講演名 | 2021-11-18 シリコン太陽電池に適応するアルミナパッシベーション膜のケルビン法による特性評価 大石 凌也(弘前大), 渡邊 良祐(弘前大), |
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抄録(和) | シリコン太陽電池のパッシベーション材料として,近年アルミナが注目されている.アルミナは高い負の固定電荷をもつため,シリコン基板表面に光励起された電子を反発させる電界効果パッシベーションが期待できる.ゾルゲル法によってシリコン表面にアルミナ薄膜を形成した試料は,ALD法などの他の成膜方法に比べて,成膜が容易で安価であるが成膜後のパッシベーション特性の時間経過に伴い劣化する特徴がある.劣化の原因がアルミナ膜中の固定電荷によるものと考え,自作したケルビンプローブを用いて表面電荷密度の評価を行った.また作製したケルビンプローブが正常に動作しているかを確認するため,種々の試料を用いて材料間の仕事関数差測定を行った. |
抄録(英) | |
キーワード(和) | アルミナ / ケルビンプローブ / 仕事関数差 / パッシベーション / シリコン太陽電池 |
キーワード(英) | |
資料番号 | EE2021-30,CPM2021-48,OME2021-24 |
発行日 | 2021-11-11 (EE, CPM, OME) |
研究会情報 | |
研究会 | EE / OME / CPM |
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開催期間 | 2021/11/18(から1日開催) |
開催地(和) | オンライン開催 |
開催地(英) | Online |
テーマ(和) | エネルギー技術、半導体電力変換、電池、電気化学デバイス、材料、一般 |
テーマ(英) | |
委員長氏名(和) | 末次 正(福岡大) / 山田 俊樹(NICT) / 中村 雄一(豊橋技科大) |
委員長氏名(英) | Tadashi Suetsugu(Fukuoka Univ.) / Toshiki Yamada(NICT) / Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) |
副委員長氏名(和) | 関屋 大雄(千葉大) / 廣瀬 圭一(NTTファシリティーズ) / 伊東 栄次(信州大学) / 中澤 日出樹(弘前大) |
副委員長氏名(英) | Hiroo Sekiya(Chiba Univ.) / Keiichi Hirose(NTT Facilities) / Eiji Itoh(Shinshu Univ.) / Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.) |
幹事氏名(和) | 坂井 栄治(崇城大) / 松井 信正(長崎総科大) / 梶井 博武(阪大) / 嘉治 寿彦(東京農工大) / 寺迫 智昭(愛媛大) / 武山 真弓(北見工大) |
幹事氏名(英) | Eiji Sakai(Sojo Univ.) / Nobumasa Matsui(Nagasaki Inst. of Applied Science) / Hirotake Kajii(Osaka Univ.) / Toshihiko Kaji(Tokyo Univ. of Agriculture and Tech.) / Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) / Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech) |
幹事補佐氏名(和) | 米澤 遊(名大) / 古川 雄大(福岡大学) / 湯淺 一史(NTTファシリティーズ) / 清家 善之(愛知工大) / 馬場 暁(新潟大学) / 木村 康男(東京工科大) / 廣瀬 文彦(山形大) / 番場 教子(信州大) |
幹事補佐氏名(英) | Yuu Yonezawa(Nagoya Univ.) / Yudai Furukawa(Fukuoka Univ.) / Kazufumi Yuasa(NTT Facilities) / Yoshiyuki Seike(Aichi Inst. of Tech.) / Akira Baba(Niigata Univ.) / Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) / Noriko Bamba(Shinshu Univ.) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Technical Committee on Energy Engineering in Electronics and Communications / Technical Committee on Organic Molecular Electronics / Technical Committee on Component Parts and Materials |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | シリコン太陽電池に適応するアルミナパッシベーション膜のケルビン法による特性評価 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Evaluation of alumina passivation films for silicon cells by kelvin method |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | アルミナ |
キーワード(2)(和/英) | ケルビンプローブ |
キーワード(3)(和/英) | 仕事関数差 |
キーワード(4)(和/英) | パッシベーション |
キーワード(5)(和/英) | シリコン太陽電池 |
第 1 著者 氏名(和/英) | 大石 凌也 / Ryoya Oishi |
第 1 著者 所属(和/英) | 弘前大学(略称:弘前大) Hirosaki University(略称:Hirosaki Univ.) |
第 2 著者 氏名(和/英) | 渡邊 良祐 / Ryosuke Watanabe |
第 2 著者 所属(和/英) | 弘前大学(略称:弘前大) Hirosaki University(略称:Hirosaki Univ.) |
発表年月日 | 2021-11-18 |
資料番号 | EE2021-30,CPM2021-48,OME2021-24 |
巻番号(vol) | vol.121 |
号番号(no) | EE-255,CPM-256,OME-257 |
ページ範囲 | pp.67-71(EE), pp.67-71(CPM), pp.67-71(OME), |
ページ数 | 5 |
発行日 | 2021-11-11 (EE, CPM, OME) |