講演名 2020-12-02
積層構造によるAl2O3/GaN MOS特性の改善
曽根原 翔(奈良先端大), 上沼 睦典(奈良先端大), 浦岡 行治(奈良先端大),
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抄録(和)
抄録(英)
キーワード(和)
キーワード(英)
資料番号 EID2020-9,SDM2020-43
発行日 2020-11-25 (EID, SDM)

研究会情報
研究会 EID / SDM / ITE-IDY
開催期間 2020/12/2(から1日開催)
開催地(和) オンライン開催
開催地(英) Online
テーマ(和) シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術 / 半導体材料プロセス・デバイス研究会
テーマ(英)
委員長氏名(和) 山口 留美子(秋田大) / 平野 博茂(タワー パートナーズ セミコンダクター)
委員長氏名(英) Rumiko Yamaguchi(Akita Univ.) / Hiroshige Hirano(TowerPartners Semiconductor)
副委員長氏名(和) 山口 雅浩(東工大) / 石原 朋幸(ジャパンディスプレイ) / 大見 俊一郎(東工大)
副委員長氏名(英) Masahiro Yamaguchi(Tokyo Inst. of Tech.) / Tomoyuki Ishihara(Japan Display) / Shunichiro Ohmi(Tokyo Inst. of Tech.)
幹事氏名(和) 伊達 宗和(NTT) / 中田 充(NHK) / 森 貴洋(産総研) / 小林 伸彰(日大)
幹事氏名(英) Munekazu Date(NTT) / Mitsuru Nakata(NHK) / Takahiro Mori(AIST) / Nobuaki Kobayashi(Nihon Univ.)
幹事補佐氏名(和) 木村 睦(龍谷大) / 志賀 智一(電通大) / 小南 裕子(静岡大) / 水﨑 真伸(シャープ) / 神原 誠之(奈良先端大) / 野田 泰史(パナソニック) / 諏訪 智之(東北大)
幹事補佐氏名(英) Mutsumi Kimura(Ryukoku Univ.) / Tomokazu Shiga(Univ. of Electro-Comm.) / Hiroko Kominami(Shizuoka Univ.) / Masanobu Mizusaki(SHARP) / Masayuki Kanbara(NAIST) / Taiji Noda(Panasonic) / Tomoyuki Suwa(Tohoku Univ.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Electronic Information Displays / Technical Committee on Silicon Device and Materials / Technical Group on Information Display
本文の言語 JPN
タイトル(和) 積層構造によるAl2O3/GaN MOS特性の改善
サブタイトル(和)
タイトル(英) Improvement of Al2O3/GaN MOS Characteristics using Bilayer Structure
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英)
第 1 著者 氏名(和/英) 曽根原 翔 / Sho Sonehara
第 1 著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学(略称:奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology(略称:NAIST)
第 2 著者 氏名(和/英) 上沼 睦典 / Mutsunori Uenuma
第 2 著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学(略称:奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology(略称:NAIST)
第 3 著者 氏名(和/英) 浦岡 行治 / Yukiharu Uraoka
第 3 著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学(略称:奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology(略称:NAIST)
発表年月日 2020-12-02
資料番号 EID2020-9,SDM2020-43
巻番号(vol) vol.120
号番号(no) EID-272,SDM-273
ページ範囲 pp.35-36(EID), pp.35-36(SDM),
ページ数 2
発行日 2020-11-25 (EID, SDM)