| 講演名 | 2020-11-30 電位コントラスト法を用いた積層セラミックコンデンサの劣化解析 斎藤 彰(村田製作所), |
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| 抄録(和) | 積層セラミックコンデンサ（MLCC）の小型化と薄層化により，高信頼性の維持が困難になりつつある．特に電極界面付近の影響が大きくなり，より詳細な劣化メカニズムの理解が不可欠になってきた．加えて，高温高電界下のBaTiO3系誘電体では負極側に向かって酸素空孔が移動することで電界集中個所が負極近傍から正極近傍に移動することが知られており，劣化メカニズムを複雑にしている．本報では，KFMより高倍率で観察可能なSEMの電位コントラスト像でMLCCを解析することで，正極近傍での個々の粒子や粒界の劣化による電位変化を輝度の変化として捉えることができるようになった． |
| 抄録(英) | To ensure the reliability of multi-layer ceramic capacitor (MLCC) while its miniaturization is accelerating, it is necessary to understand the degradation mechanism of BaTiO3 dielectric under high temperature and high electric field. At the first stage of the degradation, oxygen vacancies move towards a cathode side in BaTiO3 dielectric, and electric field concentration is formed near cathode. At the second stage, electric field concentration is formed near cathode and anode by increase in electric current. At the third stage, electric field concentration is formed near anode by further electric current. By using the voltage contrast method in SEM that can be observed at a higher magnification than KFM, it has become possible to measure the potential change of individual particles and grain boundaries near the anode of the degraded MLCC. |
| キーワード(和) | 積層セラミックコンデンサ / 絶縁劣化 / 電位コントラスト / 酸素空孔 / 電界集中 / ショットキー障壁 |
| キーワード(英) | MLCC / Insulation degradation / Voltage cintrast / Oxygen vacancy / Electric field concentration / Schottky barrier |
| 資料番号 | R2020-27 |
| 発行日 | 2020-11-23 (R) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | R |
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| 開催期間 | 2020/11/30(から1日開催) |
| 開催地（和） | オンライン開催 |
| 開催地（英） | Online |
| テーマ（和） | 半導体と電子デバイスの信頼性、信頼性一般 |
| テーマ（英） | Reliability of semiconductor and electronic devices, Reliability general |
| 委員長氏名（和） | 安里 彰(富士通) |
| 委員長氏名（英） | Akira Asato(Fujitsu) |
| 副委員長氏名（和） | 土肥 正(広島大) |
| 副委員長氏名（英） | Tadashi Dohi(Hiroshima Univ.) |
| 幹事氏名（和） | 田村 信幸(法政大) / 井上 真二(関西大) |
| 幹事氏名（英） | Nobuyuki Tamura(Hosei Univ.) / Shinji Inoue(Kansai Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 岡村 寛之(広島大) / 横川 慎二(電通大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Hiroyuki Okamura(Hiroshima Univ.) / Shinji Yokogawa(Univ. of Electro-Comm.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Reliability |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 電位コントラスト法を用いた積層セラミックコンデンサの劣化解析 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Analysis for Degraded MLCC Using Voltage Contrast Method in SEM |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 積層セラミックコンデンサ / MLCC |
| キーワード(2)（和/英） | 絶縁劣化 / Insulation degradation |
| キーワード(3)（和/英） | 電位コントラスト / Voltage cintrast |
| キーワード(4)（和/英） | 酸素空孔 / Oxygen vacancy |
| キーワード(5)（和/英） | 電界集中 / Electric field concentration |
| キーワード(6)（和/英） | ショットキー障壁 / Schottky barrier |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 斎藤 彰 / Akira Saito |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 株式会社村田製作所(略称：村田製作所) Murata manufacturing Co., Ltd.(略称：Murata) |
| 発表年月日 | 2020-11-30 |
| 資料番号 | R2020-27 |
| 巻番号（vol） | vol.120 |
| 号番号（no） | R-267 |
| ページ範囲 | pp.21-24(R), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2020-11-23 (R) |