講演名 | 2020-11-26 界面顕微光応答法を用いた光電気化学エッチングしたNi/GaNショットキー接触の2次元評価 松田 陵(福井大), 堀切 文正(サイオクス), 成田 好伸(サイオクス), 吉田 丈洋(サイオクス), 福原 昇(サイオクス), 三島 友義(法政大), 塩島 謙次(福井大), |
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資料番号 | ED2020-9,CPM2020-30,LQE2020-60 |
発行日 | 2020-11-19 (ED, CPM, LQE) |
研究会情報 | |
研究会 | LQE / CPM / ED |
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開催期間 | 2020/11/26(から2日開催) |
開催地(和) | オンライン開催 |
開催地(英) | Online |
テーマ(和) | 窒化物半導体光・電デバイス、材料、関連技術、及び一般 |
テーマ(英) | |
委員長氏名(和) | 八坂 洋(東北大) / 武山 真弓(北見工大) / 須原 理彦(都立大) |
委員長氏名(英) | Hiroshi Yasaka(Tohoku Univ.) / Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech.) / Michihiko Suhara(TMU) |
副委員長氏名(和) | 梅沢 俊匡(NICT) / 中村 雄一(豊橋技科大) / 藤代 博記(東京理科大) |
副委員長氏名(英) | Toshitada Umezawa(NICT) / Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) / Hiroki Fujishiro(Tokyo Univ. of Science) |
幹事氏名(和) | 永井 正也(阪大) / 瀬川 徹(NTT) / 中澤 日出樹(弘前大) / 岩田 達哉(富山県立大) / 小谷 淳二(富士通研) |
幹事氏名(英) | Masaya Nagai(Osaka Univ.) / Toru Segawa(NTT) / Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.) / Tatsuya Iwata(Toyama Pref. Univ.) / Junji Kotani(Fjitsu Lab.) |
幹事補佐氏名(和) | 藤田 和上(浜松ホトニクス) / 西山 伸彦(東工大) / 木村 康男(東京工科大) / 寺迫 智昭(愛媛大) / 廣瀬 文彦(山形大) / 堤 卓也(NTT) |
幹事補佐氏名(英) | Kazuue Fujita(Hamamatsu) / Nobuhiko Nishiyama(Tokyo Inst. of Tech.) / Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) / Takuya Tsutsumi(NTT) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Technical Committee on Lasers and Quantum Electronics / Technical Committee on Component Parts and Materials / Technical Committee on Electron Devices |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 界面顕微光応答法を用いた光電気化学エッチングしたNi/GaNショットキー接触の2次元評価 |
サブタイトル(和) | n形とp形の比較 |
タイトル(英) | Mapping of Photoelectrochemical Etched Ni/GaN Schottky Contacts Using Scanning Internal Photoemission Microscopy |
サブタイトル(和) | Comparison between n- and p-type GaN samples |
キーワード(1)(和/英) | |
第 1 著者 氏名(和/英) | 松田 陵 / Ryo Matsuda |
第 1 著者 所属(和/英) | 福井大学(略称:福井大) University of Fukui(略称:Univ. of Fukui) |
第 2 著者 氏名(和/英) | 堀切 文正 / Fumimasa Horikiri |
第 2 著者 所属(和/英) | サイオクス(略称:サイオクス) SCIOCS(略称:SCIOCS) |
第 3 著者 氏名(和/英) | 成田 好伸 / Yoshinobu Narita |
第 3 著者 所属(和/英) | サイオクス(略称:サイオクス) SCIOCS(略称:SCIOCS) |
第 4 著者 氏名(和/英) | 吉田 丈洋 / Takehiro Yoshida |
第 4 著者 所属(和/英) | サイオクス(略称:サイオクス) SCIOCS(略称:SCIOCS) |
第 5 著者 氏名(和/英) | 福原 昇 / Noboru Fukuhara |
第 5 著者 所属(和/英) | サイオクス(略称:サイオクス) SCIOCS(略称:SCIOCS) |
第 6 著者 氏名(和/英) | 三島 友義 / Tomoyoshi Mishima |
第 6 著者 所属(和/英) | 法政大学(略称:法政大) Hosei University(略称:Hosei Univ.) |
第 7 著者 氏名(和/英) | 塩島 謙次 / Kenji Shiojima |
第 7 著者 所属(和/英) | 福井大学(略称:福井大) University of Fukui(略称:Univ. of Fukui) |
発表年月日 | 2020-11-26 |
資料番号 | ED2020-9,CPM2020-30,LQE2020-60 |
巻番号(vol) | vol.120 |
号番号(no) | ED-254,CPM-255,LQE-256 |
ページ範囲 | pp.33-36(ED), pp.33-36(CPM), pp.33-36(LQE), |
ページ数 | 4 |
発行日 | 2020-11-19 (ED, CPM, LQE) |