| 講演名 | 2021-12-02 シミュレーテッド量子アニーリングを用いたマスク最適化手法 小平 行秀(会津大), 中山 晴貴(会津大), 野中 尚貴(会津大), 松井 知己(東工大), 高橋 篤司(東工大), 児玉 親亮(キオクシア), |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | 半導体プロセスの微細化のために，光リソグラフィ技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち，ウェハ上に転写されるパタンの忠実性をマスク最適化によって改善する光近接効果補正(Optical Proximity Correction, OPC)は，光リソグラフィ技術の進展において重要な役割を担っている．このマスク最適化問題は0-1 2次計画問題に定式化できることが知られている．近年，0-1 2次計画問題を高速に解く量子アニーリングが注目を集めている．そこで本稿では，マスク最適化問題に対して，シミュレーテッド量子アニーリングを用いて，ターゲットパタンへの忠実性とプロセスばらつきへの耐性を持つマスクを生成する手法を検討する．計算機実験において，シミュレーテッド量子アニーリングを用いた手法と既存手法に対して，得られたマスクのターゲットパタンへの忠実性とプロセスばらつきへの耐性，計算時間について評価を行う． |
| 抄録(英) | To realize continuously scaling down of technology node, progressing manufacturing process by optical lithography is required. In resolution enhancement techniques in the optical lithography, Optical Proximity Correction (OPC), which improves shape fidelity of formed patterns on wafers to designed target patterns by mask optimization, is essential. It is known that the mask optimization can be formulated as 0-1 Quadratic Programming problem (0-1 QP). Recently, Quantum Annealing, which solves 0-1 QP in a short computation time, has attracted attention. In this paper, we examine a method using Simulated Quantum Annealing (SQA) for the mask optimization problem to obtain a mask with high fidelity to target patterns as well as high tolerance to process variation. In experiments, we evaluate the method using SQA and existing methods in fidelity to target patterns, tolerance to process variation, and execution time. |
| キーワード(和) | 光リソグラフィ / マスク最適化 / 光近接効果補正 / シミュレーテッド量子アニーリング |
| キーワード(英) | optical lithography / mask optimization / Optical Proximity Correction (OPC) / Simulated Quantum Annealing |
| 資料番号 | VLD2021-45,ICD2021-55,DC2021-51,RECONF2021-53 |
| 発行日 | 2021-11-24 (VLD, ICD, DC, RECONF) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD / DC / RECONF / ICD / IPSJ-SLDM |
|---|---|
| 開催期間 | 2021/12/1(から2日開催) |
| 開催地（和） | オンライン開催 |
| 開催地（英） | Online |
| テーマ（和） | デザインガイア2021 -VLSI設計の新しい大地- |
| テーマ（英） | Design Gaia 2021 -New Field of VLSI Design- |
| 委員長氏名（和） | 小林 和淑(京都工繊大) / 高橋 寛(愛媛大) / 佐野 健太郎(理研) / 高橋 真史(キオクシア) / 中村 祐一(NEC) |
| 委員長氏名（英） | Kazutoshi Kobayashi(Kyoto Inst. of Tech.) / Hiroshi Takahashi(Ehime Univ.) / Kentaro Sano(RIKEN) / Masafumi Takahashi(Kioxia) / Yuichi Nakamura(NEC) |
| 副委員長氏名（和） | 池田 奈美子(NTT) / 土屋 達弘(阪大) / 山口 佳樹(筑波大) / 泉 知論(立命館大) / 池田 誠(東大) |
| 副委員長氏名（英） | Minako Ikeda(NTT) / Tatsuhiro Tsuchiya(Osaka Univ.) / Yoshiki Yamaguchi(Tsukuba Univ.) / Tomonori Izumi(Ritsumeikan Univ.) / Makoto Ikeda(Univ. of Tokyo) |
| 幹事氏名（和） | 兼本 大輔(大阪大学) / 宮村 信(NEC) / 新井 雅之(日大) / 難波 一輝(千葉大) / 小林 悠記(NEC) / 中原 啓貴(東工大) / 廣瀬 哲也(阪大) / 新居 浩二(TSMCデザインテクノロジージャパン) / 瀬戸 謙修(東京都市大) / 川村 一志(東工大) / 廣本 正之(富士通) / 細田 浩希(ソニーLSIデザイン) |
| 幹事氏名（英） | Daisuke Kanemoto(Osaka Univ.) / Makoto Miyamura(NEC) / Masayuki Arai(Nihon Univ.) / Kazuteru Namba(Chiba Univ.) / Yuuki Kobayashi(NEC) / Hiroki Nakahara(Tokyo Inst. of Tech.) / Tetsuya Hirose(Osaka Univ.) / Koji Nii(TSMC) / Kenshu Seto(Tokyo City Univ.) / Kazushi Kawamura(Tokyo Inst. of Tech.) / Masayuki Hiromoto(Fujitsu) / Hiroki Hosoda(Sony LSI Design) |
| 幹事補佐氏名（和） | / / 竹村 幸尚(インテル) / 長名 保範(琉球大学) / 宮地 幸祐(信州大) / 吉原 義昭(キオクシア) / 久保木 猛(九大) |
| 幹事補佐氏名（英） | / / Yukitaka Takemura(INTEL) / Yasunori Osana(Ryukyu Univ.) / Kosuke Miyaji(Shinshu Univ.) / Yoshiaki Yoshihara(キオクシア) / Takeshi Kuboki(Kyushu Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on VLSI Design Technologies / Technical Committee on Dependable Computing / Technical Committee on Reconfigurable Systems / Technical Committee on Integrated Circuits and Devices / Special Interest Group on System and LSI Design Methodology |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | シミュレーテッド量子アニーリングを用いたマスク最適化手法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Mask Optimization Method Using Simulated Quantum Annealing |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光リソグラフィ / optical lithography |
| キーワード(2)（和/英） | マスク最適化 / mask optimization |
| キーワード(3)（和/英） | 光近接効果補正 / Optical Proximity Correction (OPC) |
| キーワード(4)（和/英） | シミュレーテッド量子アニーリング / Simulated Quantum Annealing |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 小平 行秀 / Yukihide Kohira |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 会津大学(略称：会津大) The University of Aizu(略称：Univ. of Aizu) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 中山 晴貴 / Haruki Nakayama |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 会津大学(略称：会津大) The University of Aizu(略称：Univ. of Aizu) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 野中 尚貴 / Naoki Nonaka |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 会津大学(略称：会津大) The University of Aizu(略称：Univ. of Aizu) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 松井 知己 / Tomomi Matsui |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo Tech) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 高橋 篤司 / Atsushi Takahashi |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo Tech) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 児玉 親亮 / Chikaaki Kodama |
| 第 6 著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社(略称：キオクシア) KIOXIA Corporation(略称：KIOXIA Corporation) |
| 発表年月日 | 2021-12-02 |
| 資料番号 | VLD2021-45,ICD2021-55,DC2021-51,RECONF2021-53 |
| 巻番号（vol） | vol.121 |
| 号番号（no） | VLD-277,ICD-278,DC-279,RECONF-280 |
| ページ範囲 | pp.162-167(VLD), pp.162-167(ICD), pp.162-167(DC), pp.162-167(RECONF), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2021-11-24 (VLD, ICD, DC, RECONF) |