| 講演名 | 2021-05-27 ［招待講演］Siナノ構造の熱電特性と測定技術の構築 池田 浩也(静岡大), |
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| 抄録(和) | シリコンのナノ構造化により，熱電変換デバイス性能の向上が期待されている．シリコンのゼーベック係数にはフォノンドラッグの効果も強く寄与しているが，その詳細はまだ明らかになっていない．本研究では，極薄SOI（Si on insulator）層やSiマイクロリボン構造の実験結果を基にして，フォノンドラッグの効果についてフォノン輸送の観点から考察を行った結果を報告する．また，ナノ構造材料に適用可能な新しい熱電特性評価方法として，ケルビンプローブフォース顕微鏡（KFM）を用いたゼーベック係数測定技術を確立し，極薄SOI層の測定によりその有用性を実証した．さらに，走査電子顕微鏡（SEM）と赤外線熱画像カメラを組み合わせた，ナノワイヤ材料に適用可能な熱拡散率測定手法についても紹介する． |
| 抄録(英) | The enhancement of the thermoelectric performance has been expected by Si nanostrucutres. The Si Seebeck coefficient is strongly dependent upon the influence of phonon drag, which, however, is not sufficiently understood yet. In the present report, we discussed on the contribution of phonon drag to the Seebeck coefficient in ultrathin Si-on-insulator (SOI) layers and Si microribbon structures from the viewpoint of phonon transport, based on the experimental results of the Seebeck coefficient. In addition, with the aim of measuring the Seebeck coefficient of nanometer-scale materials, we have developed a novel technique using Kelvin-probe force microscopy (KFM) and demonstrate the evaluation of Seebeck coefficient of ultrathin SOI.A novel thermal-diffusivity evaluation by scanning electron microscopy (SEM) together with infrared (IR) thermography is also demonstrated to be applicable for nanowire materials. |
| キーワード(和) | ゼーベック係数 / フォノンドラッグ / ケルビンプローブフォース顕微鏡 / 熱拡散率 / ACカロリメトリ法 |
| キーワード(英) | Seebeck coefficient / phonon drag / Kelvin-probe force microscopy / thermal diffusivity / AC calorimetory |
| 資料番号 | ED2021-1,CPM2021-1,SDM2021-12 |
| 発行日 | 2021-05-20 (ED, CPM, SDM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED / SDM / CPM |
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| 開催期間 | 2021/5/27(から1日開催) |
| 開催地（和） | オンライン開催 |
| 開催地（英） | Online |
| テーマ（和） | 機能性デバイス材料・作製・特性評価および関連技術 |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | 須原 理彦(都立大) / 平野 博茂(タワー パートナーズ セミコンダクター) / 武山 真弓(北見工大) |
| 委員長氏名（英） | Michihiko Suhara(TMU) / Hiroshige Hirano(TowerPartners Semiconductor) / Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech.) |
| 副委員長氏名（和） | 藤代 博記(東京理科大) / 大見 俊一郎(東工大) / 中村 雄一(豊橋技科大) |
| 副委員長氏名（英） | Hiroki Fujishiro(Tokyo Univ. of Science) / Shunichiro Ohmi(Tokyo Inst. of Tech.) / Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) |
| 幹事氏名（和） | 岩田 達哉(富山県立大) / 小谷 淳二(富士通研) / 森 貴洋(産総研) / 小林 伸彰(日大) / 中澤 日出樹(弘前大) |
| 幹事氏名（英） | Tatsuya Iwata(Toyama Pref. Univ.) / Junji Kotani(Fjitsu Lab.) / Takahiro Mori(AIST) / Nobuaki Kobayashi(Nihon Univ.) / Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 堤 卓也(NTT) / 野田 泰史(パナソニック) / 諏訪 智之(東北大) / 木村 康男(東京工科大) / 寺迫 智昭(愛媛大) / 廣瀬 文彦(山形大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Takuya Tsutsumi(NTT) / Taiji Noda(Panasonic) / Tomoyuki Suwa(Tohoku Univ.) / Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Electron Devices / Technical Committee on Silicon Device and Materials / Technical Committee on Component Parts and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ［招待講演］Siナノ構造の熱電特性と測定技術の構築 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | [Invited Talk] Thermoelectric properties of Si nanostructures and their characterization techniques |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ゼーベック係数 / Seebeck coefficient |
| キーワード(2)（和/英） | フォノンドラッグ / phonon drag |
| キーワード(3)（和/英） | ケルビンプローブフォース顕微鏡 / Kelvin-probe force microscopy |
| キーワード(4)（和/英） | 熱拡散率 / thermal diffusivity |
| キーワード(5)（和/英） | ACカロリメトリ法 / AC calorimetory |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 池田 浩也 / Hiroya Ikeda |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 静岡大学(略称：静岡大) Shizuoka University(略称：Shizuoka Univ.) |
| 発表年月日 | 2021-05-27 |
| 資料番号 | ED2021-1,CPM2021-1,SDM2021-12 |
| 巻番号（vol） | vol.121 |
| 号番号（no） | ED-44,CPM-45,SDM-46 |
| ページ範囲 | pp.1-6(ED), pp.1-6(CPM), pp.1-6(SDM), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2021-05-20 (ED, CPM, SDM) |