| 講演名 | 2021-10-08 Fe-N薄膜におけるγ'相の形成と磁歪 前田 悠良(横浜国大), 今村 光佑(横浜国大), 大竹 充(横浜国大), 川井 哲郎(横浜国大), 二本 正昭(横浜国大), 桐野 文良(東京藝術大), 稲葉 信幸(山形大), |
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| 抄録(和) | 反応性スパッタリング法によりMgO単結晶基板上にFe-N薄膜を形成し，基板温度がγ’-Fe4N相の形成に及ぼす影響について調べた．また，γ’相の磁歪定数λ100およびλ111を実験的に明らかにした．基板温度がRTの場合，γ’とα’’相から構成される多結晶膜が形成された，200 °C形成した膜はγ’相の多結晶に加えて，γ’相のエピタキシャル結晶から構成された．400 °Cまで基板温度を増加させると，γ’相の単結晶膜が得られた．しかしながら，基板温度を600 °Cまで更に上昇させると，α相の単結晶膜が形成された．400 °C程度の基板温度がγ’相の単結晶膜の形成には有効であることが分かった．γ’相の単結晶膜は，?75×10?6の大きな負のλ100と+220×10?6の大きな正のλ111を示した．本研究により，γ’-Fe4N相はレアメタルフリー磁歪材料の有力候補のひとつであることが明らかになった． |
| 抄録(英) | Fe-N thin films are prepared on MgO single-crystal substrates by reactive sputtering. The influence of substrate temperature on the γ'-Fe4N phase formation is investigated. Furthermore, the magnetostriction coefficients, λ100 and λ111, of γ' phase are experimentally determined. A poly-crystalline film composed of γ' and α" phases is formed when the substrate temperature is RT. The film prepared at 200 °C involves γ' epitaxial crystal in addition to γ' poly-crystal, whereas that prepared at 400 °C consists of only γ' single-crystal. However when the substrate temperature increases up to 600 °C, a single-crystal film composed of α phase is formed. A moderate substrate temperature of about 400 °C is effective in the formation of γ' single-crystal film. The γ' single-crystal film shows a large positive λ100 value of ?75×10?6 and a large negative λ111 value of +220×10?6. The present study has shown that γ'-Fe4N phase is one of the strong candidates for future rare-metal free magnetostrictive materials. |
| キーワード(和) | γ'-Fe4N相 / 単結晶薄膜 / 巨大磁歪 |
| キーワード(英) | γ'-Fe4N phase / Single-Crystal Thin Film / Large Magnetostriction |
| 資料番号 | MRIS2021-7 |
| 発行日 | 2021-10-01 (MRIS) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | MRIS / ITE-MMS |
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| 開催期間 | 2021/10/8(から1日開催) |
| 開催地（和） | オンライン開催 |
| 開催地（英） | Online |
| テーマ（和） | ヘッド，スピントロニクス，固体メモリ, 媒体, 一般 |
| テーマ（英） | Recording Head, Spintronics, Solid State Memory, Media, etc. |
| 委員長氏名（和） | 吉田 周平(近畿大) / 町田 賢司(NHK) |
| 委員長氏名（英） | Shuhei Yoshida(Kinki Univ.) / Kenji Machida(NHK) |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | 田河 育也(東北工大) / 荒井 礼子(産総研) / 吉村 哲(秋田大) / 武者 敦史(富士フイルム) / 文仙 正俊(福岡大) / 船橋 信彦(NHK) |
| 幹事氏名（英） | Ikuya Tagawa(Tohoku Inst. of Tech.) / Hiroko Arai(AIST) / Satoru Yoshimura(Akita Univ.) / Atsushi Musha(Fujifilm Corp.) / Masatoshi Bunsen(Fukuoka Univ.) / Nobuhiko Funabashi(NHK) |
| 幹事補佐氏名（和） | 仲村 泰明(愛媛大) / 平山 義幸(サムスン日本研究所) |
| 幹事補佐氏名（英） | Yasuaki Nakamura(Ehime Univ.) / Yoshiyuki Hirayama(Samsung) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Magnetic Recording & Information Storage / Technical Group on Multi-media Storage |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | Fe-N薄膜におけるγ'相の形成と磁歪 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | γ' Phase Formation and Magnetostriction in Fe-N Thin Films |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | γ'-Fe4N相 / γ'-Fe4N phase |
| キーワード(2)（和/英） | 単結晶薄膜 / Single-Crystal Thin Film |
| キーワード(3)（和/英） | 巨大磁歪 / Large Magnetostriction |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 前田 悠良 / Yura Maeda |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 横浜国立大学(略称：横浜国大) Yokohama National University(略称：Yokohama Nat. Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 今村 光佑 / Kosuke Imamura |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 横浜国立大学(略称：横浜国大) Yokohama National University(略称：Yokohama Nat. Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 大竹 充 / Mitsuru Ohtake |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 横浜国立大学(略称：横浜国大) Yokohama National University(略称：Yokohama Nat. Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 川井 哲郎 / Tetsuroh Kawai |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 横浜国立大学(略称：横浜国大) Yokohama National University(略称：Yokohama Nat. Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 二本 正昭 / Masaaki Futamoto |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 横浜国立大学(略称：横浜国大) Yokohama National University(略称：Yokohama Nat. Univ.) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 桐野 文良 / Fumiyoshi Kirino |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 東京藝術大学(略称：東京藝術大) Tokyo University of the Arts(略称：Tokyo Univ. Arts) |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 稲葉 信幸 / Nobuyuki Inaba |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 発表年月日 | 2021-10-08 |
| 資料番号 | MRIS2021-7 |
| 巻番号（vol） | vol.121 |
| 号番号（no） | MRIS-193 |
| ページ範囲 | pp.6-10(MRIS), |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2021-10-01 (MRIS) |