noda(Panasonic) / Tomoyuki Suwa(Tohoku Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Organic Molecular Electronics / Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 光学干渉非接触温度測定法(OICT)によるシリコンウェハ内部の過渡的熱拡散過程の三次元イメージング |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | 3-Dimensional Imaging for Transient Thermal Diffusion in Silicon Wafer by Optical Interference Contactless Thermometry (OICT) |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 松口 康太郎 / Kotaro Matsuguchi |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 広島大学先進理工(略称：広島大) Hiroshima University(略称：Hiroshima Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 藤本 渓也 / Keiya Fujimoto |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 広島大学先進理工(略称：広島大) Hiroshima University(略称：Hiroshima Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | Yu Jiawen / Yu Jiawen |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 広島大学先進理工(略称：広島大) Hiroshima University(略称：Hiroshima Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 花房 宏明 / Hiroaki Hanafusa |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 広島大学先進理工(略称：広島大) Hiroshima University(略称：Hiroshima Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 佐藤 拓磨 / Takuma Sato |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 広島大学先進理工(略称：広島大) Hiroshima University(略称：Hiroshima Univ.) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 東 清一郎 / Seiichiro Higashi |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 広島大学先進理工(略称：広島大) Hiroshima University(略称：Hiroshima Univ.) |
| 発表年月日 | 2022-04-23 |
| 資料番号 | SDM2022-8,OME2022-8 |
| 巻番号（vol） | vol.122 |
| 号番号（no） | SDM-8,OME-9 |
| ページ範囲 | pp.39-42(SDM), pp.39-42(OME), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2022-04-15 (SDM, OME) |