| 講演名 | 2021-06-22 ［記念講演］イソプロピルアルコールを用いた金属銅及び酸化銅上の表面改質 間脇 武蔵(東北大), 寺本 章伸(広島大), 石井 勝利(東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ), 志波 良信(東北大), 諏訪 智之(東北大), 東雲 秀司(東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ), 清水 亮(東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ), 梅澤 好太(東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ), 黒田 理人(東北大), 白井 泰雪(東北大), 須川 成利(東北大), |
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| 抄録(和) | 半導体製造工程における銅配線上での選択的形成プロセスに向けて，イソプロピルアルコール(IPA)を用いた酸化銅の還元反応とそのメカニズムを調査した．また銅及び酸化銅表面上でのIPAガスの分解挙動について調査した．フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)によりIPAガスの分解挙動と吸着特性を，X線光電子分光法(XPS)によりIPA処理前後のサンプル表面の化学結合状態を解析した．解析結果より，銅配線形成プロセスの温度範囲にてIPAガスによる酸化銅の還元条件，および銅及び酸化銅表面上のIPAガスの分解挙動を明らかにした． |
| 抄録(英) | The reduction of copper oxide by isopropyl alcohol (IPA) gas and its mechanism were investigated toward the selective process of copper (Cu) wiring. The decomposition behavior of IPA gas during the IPA treatment on Cu and copper oxide surfaces was also studied. The decomposition and reaction behaviors and adsorption characteristics of IPA were investigated by the Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR). The chemical structures of the Cu and copper oxide surfaces before and after IPA treatment were analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Based on the experiments, the process condition to induce reduction of copper oxide by IPA gas within the Cu processes temperature range was identified. In addition, the decomposition behavior of IPA gas on Cu and copper oxide surfaces was clarified. |
| キーワード(和) | IPA / 銅 / 還元 / 選択的ALD / 自己組織化単分子層 / FT-IR / XPS |
| キーワード(英) | IPA / Cu / Reduction / Area-Selective ALD / SAMs / FT-IR / XPS |
| 資料番号 | SDM2021-22 |
| 発行日 | 2021-06-15 (SDM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2021/6/22(から1日開催) |
| 開催地（和） | オンライン開催 |
| 開催地（英） | Online Virtual Meeting |
| テーマ（和） | MOSデバイス・メモリ高性能化−材料・プロセス技術 （応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会との合同開催） |
| テーマ（英） | Material Science and Process Technology for MOS Devices and Memories |
| 委員長氏名（和） | 平野 博茂(タワー パートナーズ セミコンダクター) |
| 委員長氏名（英） | Hiroshige Hirano(TowerPartners Semiconductor) |
| 副委員長氏名（和） | 大見 俊一郎(東工大) |
| 副委員長氏名（英） | Shunichiro Ohmi(Tokyo Inst. of Tech.) |
| 幹事氏名（和） | 森 貴洋(産総研) / 小林 伸彰(日大) |
| 幹事氏名（英） | Takahiro Mori(AIST) / Nobuaki Kobayashi(Nihon Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 野田 泰史(パナソニック) / 諏訪 智之(東北大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Taiji Noda(Panasonic) / Tomoyuki Suwa(Tohoku Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ［記念講演］イソプロピルアルコールを用いた金属銅及び酸化銅上の表面改質 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | [Memorial Lecture] Modification of states of metal copper and copper oxide due to isopropyl alcohol treatment |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | IPA / IPA |
| キーワード(2)（和/英） | 銅 / Cu |
| キーワード(3)（和/英） | 還元 / Reduction |
| キーワード(4)（和/英） | 選択的ALD / Area-Selective ALD |
| キーワード(5)（和/英） | 自己組織化単分子層 / SAMs |
| キーワード(6)（和/英） | FT-IR / FT-IR |
| キーワード(7)（和/英） | XPS / XPS |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 間脇 武蔵 / Takezo Mawaki |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 寺本 章伸 / Akinobu Teramoto |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 広島大学(略称：広島大) Hiroshima University(略称：Hiroshima Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 石井 勝利 / Katsutoshi Ishii |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ(略称：東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ) Tokyo Electron Technology Solutions(略称：Tokyo Electron Technology Solutions) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 志波 良信 / Yoshinobu Shiba |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 諏訪 智之 / Tomoyuki Suwa |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 東雲 秀司 / Shuji Azumo |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ(略称：東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ) Tokyo Electron Technology Solutions(略称：Tokyo Electron Technology Solutions) |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 清水 亮 / Akira Shimizu |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ(略称：東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ) Tokyo Electron Technology Solutions(略称：Tokyo Electron Technology Solutions) |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 梅澤 好太 / Kota Umezawa |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ(略称：東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ) Tokyo Electron Technology Solutions(略称：Tokyo Electron Technology Solutions) |
| 第 9 著者 氏名（和/英） | 黒田 理人 / Rihito Kuroda |
| 第 9 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 10 著者 氏名（和/英） | 白井 泰雪 / Yasuyuki Shirai |
| 第 10 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 11 著者 氏名（和/英） | 須川 成利 / Shigetoshi Sugawa |
| 第 11 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 発表年月日 | 2021-06-22 |
| 資料番号 | SDM2021-22 |
| 巻番号（vol） | vol.121 |
| 号番号（no） | SDM-71 |
| ページ範囲 | pp.1-6(SDM), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2021-06-15 (SDM) |