| 講演名 | 2021-03-02 半導体デバイスの物理的洗浄技術の一考察 清家 善之(愛知工大), 森 竜雄(愛知工大), |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | 半導体デバイスの製造プロセスにおいて、超音波、スプレー、ブラシを利用した枚葉式の物理的なウェット洗浄が広く使われている。本報告では、これらの超音波スプレー洗浄、一流体高圧スプレー洗浄および二流体スプレーの原理を巨視的な流体力学の観点から推測し、実際にポリスチレンラテックス粒子(PSL粒子)を塗布した基板を用いて、それらの特徴を実験で確認した。 |
| 抄録(英) | Single-wafer physical wet cleaning using ultrasonic waves, sprays, and brushes is widely used in chip manufacturing. In this report, the principles of ultrasonic spray cleaning, high-pressure spray cleaning, and two-fluid spray are speculated from the viewpoint of macroscopic fluid dynamics, and their characteristics are experimentally confirmed using substrates coated with polystyrene latex (PSL) particles. |
| キーワード(和) | 半導体デバイス / 物理洗浄 / 超音波スプレー / 二流体スプレー / 高圧スプレー |
| キーワード(英) | Semiconductor devices / Physical cleaning / Ultrasonic spray / Two-fluid spray / High-pressure spray |
| 資料番号 | OME2020-27 |
| 発行日 | 2021-02-22 (OME) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME / IEE-DEI |
|---|---|
| 開催期間 | 2021/3/1(から2日開催) |
| 開催地（和） | オンライン開催 |
| 開催地（英） | Online |
| テーマ（和） | 有機材料・薄膜、有機デバイス、一般 |
| テーマ（英） | Organic Molecular Electronics |
| 委員長氏名（和） | 真島 豊(東工大) / 早川 直樹(名古屋大学) |
| 委員長氏名（英） | Yutaka Majima(Tokyo Inst. of Tech.) / 早川 直樹(名古屋大学) |
| 副委員長氏名（和） | 山田 俊樹(NICT) |
| 副委員長氏名（英） | Toshiki Yamada(NICT) |
| 幹事氏名（和） | 梶井 博武(阪大) / 田口 大(東工大) / 関口 洋逸(住友電気工業) / 髙橋 俊裕(電力中央研究所) |
| 幹事氏名（英） | Hirotake Kajii(Osaka Univ.) / Dai Taguchi(Tokyo Inst. of Tech.) / 関口 洋逸(住友電気工業) / 髙橋 俊裕(電力中央研究所) |
| 幹事補佐氏名（和） | 嘉治 寿彦(東京農工大) / 清家 善之(愛知工大) / 早瀬 悠二(富士電機) / 村上 義信(豊橋技術科学大学) |
| 幹事補佐氏名（英） | Toshihiko Kaji(Tokyo Univ. of Agriculture and Tech.) / Yoshiyuki Seike(Aichi Inst. of Tech.) / 早瀬 悠二(富士電機) / 村上 義信(豊橋技術科学大学) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Organic Molecular Electronics / Technical Meeting on Dielectrics and Electrical Insulation |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 半導体デバイスの物理的洗浄技術の一考察 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | A Study of Physical Cleaning Techniques for Semiconductor Devices |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 半導体デバイス / Semiconductor devices |
| キーワード(2)（和/英） | 物理洗浄 / Physical cleaning |
| キーワード(3)（和/英） | 超音波スプレー / Ultrasonic spray |
| キーワード(4)（和/英） | 二流体スプレー / Two-fluid spray |
| キーワード(5)（和/英） | 高圧スプレー / High-pressure spray |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 清家 善之 / Yoshiyuki Seike |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 愛知工業大学(略称：愛知工大) Aichi Institute of Technology(略称：AIT) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 森 竜雄 / Tatsuo Mori |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 愛知工業大学(略称：愛知工大) Aichi Institute of Technology(略称：AIT) |
| 発表年月日 | 2021-03-02 |
| 資料番号 | OME2020-27 |
| 巻番号（vol） | vol.120 |
| 号番号（no） | OME-383 |
| ページ範囲 | pp.31-34(OME), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2021-02-22 (OME) |