| 講演名 | 2020-11-20 ［招待講演］反応性力場分子動力学計算および量子化学計算を活用したCVD/ALD薄膜堆積機構の解析 徳増 崇(東北大), 上根 直也(東北大), 馬渕 拓哉(東北大), 財津 優(JAC), 安原 重雄(JAC), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | SDM2020-31 |
| 発行日 | 2020-11-12 (SDM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2020/11/19(から2日開催) |
| 開催地（和） | オンライン開催 |
| 開催地（英） | Virtual conference |
| テーマ（和） | プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 |
| テーマ（英） | Process, Device, Circuit simulation, etc. |
| 委員長氏名（和） | 平野 博茂(タワー パートナーズ セミコンダクター) |
| 委員長氏名（英） | Hiroshige Hirano(TowerPartners Semiconductor) |
| 副委員長氏名（和） | 大見 俊一郎(東工大) |
| 副委員長氏名（英） | Shunichiro Ohmi(Tokyo Inst. of Tech.) |
| 幹事氏名（和） | 森 貴洋(産総研) / 小林 伸彰(日大) |
| 幹事氏名（英） | Takahiro Mori(AIST) / Nobuaki Kobayashi(Nihon Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 野田 泰史(パナソニック) / 諏訪 智之(東北大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Taiji Noda(Panasonic) / Tomoyuki Suwa(Tohoku Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ［招待講演］反応性力場分子動力学計算および量子化学計算を活用したCVD/ALD薄膜堆積機構の解析 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | [Invited Talk] Analyses of CVD/ALD thin film deposition mechanism by reactive molecular dynamics simulation and quantum chemical calculation |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 徳増 崇 / Takashi Tokumasu |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 上根 直也 / Naoya Uene |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 馬渕 拓哉 / Takuya Mabuchi |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 財津 優 / Masaru Zaitsu |
| 第 4 著者 所属（和/英） | (株)ジャパン・アドバンスド・ケミカルズ(略称：JAC) Japan Advanced Chemicals(略称：JAC) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 安原 重雄 / Shigeo Yasuhara |
| 第 5 著者 所属（和/英） | (株)ジャパン・アドバンスド・ケミカルズ(略称：JAC) Japan Advanced Chemicals(略称：JAC) |
| 発表年月日 | 2020-11-20 |
| 資料番号 | SDM2020-31 |
| 巻番号（vol） | vol.120 |
| 号番号（no） | SDM-239 |
| ページ範囲 | pp.41-46(SDM), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2020-11-12 (SDM) |